铝电解电容器用不同工艺腐蚀箔的对比研究

利用金相显微镜分析软质交流腐蚀箔、直交流腐蚀箔及硬质交流腐蚀箔的表面及断面蚀孔形貌,监测腐蚀箔恒电流阳极氧化过程中的升压曲线,并测试腐蚀箔阳极氧化后的比容、漏电流、抗拉强度及折弯次数。结果表明,软质交流腐蚀箔的蚀孔形貌呈灌木状;直-交流腐蚀箔的蚀孔呈乔木和灌木状分布,蚀孔中有部分大而稀疏的隧道孔,扩面倍率最小;而硬质交流腐蚀箔的蚀孔呈蜂窝状,孔洞细密,扩面倍率最大。直-交流腐蚀箔的漏电流最小,硬质交流腐蚀箔的抗拉强度及折弯次数最大。

三种氟化物增强乳牙釉质抵抗饮料酸蚀和再矿化作用的研究

目的观察三种氟化物处理后的乳牙釉质表面抵抗软饮料酸蚀及促进受损牙釉质再矿化的能力。方法应用显微硬度仪和扫描电镜,观测分别用NaF溶液、氟保护剂、双氟脱敏剂处理后再经饮料浸泡的乳牙釉质表面的显微硬度值(surfacemicrohardness,SMH)及形态的变化。结果饮料浸泡后,各组乳牙釉质的SMH均有明显降低;氟化物处理组的釉质SMH降低的程度明显低于对照组(P<0.001);氟保护剂和双氟脱敏剂组釉质SMH的降低无显著性差异,而低于单纯的NaF溶液组;扫描电镜可见釉质表面有不同程度的溶解。饮料侵蚀后又经氟化物再矿化的乳牙,釉质SMH明显增加,其中双氟脱敏剂组的釉质SMH增加最明显。结论釉质表面应用氟化物,能明显增强乳牙釉质抵抗软饮料酸蚀,并能促进受损牙釉质的再矿化修复能力,其中双氟脱敏剂的作用最明显。

微流控分析芯片的加工技术

综述了微流控分析芯片的加工技术和材质性能。光刻和蚀刻技术常用于加工硅、玻璃和石英芯片。有机聚合物由于品种多、易加工 ,是代替玻璃和石英的芯片材料。本文总结和讨论了各种芯片材料和它们的加工方法 ,如光刻、湿法刻蚀、干法刻蚀、模塑法、软刻蚀、热压法、激光切蚀法、LIGA技术和键合技术。引用文献

微米-纳米微结构纯钛表面的细胞及分子生物学研究

目的:研究兼具微米和纳米形貌的纯钛表面微结构对成骨细胞生物学行为的影响。方法:通过电化学方法在纯钛表面形成直径约30-50μm,深度约10-20μm的均匀"碗形凹"样结构,内含直径约8-10μm微米凹和2-4μm的微米孔,以及大量的纳米凹、纳米孔和纳米台阶等微结构。将成骨细胞分别接种于微米-纳米纯钛表面、喷砂加酸蚀表面及机械表面,后两组作为对照,进行体外共同培养。采用MTT法评价细胞在第1d、3d、5d和7d的细胞增殖率;计算细胞在接种1h、2h、6h、12h和24h后的贴壁率;采用场发射扫描电镜观察第1d、3d、5d细胞形态变化,并对第1d、3d、5d和7d时细胞碱性磷酸酶功能活性进行检测。采用RT-PCR方法测定成骨细胞的骨相关基因COLLI、OPN、OCN、RUNX2的表达。结果:成骨细胞在微米-纳米纯钛表面的细胞增殖率、贴壁率、碱性磷酸酶活性检测值均高于对照组,差异有显著性。扫描电镜观察细胞在微米-纳米纯钛表面呈多边形,充分伸展,形成扁宽的伪足牢固附着于微米及纳米微结构表面;喷砂加酸蚀表面主要为梭形;机械表面成骨细胞呈球形及梭形。电解蚀刻表面的骨相关基因COLLI、OPN、OCN、RUNX2表达明显高于喷砂加酸蚀表面及机械表面,差异有显著性。结论:兼具微米-纳米微结构的纯钛表面能促进体外成骨细胞的粘附、伸展、增殖、分化功能及骨相关基因COLLI、OPN、OCN、RUNX2的表达,对表面成骨具有积极的影响。

不同钛合金表面形貌对成纤维细胞生物学行为的影响

目的：比较3种不同钛合金表面形貌对成纤维细胞生物学行为的影响。方法：通过机械加工法（M组）、直流电解蚀刻法（DC 组）、交流电解蚀刻法（AC 组）成形3种不同钛合金表面形貌，制备标准大小试件，使用场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）观察其表面微观形态，将 L929成纤维细胞共同培养于钛合金表面，吖啶橙染色法检测初期粘附性；MTT 法检测表面细胞的增殖情况。结果：DC 组钛表面可见直径5～20μm 微孔，AC 组微孔分布更均匀，M组表面可见微沟纹，无微孔。细胞在3组钛片表面粘附良好，AC 组优于 DC 组和 M组。DC 组和 AC 组细胞增殖性优于 M组，第3～5天 AC 组细胞增殖性优于 DC组。结论：通过交流电解蚀刻法形成的兼具微米-亚微米-纳米三级结构的钛合金表面具有良好的生物相容性，能够促进成纤维细胞的早期附着及增殖。

软膜紫外光固化纳米压印中Amonil光刻胶的刻蚀参数优化(英文)

报道了反应离子刻蚀转移图形过程中对Amonil光刻胶的刻蚀参数优化的结果.利用软膜紫外光固化纳米压印技术,首先制备了线宽/间距均为200 nm的纳米光栅结构.然后采用反应离子刻蚀的方法去除残留的Amonil光刻胶.研究了不同的气体组成、射频功率、压强和气体流量对刻蚀形貌、表面粗糙度以及刻蚀速度的影响.在优化的工艺条件下,获得了理想的具有垂直侧壁形貌和较小表面粗糙度的纳米光栅阵列.结果表明,选择优化的刻蚀工艺参数,既能有效地改善图形转移的性能,同时也能提高所制备结构的光学应用特性.

基于高级硅刻蚀和硅氧化工艺的软X射线干涉光刻分束光栅的优化设计

基于严格的矢量耦合波方法,对13.4nm(92.5eV)软X射线正入射于周期140nm的Si光栅和SiO2光栅的一级衍射效率进行了模拟计算,结果表明SiO2光栅的最大一级衍射效率远比Si光栅高,同时也比目前用于13.4nm软X射线干涉光刻的Cr/Si3N4复合光栅高。本文提出用高级硅刻蚀工艺和硅氧化工艺制作深高宽比纳米级SiO2光栅的新方法,可以解决直接刻蚀制作此光栅难度大的问题,适用于制作上海光源(SSRF)软X射线干涉光刻分束光栅。

不同钛表面形貌对人牙龈成纤维细胞附着及胶原沉积的影响

目的:探讨3种不同表面形貌对人牙龈成纤维细胞的附着及胶原产生及沉积的影响。方法:采用机械加工(M),电化学腐蚀(ECE),电化学腐蚀加酸蚀(ECA)在纯钛金属试件表面形成3种不同的表面形貌结构(n=27);扫描电子显微镜观察试件表面的微观形态、激光共聚焦扫描显微镜检测表面粗糙度。将人牙龈成纤维细胞培养于试件表面;测定细胞分离率比较细胞对3组表面的附着;天狼星红染色实验检测胶原相对沉积量、激光共聚焦扫面显微镜观察表面胶原沉积与排列。结果:M、ECE和ECA组表面粗糙度(μm)分别为0.867 5±0.136 8、1.749 8±0.355 1和1.671 4±0.297 0(P<0.05)。M组细胞分离率最高,ECA组最低,ECE组介于二者之间。M组细胞培养前期沉积的胶原量较其他2组多,后期与ECA组的胶原沉积无明显差异,而较ECE组明显升高。M组胶原沉积显示为致密、狭长、平行的排列;ECE组表面出现较密集且多向性的胶原纤维排列,但表面胶原沉积较薄,未被胶原覆盖的表面所占比例较高;ECA组表面胶原沉积与ECE组具有相似的多向性,胶原沉积较ECE组更厚实致密,胶原排列比ECE组更长,与M组表面相似。结论:电化学腐蚀加酸蚀的钛表面有利于牙龈成纤维细胞附着,而机械法处理的利于胶原沉积。

VDMOSFET低导通电阻改良研究

文章通过对VDMOSFET导通电阻模型的分析,结合VDMOSFET芯片生产过程中用到的等离子刻蚀工艺理论,探索通过优化刻蚀工艺以改善VDMOSFET器件导通电阻的途径。文中以实际VDMOSFET生产的引线孔刻蚀工艺为例,阐述了通过SOFT-ETCH工艺,改善接触孔表面损伤以达到降低VDMOSFET导通电阻的实现方法,通过详实的实验数据对比,证实SOFE-ETCH工艺对导通电阻的改良作用。

测量界面软铬层力学性质的纳米压入法

为了测量双层铬的界面软铬层力学性质,提出了化学腐蚀基体法,通过溶解掉基体制备没有基体支撑的自由铬层,将在横截面内线状显示的界面转化为界面表面(铬层与基体相连接的面),避免了横截面不能显示界面表面的缺点。对界面表面进行纳米压入实验和借助于表征薄膜力学性质的表面压入能量法,测得了描述界面软铬层力学性质的弹性模量和压入弹、塑性功等参数。

软X射线显微术Si_3N_4薄膜窗口的研制

介绍了在软Ｘ－射线显微术研究领域中有重要应用的Ｓｉ_３Ｎ_４薄膜窗口的实验室制作方法，并形成一套独特制备工艺，Ｓｉ_３Ｎ_４薄膜窗口的研制成功推动了我国软Ｘ射线显微术研究的发展。

软X射线偏折仪用自支撑莫尔光栅研制

介绍了莫尔光栅制作的主要方法和进展。利用紫外光刻、离子束刻蚀技术制作自支撑金莫尔光栅,讨论了金膜厚度要求、电镀金膜质量和光栅占空比控制等影响莫尔光栅质量的关键技术问题。实验结果表明,通过设计较小占空比的光栅掩模、紫外光刻时擦除基片边缘的光刻胶棱以消除衍射效应、离子束刻蚀时基片倾斜一定的角度旋转刻蚀等措施可以改善自支撑金莫尔光栅的占空比。

基于聚丙烯酰胺凝胶软印章的电化学纳米加工(英文)

电化学刻蚀使用腐蚀性小的电解质溶液,且溶液可使用周期长,是一种环境友好的加工工艺.本文采用聚丙烯酰胺水凝胶(PAG)作为软印章,辅以优化工艺,将电化学湿印章技术(E-WETS)的加工精度从几十微米提高到了200纳米.将新配制的聚丙烯酰胺水凝胶浇注在具有纳米结构的软模板表面,固化后脱模并保存于0.2mol·L-1KCl溶液中,在合适电位和压力下,对硅片表面金膜进行电化学湿法刻蚀,分别研究了聚丙烯酰胺水凝胶的聚合条件、电化学加工电位以及水凝胶表面压力对加工结果的影响.实验表明,在最优条件下可加工出直径为200纳米的特征点阵结构,且该方法具有较好的可靠性和稳定性。

基于SU-8/PMMA双层胶技术的硅点阵结构制作

本文介绍了一种通过SU-8/PMMA双层胶制备硅点阵结构的方法,首先用PDMS模板压印带SU-8/PMMA双层胶的硅片,用ICP刻蚀后,得到具有内切结构的光刻胶掩膜,镀金属膜并去胶后,进行金属辅助化学湿法刻蚀,在硅片表面获得点阵结构。实验结果表明,通过该方法获得的硅点阵结构的反射率较平面硅有显著降低;该方法成本较低,过程简单,由于采用软压印和低压压印的方式,可实现硅点阵结构的大面积制备。

浅谈1#板坯连铸机铸坯质量影响因素和控制措施

通过连铸坯低倍腐蚀评估铸坯中心偏析、中心疏松等铸坯内部缺陷,反馈铸坯内部质量。从铸机辊缝、动态轻压下、喷嘴、钢水过热度、化学成分等方面研究铸坯内部质量的影响因素和控制措施。工艺优化后连铸低倍合格率上升8.17个百分点,提高了1#连铸机的内部质量。

离子束刻蚀软X射线透射光栅实验研究

利用全息-离子束刻蚀方法研制出了聚酰亚胺薄膜为衬底的金软X射线透射光栅.研究了光栅制作中曝光量、显影条件和离子束刻蚀工艺等因素对光栅参数的影响,并给出了在惯性约束激光核聚变实验研究中的应用结果,

软X射线多层膜分束镜的研制

介绍了软Ｘ射线多层膜分束镜的制备，采用腐蚀基底法和氯化钠脱膜分离法制备且获得了大面积的Ｍｏ／Ｓｉ多层膜分束镜．

软X射线自支撑闪耀透射光栅

软X射线自支撑闪耀透射光栅或临界角透射光栅是美国麻省理工学院为满足国际X射线天文台X射线光栅谱仪的科学要求而提出的一种新型衍射光栅,它集中了透射和反射光栅的优点,同时避免它们的缺点.文章对软X射线自支撑闪耀透射光栅的概念、基本原理、制作工艺进行了综述,介绍了美国麻省理工学院的光栅研制工作进展和文章作者的初步研究结果.