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全聚合物SU8光波导制备工艺及其特性研究 被引量:1
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作者 孔光明 鄂书林 +2 位作者 邓文渊 赵虎旦 郭洪波 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期662-665,共4页
对一种全聚合物SU8光波导的制备工艺和波导特性进行了研究。测试结果显示,所制备光波导在1550 nm的传输损耗为2.01 dB/cm,且具有高的侧壁陡直度。详细研究了光波导制备工艺过程中前烘温度和时间、光刻时间、后烘温度和时间以及显影时间... 对一种全聚合物SU8光波导的制备工艺和波导特性进行了研究。测试结果显示,所制备光波导在1550 nm的传输损耗为2.01 dB/cm,且具有高的侧壁陡直度。详细研究了光波导制备工艺过程中前烘温度和时间、光刻时间、后烘温度和时间以及显影时间等工艺参数对波导质量的影响,给出了4.5μm×4.0μm尺寸单模波导制备的优化工艺。讨论了采用稀释后的SU8材料所制备的光波导出现侧蚀的原因以及改进的方法。 展开更多
关键词 聚合物 su8光波导 光刻 工艺参数
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