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SIPOS/Si异质结特性的研究
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作者 曹广军 徐彦忠 《微电子学》 CAS CSCD 1996年第2期116-118,共3页
采用红外吸收光谱分析了SIPOS薄膜中Si-O键的结构,对比分析了热退火和快速灯光退火对SIPOS中Si-O键结构的影响,并结合SIPOS/Si结构的C-V、I-V测试结果,对该结构的异质结特性进行了分析。
关键词 sipos膜 热退火 异质结构 半绝缘 多晶硅
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SIPOS障的结构织成
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作者 谭凌 雷沛云 梁骏吾 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第12期890-896,共7页
采用常压化学气相淀积(APCVD)方法,生长了不同氧含量的SIPOS(半绝缘含氧多晶硅)膜,研究了SIPOS膜的结构组成.SIPOS膜是微晶,多晶和非晶共存的结构,其晶态物中含有缺氧的α-Cristobalite(方... 采用常压化学气相淀积(APCVD)方法,生长了不同氧含量的SIPOS(半绝缘含氧多晶硅)膜,研究了SIPOS膜的结构组成.SIPOS膜是微晶,多晶和非晶共存的结构,其晶态物中含有缺氧的α-Cristobalite(方石英)结构.膜中含氧量可变,以SiOx(x<2)表示,随着氧含量的增加或减少,其结构向非晶或多晶方向移动.膜中氧原子分布不均匀,局部有氧原子微区集中或缺少现象,使X=0或1或2. 展开更多
关键词 sipos膜 APVCD法
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一种高压平面闸流管器件及其制作方法
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《高科技纤维与应用》 CAS 2018年第1期61-61,共1页
本发明公开了一种高压平面闸流管器件,包括N型FZ硅片,N型FZ硅片的背面设有PWELL区,PWELL区的背面设有阳极电极,N型FZ硅片的四周环设有P型隔离区,N型FZ硅片的正面通过SIPOS膜对称设有玻璃钝化区,玻璃钝化区的正面设有聚酰亚胺保护... 本发明公开了一种高压平面闸流管器件,包括N型FZ硅片,N型FZ硅片的背面设有PWELL区,PWELL区的背面设有阳极电极,N型FZ硅片的四周环设有P型隔离区,N型FZ硅片的正面通过SIPOS膜对称设有玻璃钝化区,玻璃钝化区的正面设有聚酰亚胺保护膜,玻璃钝化区与N型FZ硅片之间设有分压环和截止环,N型FZ硅片的上部、位于玻璃钝化区内缘之间的部分设有短基区,短基区的上部设有NWELL区,NWELL区的正面设有阴极电极,短基区正面的一侧与钝化玻璃区之间设有门极电极。本发明采用穿通隔离、分压环、场板及多层钝化制作出高工作电压的平面闸流管器件,工艺简单,器件的高温漏电小,可靠性高,失效率更低。 展开更多
关键词 闸流管 器件 平面 制作 高压 sipos膜 钝化区 聚酰亚胺
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