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芯片制造高温SPM清洗技术流场分析
1
作者
李俊
雷光宇
《电子工艺技术》
2024年第6期15-18,共4页
随着集成电路技术的不断发展,对芯片清洗工艺的要求也越来越高。高温SPM清洗技术作为一种先进的湿法清洗工艺,在芯片制造中发挥着重要作用。首先介绍了芯片制造中的湿法工艺,重点阐述了高温SPM清洗技术的原理和应用,分析了影响工艺性能...
随着集成电路技术的不断发展,对芯片清洗工艺的要求也越来越高。高温SPM清洗技术作为一种先进的湿法清洗工艺,在芯片制造中发挥着重要作用。首先介绍了芯片制造中的湿法工艺,重点阐述了高温SPM清洗技术的原理和应用,分析了影响工艺性能的因素,并对高温SPM清洗的流场进行了建模与仿真分析,为高温SPM清洗设备的优化设计提供了理论依据。
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关键词
集成电路
湿法工艺
spm清洗
流场
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职称材料
题名
芯片制造高温SPM清洗技术流场分析
1
作者
李俊
雷光宇
机构
中国电子科技集团公司第四十五研究所
出处
《电子工艺技术》
2024年第6期15-18,共4页
文摘
随着集成电路技术的不断发展,对芯片清洗工艺的要求也越来越高。高温SPM清洗技术作为一种先进的湿法清洗工艺,在芯片制造中发挥着重要作用。首先介绍了芯片制造中的湿法工艺,重点阐述了高温SPM清洗技术的原理和应用,分析了影响工艺性能的因素,并对高温SPM清洗的流场进行了建模与仿真分析,为高温SPM清洗设备的优化设计提供了理论依据。
关键词
集成电路
湿法工艺
spm清洗
流场
Keywords
integrated circuit
wet process
spm
cleaning
flowfield
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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作者
出处
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1
芯片制造高温SPM清洗技术流场分析
李俊
雷光宇
《电子工艺技术》
2024
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