SUPREM-Ⅲ进行集成电路氧化—扩散工艺模拟

随着集成电路工艺的不断发展,工艺模拟软件功能也在不断的改善,本文以氧化扩散工艺为例,并在计算机上采用SUPREM-Ⅲ完成氧化扩散初始条件的编辑以及工艺模拟,并对模拟结果进行分析比较。从而对氧化、扩散工艺操作过程有直观的了解,避免了复杂的工程计算。