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电化学沉积Ni_(x)O_(y)薄膜及电致变色性能研究进展
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作者 王美涵 周博阳 +2 位作者 高源 侯朝霞 张钧 《沈阳大学学报(自然科学版)》 CAS 2023年第3期185-191,共7页
围绕电化学沉积Ni_(x)O_(y)电致变色薄膜致色效率低、响应速度慢及循环稳定性差等问题,综述了电解液pH、电流密度和沉积时间等电化学沉积参数对Ni_(x)O_(y)薄膜性能的影响。重点阐述了掺杂改性、纳米结构设计和薄膜复合3种优化Ni_(x)O_... 围绕电化学沉积Ni_(x)O_(y)电致变色薄膜致色效率低、响应速度慢及循环稳定性差等问题,综述了电解液pH、电流密度和沉积时间等电化学沉积参数对Ni_(x)O_(y)薄膜性能的影响。重点阐述了掺杂改性、纳米结构设计和薄膜复合3种优化Ni_(x)O_(y)薄膜电致变色性能的方法。最后,对Ni_(x)O_(y)薄膜未来发展趋势进行了展望。 展开更多
关键词 Ni_(x)o_(y)薄膜 电化学沉积 沉积参数 性能优化 电致变色
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Bi_(26-x-y)M_(x)N_(y)O_(40)(M,N=Fe,Co,Gd)软铋矿薄膜的制备和强磁光效应
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作者 高腾 邢锟 +3 位作者 吴功辉 陈新 胡晓琳 庄乃锋 《人工晶体学报》 CAS 北大核心 2021年第9期1655-1661,共7页
磁光材料是现代光通信产业中不可或缺的关键功能材料。为了实现光通信器件的小型化,高质量磁光薄膜材料受到关注。软铋矿型Bi_(25)FeO_(40)具有高对称性的立方晶体结构,单位体积所含铋离子浓度高,理论上应具有较强的磁光效应,但却因为... 磁光材料是现代光通信产业中不可或缺的关键功能材料。为了实现光通信器件的小型化,高质量磁光薄膜材料受到关注。软铋矿型Bi_(25)FeO_(40)具有高对称性的立方晶体结构,单位体积所含铋离子浓度高,理论上应具有较强的磁光效应,但却因为磁性偏弱、制备困难等缺点而限制了其应用。本文采用射频磁控溅射法,在掺钇二氧化锆(YSZ)基底上沉积获得具有立方相软铋矿型结构的Bi_(26-x-y)M_(x)N_(y)O_(40)(M,N=Fe,Co,Gd)磁光薄膜,并对其形貌、磁性、透过率、磁圆二色信号等进行表征。结果表明,薄膜均较为平整,厚度约为190 nm,在近红外区的透过率约为60%~70%。薄膜的磁性随着掺杂离子含量的提高逐渐增强。Bi_(13.6)Gd_(2.7)Co_(4.0)Fe_(5.7)O_(40)/YSZ薄膜具有强磁光效应,在716 nm处的磁圆二色光谱信号高达到1710 deg/cm,有望应用于集成光隔离器等光通信器件中。 展开更多
关键词 磁光效应 磁圆二色光谱 Bi_(26-x-y)M_(x)N_(y)o_(40)薄膜 软铋矿 磁控溅射法 磁性质
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稀土含氧氢化物光致变色薄膜研究现状
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作者 李明 金平实 曹逊 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第21期329-343,共15页
光致变色材料作为一种自适应型智能材料,在智能窗户、光电传感器、光学存储等领域均有广泛的应用.稀土含氧氢化物(REH_(x)O_(y))薄膜作为一种新型光致变色材料,自发现以来,就以其高效可逆的变色性能、简单可重复的制备方法、快速的着褪... 光致变色材料作为一种自适应型智能材料,在智能窗户、光电传感器、光学存储等领域均有广泛的应用.稀土含氧氢化物(REH_(x)O_(y))薄膜作为一种新型光致变色材料,自发现以来,就以其高效可逆的变色性能、简单可重复的制备方法、快速的着褪色时间受到了大量的关注.本文基于近年来针对稀土含氧氢化物光致变色薄膜的结构组成、变色机理、性能调控的研究现状进行了综述.REH_(x)O_(y)薄膜可以响应紫外光和可见光的激发,对全光谱波段透过率进行大幅调节.光致变色机理可归类为晶格收缩机制、氧交换机制、局部金属相变、氢迁移机制4种解释.目前可以通过控制薄膜形貌、设计化学组分、提高衬底适配、多层膜结构设计等方式进行性能调控.最后对薄膜之后的研究重点进行了展望. 展开更多
关键词 光致变色材料 reh_(x)o_(y)薄膜 结构组成 机理分析 性能调控
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热处理对Mg-Gd-Y-Zr合金微观组织的影响
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作者 王浩宇 李海冉 高永浩 《金属热处理》 CAS CSCD 北大核心 2024年第5期94-99,共6页
对Mg-Gd-Y-Zr系合金在350℃下进行高温退火,并利用光学显微镜、扫描电镜和X射线衍射手段对退火过程中的表面氧化行为进行了系统表征。结果表明,退火过程中合金发生了显著的变化,Gd和Y元素沿初始晶界和合金表面聚集;样品发生不均匀氧化,... 对Mg-Gd-Y-Zr系合金在350℃下进行高温退火,并利用光学显微镜、扫描电镜和X射线衍射手段对退火过程中的表面氧化行为进行了系统表征。结果表明,退火过程中合金发生了显著的变化,Gd和Y元素沿初始晶界和合金表面聚集;样品发生不均匀氧化,即初始晶界的氧化速度高于晶粒内部;氧化膜主要成分为(Gd_(x),Y_(2-x))O_(3)。 展开更多
关键词 MG-GD-y-ZR合金 高温退火 (Gd_(x) y_(2-x))o_(3)氧化膜
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