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次级发射的应用现状和发展前景
被引量:
1
1
作者
朱木易
高玉娟
《真空电子技术》
2015年第2期64-66,共3页
本文通过对次级发射的背景和国内外同行的研究介绍,显示了次级发射研究在真空电子器件中的重要性。同时,介绍了在次级发射研究上的一些成绩,并提出一些新想法以供有兴趣的读者讨论。
关键词
次级发射
电荷充电
负电子亲和势
金刚石薄膜
下载PDF
职称材料
题名
次级发射的应用现状和发展前景
被引量:
1
1
作者
朱木易
高玉娟
机构
北京真空电子技术研究所
出处
《真空电子技术》
2015年第2期64-66,共3页
文摘
本文通过对次级发射的背景和国内外同行的研究介绍,显示了次级发射研究在真空电子器件中的重要性。同时,介绍了在次级发射研究上的一些成绩,并提出一些新想法以供有兴趣的读者讨论。
关键词
次级发射
电荷充电
负电子亲和势
金刚石薄膜
Keywords
secondary electron emission
,
electron charging
,
negative electron affinity
,
diamond film
分类号
O462 [理学—电子物理学]
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作者
出处
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1
次级发射的应用现状和发展前景
朱木易
高玉娟
《真空电子技术》
2015
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