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VDMOS器件制造中的湿法工艺与设备研究
被引量:
4
1
作者
宋文超
《电子工业专用设备》
2021年第6期16-20,共5页
简述了VDMOS器件制造工艺流程,介绍了其中常用的RCA清洗、SPM去胶、BOE腐蚀、Al腐蚀等湿法工艺,并对相关湿法设备的配置以及工作原理进行了介绍。
关键词
VDMOS器件
湿法设备
RCA清洗
spm去胶
BOE腐蚀
铝腐蚀
下载PDF
职称材料
题名
VDMOS器件制造中的湿法工艺与设备研究
被引量:
4
1
作者
宋文超
机构
中国电子科技集团公司第四十五研究所
出处
《电子工业专用设备》
2021年第6期16-20,共5页
文摘
简述了VDMOS器件制造工艺流程,介绍了其中常用的RCA清洗、SPM去胶、BOE腐蚀、Al腐蚀等湿法工艺,并对相关湿法设备的配置以及工作原理进行了介绍。
关键词
VDMOS器件
湿法设备
RCA清洗
spm去胶
BOE腐蚀
铝腐蚀
Keywords
VDMOS devices
Wet bench
RCA Clean
spm
photoresist strip
BOE etch
Aluminum etch
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
VDMOS器件制造中的湿法工艺与设备研究
宋文超
《电子工业专用设备》
2021
4
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