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偏心Bridgman-Hg_(1-x)Cd_xTe晶体生长S-L界面形状的数值模拟 被引量:2
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作者 王培林 邓开举 +1 位作者 张国艳 周士仁 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第1期16-20,共5页
用三维数值模拟方法研究了偏心Bridgman-Hg1-xCdxTe晶体生长系统S-L界面附近的温度分布.考察了偏心程度、安瓿与炉膛直径相对大小以及炉膛温度分布等对倾斜S-L界面的影响情况.结果表明,偏心温度场可提高晶... 用三维数值模拟方法研究了偏心Bridgman-Hg1-xCdxTe晶体生长系统S-L界面附近的温度分布.考察了偏心程度、安瓿与炉膛直径相对大小以及炉膛温度分布等对倾斜S-L界面的影响情况.结果表明,偏心温度场可提高晶片上一较大区域内的横向组分均匀性.ψ=0。 展开更多
关键词 晶体生长 BRIDGMAN法 HGCDTE s-l界面
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