微电子工艺CAD系统SUPREM－Ⅱ的模拟精度

模拟精度是ＣＡＤ系统设计者首先考虑的问题。文中向读者提供了在ＳＵＰＲＥＭ－Ⅱ模拟系统中，提高模拟精度的较科学的实验方法。

微电子工艺CAD系统SUPREM－Ⅱ所提供的信息量

结合作者在半导体工艺ＣＡＤ领域的部分工作，介绍了ＳＵＰＲＥＭ－Ⅱ工艺模拟系统在单管（场效应器件）和双极型电路（运算放大器）工艺模拟中能够提供给研究人员的数据信息量。从单项命题及全工艺模拟的视角加以阐述。