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分子束外延生长轻掺杂SiGaAs的光致发光
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作者 师庆华 《液晶与显示》 CAS CSCD 1990年第4期30-33,共4页
用具有调制源的分子束外延(MBE)轻掺杂Si生长出GaAs层,并利用低温光致发光测定了它的特性。在光致发光光谱的近带边区观察到了自由激子和束缚激子发射。与杂质有关的发射在光谱特性上发生改变,这可归因于MBE生长中Si分子束的调制发生了... 用具有调制源的分子束外延(MBE)轻掺杂Si生长出GaAs层,并利用低温光致发光测定了它的特性。在光致发光光谱的近带边区观察到了自由激子和束缚激子发射。与杂质有关的发射在光谱特性上发生改变,这可归因于MBE生长中Si分子束的调制发生了变化。在MBE生长过程中,根据提供As源期间内供Si的时间,掺入的硅原子既可成为施主,也可成为受主。通过改变供Si时间,在定域格位上完成了Si掺杂。 展开更多
关键词 光致发光 sigaas 分子束外延生长 带边 束缚激子 光谱特性 格位 电子跃迁 硅原子 半导体材料
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SIGaAs中S^+注入的掺杂特性
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作者 夏冠群 关安民 《科技通讯(上海船厂)》 1989年第2期4-7,27,共5页
关键词 sigaas材料 S^+ 掺杂特性
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Double Donor Behavior of EL2 Defect in Photoquenching Experiment
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作者 周滨 杨锡权 王占国 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 1998年第2期50-54,共5页
The double donor behavior of EL2 defect in SIGaAs was demonstrated by the photoquenching experiment. The experimental method proposed in this work can be used to measure the electrical compensation ratio and estimate ... The double donor behavior of EL2 defect in SIGaAs was demonstrated by the photoquenching experiment. The experimental method proposed in this work can be used to measure the electrical compensation ratio and estimate the thermal stability of the material. 展开更多
关键词 sigaas EL2 Photoquenching Compensation ratio
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