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偏心Bridgman-Hg_(1-x)Cd_xTe晶体生长S-L界面形状的数值模拟
被引量:
2
1
作者
王培林
邓开举
+1 位作者
张国艳
周士仁
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第1期16-20,共5页
用三维数值模拟方法研究了偏心Bridgman-Hg1-xCdxTe晶体生长系统S-L界面附近的温度分布.考察了偏心程度、安瓿与炉膛直径相对大小以及炉膛温度分布等对倾斜S-L界面的影响情况.结果表明,偏心温度场可提高晶...
用三维数值模拟方法研究了偏心Bridgman-Hg1-xCdxTe晶体生长系统S-L界面附近的温度分布.考察了偏心程度、安瓿与炉膛直径相对大小以及炉膛温度分布等对倾斜S-L界面的影响情况.结果表明,偏心温度场可提高晶片上一较大区域内的横向组分均匀性.ψ=0。
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关键词
晶体生长
BRIDGMAN法
HGCDTE
s-l界面
下载PDF
职称材料
题名
偏心Bridgman-Hg_(1-x)Cd_xTe晶体生长S-L界面形状的数值模拟
被引量:
2
1
作者
王培林
邓开举
张国艳
周士仁
机构
哈尔滨工业大学控制工程系
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第1期16-20,共5页
文摘
用三维数值模拟方法研究了偏心Bridgman-Hg1-xCdxTe晶体生长系统S-L界面附近的温度分布.考察了偏心程度、安瓿与炉膛直径相对大小以及炉膛温度分布等对倾斜S-L界面的影响情况.结果表明,偏心温度场可提高晶片上一较大区域内的横向组分均匀性.ψ=0。
关键词
晶体生长
BRIDGMAN法
HGCDTE
s-l界面
Keywords
Cadmium compounds
Computer simulation
Interfaces (materials)
Intermetallics
Mercury compounds
Semiconductor materials
分类号
O78 [理学—晶体学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
偏心Bridgman-Hg_(1-x)Cd_xTe晶体生长S-L界面形状的数值模拟
王培林
邓开举
张国艳
周士仁
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996
2
下载PDF
职称材料
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