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Rubbing Mura产生机理及改善研究
被引量:
5
1
作者
杨德波
王云志
+3 位作者
陶雄
李伟
钟野
罗春
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2018年第6期469-474,共6页
Rubbing Mura是以接触式摩擦工艺生产TFT_LCD产品时常见的顽固缺陷,尤其在HADS产品上不良发生率更高。本文对Rubbing Mura产生的原因及机理进行分析,发现该不良由TFT基板上的源极线(Source Data,SD)附近的Rubbing弱区漏光引起。研究了Ru...
Rubbing Mura是以接触式摩擦工艺生产TFT_LCD产品时常见的顽固缺陷,尤其在HADS产品上不良发生率更高。本文对Rubbing Mura产生的原因及机理进行分析,发现该不良由TFT基板上的源极线(Source Data,SD)附近的Rubbing弱区漏光引起。研究了Rubbing强度(Nip值)、Rubbing布型号、Rubbing布寿命、黑矩阵(Black Matrix,BM)加宽和SD减薄对HADS产品的Rubbing Mura的影响,选择最优的工艺条件,Rubbing Mura的不良发生率由2.4%降至0%,改善效果明显。
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关键词
rubbing
Mura
HADS产品
rubbing弱区
工艺条件
下载PDF
职称材料
题名
Rubbing Mura产生机理及改善研究
被引量:
5
1
作者
杨德波
王云志
陶雄
李伟
钟野
罗春
机构
重庆京东方光电科技有限公司
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2018年第6期469-474,共6页
文摘
Rubbing Mura是以接触式摩擦工艺生产TFT_LCD产品时常见的顽固缺陷,尤其在HADS产品上不良发生率更高。本文对Rubbing Mura产生的原因及机理进行分析,发现该不良由TFT基板上的源极线(Source Data,SD)附近的Rubbing弱区漏光引起。研究了Rubbing强度(Nip值)、Rubbing布型号、Rubbing布寿命、黑矩阵(Black Matrix,BM)加宽和SD减薄对HADS产品的Rubbing Mura的影响,选择最优的工艺条件,Rubbing Mura的不良发生率由2.4%降至0%,改善效果明显。
关键词
rubbing
Mura
HADS产品
rubbing弱区
工艺条件
Keywords
rubbing
Mura
super dimension switch production
weak zone of
rubbing
process conditions
分类号
TN141.9 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Rubbing Mura产生机理及改善研究
杨德波
王云志
陶雄
李伟
钟野
罗春
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2018
5
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