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气相扩镓的杂质Rs效应分析
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作者 刘秀喜 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1994年第3期24-27,共4页
在确定的开管扩镓装置中,以氢气做为镓源Ga_2O_3的反应和输运气体,凭借准确的控制扩散条件,镓在SiO_2/Si系统中扩散,可获得良好的扩散均匀性和重复性。根据镓在Si和SiO_2中扩散行为,分析讨论了镓在裸Si系... 在确定的开管扩镓装置中,以氢气做为镓源Ga_2O_3的反应和输运气体,凭借准确的控制扩散条件,镓在SiO_2/Si系统中扩散,可获得良好的扩散均匀性和重复性。根据镓在Si和SiO_2中扩散行为,分析讨论了镓在裸Si系和SiO_2/Si系扩散所产生的杂质R_s效应,及其氧化膜质量和厚度对R_s的影响。 展开更多
关键词 杂质 rs效应 氧化膜质量 气相扩镓
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镓杂质R_S效应的研究与分析 被引量:1
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作者 孙瑛 刘志军 刘秀喜 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期104-108,共5页
在确定的开管扩镓装置中 ,以氢气作为镓源 Ga2 O3的反应和输运气体 ,凭借准确地控制扩散条件 ,控制 Ga在Si O2 / Si系统中扩散 ,可获得良好的杂质 RS效应 .根据 Ga在 Si和 Si O2 中的扩散行为 ,研究和分析了镓在裸 Si系和 Si O2 / Si系... 在确定的开管扩镓装置中 ,以氢气作为镓源 Ga2 O3的反应和输运气体 ,凭借准确地控制扩散条件 ,控制 Ga在Si O2 / Si系统中扩散 ,可获得良好的杂质 RS效应 .根据 Ga在 Si和 Si O2 中的扩散行为 ,研究和分析了镓在裸 Si系和 Si O2 / Si系扩散所产生的杂质 RS效应机理 ,及其热氧化、氧化膜质量和厚度对 展开更多
关键词 杂质rs效应 裸Si系 SiO2/Si系 氧化膜
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飞行器姿态对CMOS航空相机成像的影响 被引量:11
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作者 万磊 贾平 +1 位作者 张叶 修吉宏 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第1期203-209,共7页
为了消除CMOS航空相机高速成像时存在的卷帘快门(RS)效应对成像质量的影响,建立了在任意姿态角下计算CMOS相机RS效应的数学模型。通过分析CMOS成像原理,利用坐标变换法求得像面上任意像素点的速度。在分析卷帘快门原理的基础上推导出了R... 为了消除CMOS航空相机高速成像时存在的卷帘快门(RS)效应对成像质量的影响,建立了在任意姿态角下计算CMOS相机RS效应的数学模型。通过分析CMOS成像原理,利用坐标变换法求得像面上任意像素点的速度。在分析卷帘快门原理的基础上推导出了RS效应的解析式。利用蒙特卡洛统计方法分析模型精度,对模型关键参数进行了仿真实验,并讨论了帧间延迟和姿态角对RS效应的影响。实验结果显示:在高度测量误差小于0.09km,速度测量误差小于0.3km/h,姿态角测量误差小于0.02°时,该模型的精度在1/3个像元以内。得到的结果证明了本文模型的有效性。该模型可作为定量分析大面阵CMOS相机RS效应的理论依据,对CMOS传感器在航空相机领域的应用有指导作用。 展开更多
关键词 CMOS航空相机 成像系统 卷帘快门(rs)效应 误差分析 飞行器姿态 姿态角
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