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SIPOS/Si异质结特性的研究
1
作者
曹广军
徐彦忠
《微电子学》
CAS
CSCD
1996年第2期116-118,共3页
采用红外吸收光谱分析了SIPOS薄膜中Si-O键的结构,对比分析了热退火和快速灯光退火对SIPOS中Si-O键结构的影响,并结合SIPOS/Si结构的C-V、I-V测试结果,对该结构的异质结特性进行了分析。
关键词
sipos膜
热退火
异质结构
半绝缘
多晶硅
下载PDF
职称材料
SIPOS障的结构织成
2
作者
谭凌
雷沛云
梁骏吾
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995年第12期890-896,共7页
采用常压化学气相淀积(APCVD)方法,生长了不同氧含量的SIPOS(半绝缘含氧多晶硅)膜,研究了SIPOS膜的结构组成.SIPOS膜是微晶,多晶和非晶共存的结构,其晶态物中含有缺氧的α-Cristobalite(方...
采用常压化学气相淀积(APCVD)方法,生长了不同氧含量的SIPOS(半绝缘含氧多晶硅)膜,研究了SIPOS膜的结构组成.SIPOS膜是微晶,多晶和非晶共存的结构,其晶态物中含有缺氧的α-Cristobalite(方石英)结构.膜中含氧量可变,以SiOx(x<2)表示,随着氧含量的增加或减少,其结构向非晶或多晶方向移动.膜中氧原子分布不均匀,局部有氧原子微区集中或缺少现象,使X=0或1或2.
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关键词
sipos膜
硅
APVCD法
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职称材料
一种高压平面闸流管器件及其制作方法
3
《高科技纤维与应用》
CAS
2018年第1期61-61,共1页
本发明公开了一种高压平面闸流管器件,包括N型FZ硅片,N型FZ硅片的背面设有PWELL区,PWELL区的背面设有阳极电极,N型FZ硅片的四周环设有P型隔离区,N型FZ硅片的正面通过SIPOS膜对称设有玻璃钝化区,玻璃钝化区的正面设有聚酰亚胺保护...
本发明公开了一种高压平面闸流管器件,包括N型FZ硅片,N型FZ硅片的背面设有PWELL区,PWELL区的背面设有阳极电极,N型FZ硅片的四周环设有P型隔离区,N型FZ硅片的正面通过SIPOS膜对称设有玻璃钝化区,玻璃钝化区的正面设有聚酰亚胺保护膜,玻璃钝化区与N型FZ硅片之间设有分压环和截止环,N型FZ硅片的上部、位于玻璃钝化区内缘之间的部分设有短基区,短基区的上部设有NWELL区,NWELL区的正面设有阴极电极,短基区正面的一侧与钝化玻璃区之间设有门极电极。本发明采用穿通隔离、分压环、场板及多层钝化制作出高工作电压的平面闸流管器件,工艺简单,器件的高温漏电小,可靠性高,失效率更低。
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关键词
闸流管
器件
平面
制作
高压
sipos膜
钝化区
聚酰亚胺
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职称材料
题名
SIPOS/Si异质结特性的研究
1
作者
曹广军
徐彦忠
机构
华中理工大学固体电子学系
出处
《微电子学》
CAS
CSCD
1996年第2期116-118,共3页
文摘
采用红外吸收光谱分析了SIPOS薄膜中Si-O键的结构,对比分析了热退火和快速灯光退火对SIPOS中Si-O键结构的影响,并结合SIPOS/Si结构的C-V、I-V测试结果,对该结构的异质结特性进行了分析。
关键词
sipos膜
热退火
异质结构
半绝缘
多晶硅
Keywords
Semiconductor material
sipos
film
Thermal annealing
Heterostructure
分类号
TN304.9 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
SIPOS障的结构织成
2
作者
谭凌
雷沛云
梁骏吾
机构
中国科学院半导体研究所
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995年第12期890-896,共7页
基金
国家自然科学基金
文摘
采用常压化学气相淀积(APCVD)方法,生长了不同氧含量的SIPOS(半绝缘含氧多晶硅)膜,研究了SIPOS膜的结构组成.SIPOS膜是微晶,多晶和非晶共存的结构,其晶态物中含有缺氧的α-Cristobalite(方石英)结构.膜中含氧量可变,以SiOx(x<2)表示,随着氧含量的增加或减少,其结构向非晶或多晶方向移动.膜中氧原子分布不均匀,局部有氧原子微区集中或缺少现象,使X=0或1或2.
关键词
sipos膜
硅
APVCD法
Keywords
Film growth
Insulating materials
Structure (composition)
分类号
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
一种高压平面闸流管器件及其制作方法
3
出处
《高科技纤维与应用》
CAS
2018年第1期61-61,共1页
文摘
本发明公开了一种高压平面闸流管器件,包括N型FZ硅片,N型FZ硅片的背面设有PWELL区,PWELL区的背面设有阳极电极,N型FZ硅片的四周环设有P型隔离区,N型FZ硅片的正面通过SIPOS膜对称设有玻璃钝化区,玻璃钝化区的正面设有聚酰亚胺保护膜,玻璃钝化区与N型FZ硅片之间设有分压环和截止环,N型FZ硅片的上部、位于玻璃钝化区内缘之间的部分设有短基区,短基区的上部设有NWELL区,NWELL区的正面设有阴极电极,短基区正面的一侧与钝化玻璃区之间设有门极电极。本发明采用穿通隔离、分压环、场板及多层钝化制作出高工作电压的平面闸流管器件,工艺简单,器件的高温漏电小,可靠性高,失效率更低。
关键词
闸流管
器件
平面
制作
高压
sipos膜
钝化区
聚酰亚胺
分类号
TN248.21 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
SIPOS/Si异质结特性的研究
曹广军
徐彦忠
《微电子学》
CAS
CSCD
1996
0
下载PDF
职称材料
2
SIPOS障的结构织成
谭凌
雷沛云
梁骏吾
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995
0
下载PDF
职称材料
3
一种高压平面闸流管器件及其制作方法
《高科技纤维与应用》
CAS
2018
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
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