非化学计量比SbO_x薄膜的结晶动力学研究

利用直流磁控反应溅射法在不同氧分压下制备了SbOx薄膜,对退火前后薄膜的X射线衍射(XRD)分析表明,退火后薄膜结构发生了从非晶态向晶态的转变.利用示差扫描量热法(DSC)测出不同升温速度条件下非晶态薄膜粉末的晶化峰温度,用Kissinger公式计算了材料的结晶活化能.计算结果表明,随着溅射时氧分压的增加,薄膜的结晶活化能增加,而相应的非晶态与晶态之间的焓差则呈现出相反的变化趋势.

热致晶化高反射率SbO_x薄膜的结构分析和光学性质

利用直流磁控反应溅射法制备了SbOx 薄膜 ,利用X射线衍射分析仪和光谱仪分别研究了这种薄膜热致晶化的微观结构和光学性质的变化 ,并通过非晶态薄膜粉末的示差扫描量热实验测出不同加热速度条件下结晶峰温度 ,研究了这种薄膜的结晶动力学。发现沉积态SbOx 薄膜为非晶态 ,非晶态SbOx 薄膜在热致晶化过程中发生了两种变化 ,分别对应为较低温度下Sb晶体和较高温度下立方Sb2 O3 相的生成。退火后晶态薄膜中出现了单质Sb和Sb2 O3 ,30 0℃退火后Sb2 O3 相含量最大。晶态薄膜的反射率均高于沉积态 ,在晶态薄膜中 2 0 0℃退火的薄膜反射率最大。