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题名多尺度微纳米流道光刻压印工艺及关键技术研究
被引量:3
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作者
陈建刚
舒林森
赵知辛
李建刚
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机构
陕西理工大学机械工程学院
西安交通大学机械工程学院
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出处
《制造业自动化》
CSCD
2020年第11期6-10,共5页
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基金
国家自然科学青年基金(51505268)
陕西省教育厅2016年专项科研项目(16JK1147)
陕西理工大学科研计划资助项目(SLGKY2017-22)。
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文摘
光刻压印是多尺度微纳米流道工艺设计的关键技术,依据SU8-2025光刻胶与波长为350nm^400nm之间紫外激光光化学作用产生强酸的原理,选用黏度2500cSt、最大复型高度25的SU8-2025负性光刻胶和聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethyl Methacrylate,PMMA)正性光刻胶,通过微纳米套刻工艺的优化,实现了多尺度微纳米流道复型压印光刻,解决了涂胶、套刻、温控、显影以及微纳米结构光学测量等关键的技术问题,提高了微纳米流道内表面的质量,为可降解血管支架的性能检测提供了新的研究思路,也为多尺度复杂异形体的复型制造研究和发展提供必要的科学依据。
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关键词
紫外激光
su8-2025
光刻工艺
微纳流道
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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