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类金刚石薄膜的反应离子刻蚀
被引量:
1
1
作者
吴卫东
陆晓曼
+4 位作者
张继成
朱永红
郭强
唐永建
孙卫国
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第6期570-574,共5页
为了刻蚀出图形完整、侧壁陡直、失真度小、独立的类金刚石薄膜微器件,反应离子刻蚀是一种有效地刻蚀方法。研究了氧气与氩气的混合气体进行类金刚石薄膜刻蚀的主要工艺参数(刻蚀时间、有无掩膜、氩氧体积混合比、负偏压)。研究结果表明...
为了刻蚀出图形完整、侧壁陡直、失真度小、独立的类金刚石薄膜微器件,反应离子刻蚀是一种有效地刻蚀方法。研究了氧气与氩气的混合气体进行类金刚石薄膜刻蚀的主要工艺参数(刻蚀时间、有无掩膜、氩氧体积混合比、负偏压)。研究结果表明:在相同条件下,刻蚀速率随刻蚀时间变化不大;有无掩膜对刻蚀速率无明显影响;流量一定时,刻蚀速率随氩氧体积比的增大而降低,随负偏压的增大先增大后减小。实验得到最佳刻蚀条件,在此条件下,刻蚀出图形完整、侧壁陡直、失真度小的微器件,并成功制备出"独立"的微齿轮,进行了组装。
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关键词
反应离子刻蚀
电子回旋共振微波反应等离子体
类金刚石薄膜
微齿轮
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职称材料
题名
类金刚石薄膜的反应离子刻蚀
被引量:
1
1
作者
吴卫东
陆晓曼
张继成
朱永红
郭强
唐永建
孙卫国
机构
中国工程物理研究院激光聚变研究中心
四川大学原子与分子研究所
四川大学物理科学与工程学院
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第6期570-574,共5页
基金
中国工程物理研究院重大基金项目资助(No.2005Z0805)
文摘
为了刻蚀出图形完整、侧壁陡直、失真度小、独立的类金刚石薄膜微器件,反应离子刻蚀是一种有效地刻蚀方法。研究了氧气与氩气的混合气体进行类金刚石薄膜刻蚀的主要工艺参数(刻蚀时间、有无掩膜、氩氧体积混合比、负偏压)。研究结果表明:在相同条件下,刻蚀速率随刻蚀时间变化不大;有无掩膜对刻蚀速率无明显影响;流量一定时,刻蚀速率随氩氧体积比的增大而降低,随负偏压的增大先增大后减小。实验得到最佳刻蚀条件,在此条件下,刻蚀出图形完整、侧壁陡直、失真度小的微器件,并成功制备出"独立"的微齿轮,进行了组装。
关键词
反应离子刻蚀
电子回旋共振微波反应等离子体
类金刚石薄膜
微齿轮
Keywords
rie
,
ecr(electron cyclotron resonance) plasma
,
dlc films
,
micro-gear
分类号
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
类金刚石薄膜的反应离子刻蚀
吴卫东
陆晓曼
张继成
朱永红
郭强
唐永建
孙卫国
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
1
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职称材料
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