基于灰色模型的CMP过程免疫预测R2R控制

针对化学机械研磨(chemical mechanical polishing,CMP)过程非线性、时变、产品质量不能在线测量的特性,为了提高CMP过程R2R(Rum-to-Run)控制的精度,提出了一种基于灰色模型和克隆选择免疫算法的CMP过程R2R预测控制器GI-PR2R。通过离线测量获得历史批次少量数据,构建CMP过程的在线灰色GM(1,N)预测模型,解决了复杂CMP过程难以建立精确数学模型的难题提高了预测模型的精度。通过基于克隆选择免疫算法的CMP过程预测控制的滚动优化,避免了基于导数的优化技术易陷入局部最优的问题,进而提高了控制精度。仿真结果表明,CMP过程GIPR2R控制器的控制精度优于EWMA(exponentially weighted moving average)方法,有效抑制了过程漂移,减小了不同批次间产品的差异,材料去除率(material removalrate,MRR)的均方根误差在总批次与控制目标不同这2种情况下分别降低了18.09%和16.84%。

火电机组RUN BACK试验的研究

介绍了RUN BACK试验的内容、方法、步骤和综合评价,并重点探讨了RUN BACK试验方案的选择和参数设置的优化。

火力发电机组RUNBACK试验研究

尽管近年来新投产的大机组的 DCS控制逻辑中都设计有机组快减负荷 (RUN BACK,以下简称 RB)功能 ,但真正做 RB试验的机组很少。为此通过对某进口 3 5 0 MW机组在协调控制方式下进行机组快减负荷的成功试验 ,介绍了有关的逻辑设计、试验应具备的条件和试验的过程 ,并分析了试验的结果 ,讨论了机组 RB控制逻辑的设计中应注意的问题 ,并给出了改进意见。

半导体制造过程中的先进控制技术

随着晶圆日趋增大和关键尺寸的不断缩小,半导体制造过程的质量实时控制变得越来越重要。在分析半导体制造过程的动态特性、模型辨识、扰动来源及特征、量测方法及控制要求的基础上,从机台级控制、产品级控制和厂级控制三个方面综合评价了目前可用的控制技术以及各类Run-to-run算法设计及特点。最后指出了半导体制造过程在量测、建模和控制设计等方面所取得的研究进展以及面临的挑战性问题。

APC技术在刻蚀工艺过程控制中的研究进展

APC是一个多层次的控制系统,其包含了实时的设备及工艺控制和非实时的RtR控制。APC引入等离子体刻蚀过程控制可极大提高等离子刻蚀机的使用效率和产品成品率,适应当前深亚微米半导体工艺技术发展的需求。针对等离子体刻蚀机及其刻蚀工艺过程控制的需求,本文分别从实时控制和RtR控制两个不同层次展开了论述,讨论了APC技术的发展趋势。

双圆弧优化算法的足球机器人路径规划

根据双圆弧数据逼近方法,提出一种足球机器人路径规划算法,弥补机器人小车到达定点常用Turn-Run-Turn方法及模糊控制(PID)方法存在的不足.利用由分段圆弧曲线连接而成的双圆弧,具有满足任意端点及其斜率特性要求的特性,解决机器人小车到达目标点位置和姿态的运动过程中遇到障碍物及保持最佳姿态的路径规划问题.最后,利用复合形法,求解障碍物约束条件下的非完整移动机器人路径规划问题,并进行运动路径寻优.结果表明,该方法简单有效,对机器人初始条件不加限制,计算量非常小.

基于Access平台的起重机电气计算机辅助设计

介绍在Access平台运用SQL数据库语句实施起重机电气计算机辅助设计程序的过程和方法,按起重机机构的控制方法建立相应的计算机辅助设计标准模块。完成以功能模块标准图纸为基准的起重机各机构的电气设计。在起重机投标时可以迅速输出电气设备汇总表,计算出电气设备的正确的成本价格。在起重机设计时可以迅速输出以标准功能模块为基础的标准电气图纸和电气元件表。

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神庙逃亡2 Temple Run 2 《神庙逃亡2》是超人气跑酷手机游戏《神庙逃亡》的续作，iOS版和Android均已发布。挥击转弯、跳跃、滑动躲过障碍物，收集硬币，通过简单的挥击和倾斜控制，身兼转弯、跳跃、滑动、倾斜多种武艺。它在玩法上与前作没有任何区别，如果是从神庙逃亡过渡到新版的玩家，几乎不需要任何时间进行新手教导和适应。