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全聚合物SU8光波导制备工艺及其特性研究
被引量:
1
1
作者
孔光明
鄂书林
+2 位作者
邓文渊
赵虎旦
郭洪波
《半导体光电》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第5期662-665,共4页
对一种全聚合物SU8光波导的制备工艺和波导特性进行了研究。测试结果显示,所制备光波导在1550 nm的传输损耗为2.01 dB/cm,且具有高的侧壁陡直度。详细研究了光波导制备工艺过程中前烘温度和时间、光刻时间、后烘温度和时间以及显影时间...
对一种全聚合物SU8光波导的制备工艺和波导特性进行了研究。测试结果显示,所制备光波导在1550 nm的传输损耗为2.01 dB/cm,且具有高的侧壁陡直度。详细研究了光波导制备工艺过程中前烘温度和时间、光刻时间、后烘温度和时间以及显影时间等工艺参数对波导质量的影响,给出了4.5μm×4.0μm尺寸单模波导制备的优化工艺。讨论了采用稀释后的SU8材料所制备的光波导出现侧蚀的原因以及改进的方法。
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关键词
聚合物
su8光波导
光刻
工艺参数
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职称材料
题名
全聚合物SU8光波导制备工艺及其特性研究
被引量:
1
1
作者
孔光明
鄂书林
邓文渊
赵虎旦
郭洪波
机构
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室
中国科学院研究生院
出处
《半导体光电》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第5期662-665,共4页
基金
吉林省科技厅项目(20060521)
应用光学国家重点实验室基金项目(O6133FQ064)
文摘
对一种全聚合物SU8光波导的制备工艺和波导特性进行了研究。测试结果显示,所制备光波导在1550 nm的传输损耗为2.01 dB/cm,且具有高的侧壁陡直度。详细研究了光波导制备工艺过程中前烘温度和时间、光刻时间、后烘温度和时间以及显影时间等工艺参数对波导质量的影响,给出了4.5μm×4.0μm尺寸单模波导制备的优化工艺。讨论了采用稀释后的SU8材料所制备的光波导出现侧蚀的原因以及改进的方法。
关键词
聚合物
su8光波导
光刻
工艺参数
Keywords
polymer
su
8
optical waveguide
photolithography
process variation
分类号
TN252 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
全聚合物SU8光波导制备工艺及其特性研究
孔光明
鄂书林
邓文渊
赵虎旦
郭洪波
《半导体光电》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
1
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职称材料
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