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Rubrene/TPD表面及其界面的AFM和XPS研究
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作者 冷重钱 李海蓉 +1 位作者 李尧 高鹏杰 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第A02期349-352,共4页
在indium-tin-oxide(ITO)玻璃上采用多源蒸发的方法制备了红荧烯(Rubrene)/TPD样品。由原子力显微镜(AFM)得到的表面形貌图显示Rubrene膜具有良好的均匀性。利用X射线光电子能谱仪(XPS)研究了两种材料表面和界面的电子态。由Rubrene/TP... 在indium-tin-oxide(ITO)玻璃上采用多源蒸发的方法制备了红荧烯(Rubrene)/TPD样品。由原子力显微镜(AFM)得到的表面形貌图显示Rubrene膜具有良好的均匀性。利用X射线光电子能谱仪(XPS)研究了两种材料表面和界面的电子态。由Rubrene/TPD的表面分析可知,C1s精细谱中有3个峰最强的峰是由氧化造成的,而不是对应于芳香碳(284.55eV)。空气中的O2和H2O扩散到样品里形成O1s峰。用氩离子束溅射剥蚀表面,随着时间的增长,芳香碳对应的峰越来越强,282.45和289.62eV处的峰则迅速消失,当溅射时间超过4920s时,在2847eV处引入了一个新的峰,对应于C—N键。O1s峰迅速减弱是因为氧沾污的去除。N1s谱中的N—C键缓慢增强,到达界面附近时峰的强度变得稳定。C1sN1s和O1s谱中都有峰发生化学位移。 展开更多
关键词 AFM XPS rubrene/tpd表面及其界面 化学位移
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