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旋转横向磁场对电弧离子镀弧斑运动的影响
被引量:
2
1
作者
郎文昌
赵彦辉
+4 位作者
肖金泉
宫骏
孙超
于宝海
闻立时
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第3期316-322,共7页
研究了旋转横向磁场对电弧离子镀弧斑运动的影响规律,采用有限元分析软件FEMM对旋转横向磁场的分布进行了模拟,考察了不同频率(80~210Hz)及电磁线圈励磁电流对弧斑运动的影响。从电弧斑点放电的物理机制出发,探讨了不同频率和磁...
研究了旋转横向磁场对电弧离子镀弧斑运动的影响规律,采用有限元分析软件FEMM对旋转横向磁场的分布进行了模拟,考察了不同频率(80~210Hz)及电磁线圈励磁电流对弧斑运动的影响。从电弧斑点放电的物理机制出发,探讨了不同频率和磁场线圈电流对电弧离子镀弧斑运动的影响机制。结果表明,随着旋转横向磁场强度和频率的提高,使弧斑逐渐从聚集的斑点态(或者弱分散的团絮态)转变为大面积分布在靶面较强的分散弧斑絮线,最后转变为完全分布在整个靶面的强分散弧斑线,弧斑分裂强烈,产生的弧光等离子体更加均匀细腻。随着瞬态弧斑线在靶面分布面积的增加,弧压增加,弧电流密度急剧下降,靶材利用率达到85%以上。旋转横向磁场的应用,带来了弧斑大面积稳定放电、等离子离化率、密度及靶材利用率大幅度提高的多重效应。
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关键词
旋转横向磁场
电弧离子镀
有限元分析
阴极弧斑运动
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职称材料
题名
旋转横向磁场对电弧离子镀弧斑运动的影响
被引量:
2
1
作者
郎文昌
赵彦辉
肖金泉
宫骏
孙超
于宝海
闻立时
机构
中国科学院金属研究所材料表面工程研究部
中国科学院金属研究所专用材料与器件研究部
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第3期316-322,共7页
基金
国家自然科学基金项目(No.51171197)
文摘
研究了旋转横向磁场对电弧离子镀弧斑运动的影响规律,采用有限元分析软件FEMM对旋转横向磁场的分布进行了模拟,考察了不同频率(80~210Hz)及电磁线圈励磁电流对弧斑运动的影响。从电弧斑点放电的物理机制出发,探讨了不同频率和磁场线圈电流对电弧离子镀弧斑运动的影响机制。结果表明,随着旋转横向磁场强度和频率的提高,使弧斑逐渐从聚集的斑点态(或者弱分散的团絮态)转变为大面积分布在靶面较强的分散弧斑絮线,最后转变为完全分布在整个靶面的强分散弧斑线,弧斑分裂强烈,产生的弧光等离子体更加均匀细腻。随着瞬态弧斑线在靶面分布面积的增加,弧压增加,弧电流密度急剧下降,靶材利用率达到85%以上。旋转横向磁场的应用,带来了弧斑大面积稳定放电、等离子离化率、密度及靶材利用率大幅度提高的多重效应。
关键词
旋转横向磁场
电弧离子镀
有限元分析
阴极弧斑运动
Keywords
rtmf
Arc ion plating
Finite element analysis
Cathode spot movement
分类号
TB43 [一般工业技术]
TG174.4 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
旋转横向磁场对电弧离子镀弧斑运动的影响
郎文昌
赵彦辉
肖金泉
宫骏
孙超
于宝海
闻立时
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015
2
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职称材料
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