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ZnO单晶薄膜光电响应特性 被引量:4
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作者 李瑛 冯士维 +4 位作者 杨集 张跃宗 谢雪松 吕长志 卢毅成 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期96-99,共4页
对采用MOCVD方法沉积的ZnO单晶薄膜的欧姆接触特性、光电特性进行了研究,并对比研究了射频溅射沉积Si O2抗反射膜对ZnO薄膜I-V、光电特性的影响.实验结果表明,非合金Al/ZnO金属体系与n型ZnO形成了良好的欧姆接触,溅射沉积Si O2在ZnO表... 对采用MOCVD方法沉积的ZnO单晶薄膜的欧姆接触特性、光电特性进行了研究,并对比研究了射频溅射沉积Si O2抗反射膜对ZnO薄膜I-V、光电特性的影响.实验结果表明,非合金Al/ZnO金属体系与n型ZnO形成了良好的欧姆接触,溅射沉积Si O2在ZnO表面引入了载流子陷阱,影响I-V特性,延长了光响应下降时间.ZnO单晶薄膜光电导也具有时间退化现象. 展开更多
关键词 单晶ZnO MOCVD光电响应 AR膜 rf溅射损伤
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