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Layer-by-Layer Analysis of the Composition of Thin Films by SIMS and Raman Spectroscopy
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作者 Nikolay N. Nikitenkovt A. N. Nikitenkov Yu. I. Turin I. V. Dushkin V. S. Sypchenko O. V. Vilhivskaya 《Journal of Chemistry and Chemical Engineering》 2014年第2期187-190,共4页
In this study, thin films were produced by magnetron sputtering NC (nanocrystalline) specimens of titanium saturated in hydrogen and were evaluated by layer-by-layer SIMS (secondary ion mass spectrometry) and Rama... In this study, thin films were produced by magnetron sputtering NC (nanocrystalline) specimens of titanium saturated in hydrogen and were evaluated by layer-by-layer SIMS (secondary ion mass spectrometry) and Raman spectroscopy. Due to magnetron sputtering, the chemical composition of the films was non-homogeneous and was variable among layers. Moreover, in the deposition of specimens saturated with hydrogen, hydrogen diffused throughout the depth of the film; diffusion, however, was restricted to the area near the film-substrate interface, affecting less than 50% of the thickness of the film. 展开更多
关键词 Thin films HYDROGEN Raman spectroscopy secondary ion mass spectrometry.
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二次离子质谱(SIMS)分析技术及应用进展 被引量:29
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作者 周强 李金英 +1 位作者 梁汉东 伍昌平 《质谱学报》 EI CAS CSCD 2004年第2期113-120,共8页
二次离子质谱 ( SIMS)比其他表面微区分析方法更灵敏。由于应用了中性原子、液态金属离子、多原子离子和激光一次束 ,后电离技术 ,离子反射型飞行时间质量分析器 ,离子延迟探测技术和计算机图像处理技术等 ,使得新型的 SIMS的一次束能... 二次离子质谱 ( SIMS)比其他表面微区分析方法更灵敏。由于应用了中性原子、液态金属离子、多原子离子和激光一次束 ,后电离技术 ,离子反射型飞行时间质量分析器 ,离子延迟探测技术和计算机图像处理技术等 ,使得新型的 SIMS的一次束能量提高到 Me V,束斑至亚μm,质量分辨率达到 1 5 0 0 0 ,横向和纵向分辨率小于 0 .5μm和 5 nm,探测限为 ng/g,能给出二维和三维图像信息。 SIMS能用于矿物、核物质、陨石和宇宙物质的半定量元素含量和同位素丰度测定 ,能鉴定出高挥发性、热不稳定性的生物大分子 ,能进行横向和纵向剖析 ,能进行单颗粒物、团蔟、聚合物、微电子晶体、生物芯片、生物细胞同位素标记和单核苷酸多肽性分型 ( SNP)测定 ,能观测出含有 2 0 0 0碱基对的脱氧核糖核酸 ( DNA)的准分子离子峰。以SIMS在同位素、颗粒物、大分子、生物等研究领域的应用为重点 ,结合实例 ,对 展开更多
关键词 二次离子质谱 技术原理 分析仪器 表面分析技术 sims
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SIMS在碲镉汞红外焦平面探测器工艺中的应用 被引量:3
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作者 朱西安 左雷 李震 《激光与红外》 CAS CSCD 北大核心 2006年第11期1013-1015,共3页
文章介绍了二次离子质谱仪的结构及其基本工作原理,并通过对典型应用的分析,介绍了二次离子质谱分析技术在高灵敏度碲镉汞红外焦平面探测器材料和器件制备工艺中的作用,特别是在结探监测和微量杂质监控方面所发挥的重要作用。
关键词 二次离子质谱 碲镉汞 红外焦平面阵列 结深 杂质
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TOF-SIMS样品光学成像系统设计 被引量:2
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作者 王培智 田地 +4 位作者 包泽民 龙涛 张玉海 邱春玲 刘敦一 《质谱学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第3期282-288,共7页
本研究为飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)设计了一种具有高空间分辨率的样品光学成像系统。该系统由一种改进的Schwarzschild双反射系统、45°反射镜、变焦镜头及CCD图像传感器构成。采用ZEMAX软件对传统Schwarzschild模型进行计... 本研究为飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)设计了一种具有高空间分辨率的样品光学成像系统。该系统由一种改进的Schwarzschild双反射系统、45°反射镜、变焦镜头及CCD图像传感器构成。采用ZEMAX软件对传统Schwarzschild模型进行计算和改进,得出系统优化参数并进行仿真验证。仿真结果表明:系统最佳的成像分辨率达1μm,极限分辨率为0.4μm,RMS半径小于艾里斑直径,波像差满足瑞利判据,成像质量良好。 展开更多
关键词 成像系统 Schwarzschild双反射系统 ZEMAX 飞行时间二次离子质谱(TOF-sims)
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TOF-SIMS用于有机混合物分析的数据处理方法 被引量:2
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作者 郝多虎 梁汉东 杨陆武 《中国矿业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第1期74-77,共4页
在对二次离子质谱的谱图的进行研究的基础上,提出了利用计算机进行二次离子质谱分析的数据处理方法,并已实现了其中的大部分内容.利用该方法处理复杂有机物的质谱图,可以自动输出不同有机物系列的质谱图,且易于分析,不受无机物和... 在对二次离子质谱的谱图的进行研究的基础上,提出了利用计算机进行二次离子质谱分析的数据处理方法,并已实现了其中的大部分内容.利用该方法处理复杂有机物的质谱图,可以自动输出不同有机物系列的质谱图,且易于分析,不受无机物和仪器噪音的干扰,还可以提取一系列的定量参数,节省质谱解析的时间,从而更好地分析有机混合物的组成及结构特征. 展开更多
关键词 有机混合物 数据处理 TOF-sims 质谱数据
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XPS、AFM和ToF-SIMS的工作原理及在植物纤维表面分析中的应用 被引量:7
6
作者 雷晓春 林鹿 李可成 《中国造纸学报》 EI CAS CSCD 2006年第4期97-101,共5页
介绍了先进的表面分析仪器化学分析电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)、含飞行时间分析器的二次离子质谱仪(ToF-SIMS)的工作原理,回顾了近年来它们在植物纤维表面分析中的成功应用,综合利用XPS、AFM及ToF-SIMS方法,可分析和解决制浆造... 介绍了先进的表面分析仪器化学分析电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)、含飞行时间分析器的二次离子质谱仪(ToF-SIMS)的工作原理,回顾了近年来它们在植物纤维表面分析中的成功应用,综合利用XPS、AFM及ToF-SIMS方法,可分析和解决制浆造纸过程中的现象和问题。 展开更多
关键词 XPS AFM ToF—sims 原理 纤维表面
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用于TOF-SIMS的锆石样品图像自动聚焦算法 被引量:1
7
作者 王培智 田地 +3 位作者 龙涛 李抵非 邱春玲 刘敦一 《吉林大学学报(工学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第1期308-315,共8页
为满足现代二次离子质谱仪(SIMS)锆石样品图像自动聚焦系统对聚焦准确度的要求,提出了一种具有自动消除噪声功能的锆石样品图像自动聚焦算法,并将其应用于飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)。该算法包括锆石图像识别分割法、分段式聚焦... 为满足现代二次离子质谱仪(SIMS)锆石样品图像自动聚焦系统对聚焦准确度的要求,提出了一种具有自动消除噪声功能的锆石样品图像自动聚焦算法,并将其应用于飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)。该算法包括锆石图像识别分割法、分段式聚焦算法和调焦控制策略。在聚焦远峰区,采用Roberts算子的聚焦评价函数及差分累加的调焦控制策略进行粗调;在聚焦近峰区,捕捉图像中的锆石目标进行识别分割,采用局部坐标算子的聚焦评价函数与爬山法相结合的调焦控制策略进行聚焦细调。实验结果表明:该算法聚焦准确率达99%,可有效抑制噪声干扰,实现了对锆石样品图像的自动、准确聚焦。 展开更多
关键词 自动控制技术 分段式聚焦算法 图像识别 图像分割 飞行时间二次离子质谱仪
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硅基GaN外延层的SIMS及XPS研究
8
作者 张昊翔 叶志镇 +1 位作者 赵炳辉 袁骏 《真空科学与技术》 EI CSCD 北大核心 1999年第5期345-348,378,共5页
采用真空反应法在硅基上制备出了GaN外延层。利用二次离子质谱和X射线光电子能谱对GaN外延层进行了深度剖析和表面分析。结果表明 ,外延层中Ga和N分布均匀 ;在表面处Ga发生了偏聚 ;外延层中还存在Si,O等杂质 ,但这些并未影响到GaN外延... 采用真空反应法在硅基上制备出了GaN外延层。利用二次离子质谱和X射线光电子能谱对GaN外延层进行了深度剖析和表面分析。结果表明 ,外延层中Ga和N分布均匀 ;在表面处Ga发生了偏聚 ;外延层中还存在Si,O等杂质 ,但这些并未影响到GaN外延层的物相及发光性能。实验还表明 。 展开更多
关键词 外延层 X射线 光电子能谱 硅衬底 氮化镓
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Ge/Pd/n-GaAs低阻欧姆接触的SIMS分析
9
作者 陈维德 陈春华 +1 位作者 谢小龙 段俐宏 《真空科学与技术》 CSCD 1996年第4期231-234,共4页
采用Ge/Pd/GaAs结构和快速热退火在n-GaAs上形成了低阻欧姆接触。利用H次离子质谱(SIMS)技术揭示和讨论了低欧姆接触形成的机理。比较了采用X+和CsX+信号检测的Ge,Pd,Ga和As的深度分布。结果表明采用CSX+可以提供更准确的结果和... 采用Ge/Pd/GaAs结构和快速热退火在n-GaAs上形成了低阻欧姆接触。利用H次离子质谱(SIMS)技术揭示和讨论了低欧姆接触形成的机理。比较了采用X+和CsX+信号检测的Ge,Pd,Ga和As的深度分布。结果表明采用CSX+可以提供更准确的结果和成分信息。 展开更多
关键词 二次离子质谱 欧姆接触 砷化镓
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GaP低阻欧姆接触层的AES和SIMS分析
10
作者 张福甲 李宝军 卓肇龙 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第3期247-252,共6页
本文用AES和SIMS分析讨论了p-GaP与三层金属膜Pd/Zn/Pd形成良好欧姆接触层的性质.
关键词 欧姆接触 俄歇电子谱法 质谱法
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基于LabVIEW面向对象的TOF-SIMS仪器控制软件 被引量:5
11
作者 郑瀛 范润龙 +3 位作者 张玉海 邱春玲 刘敦一 田地 《质谱学报》 CSCD 北大核心 2017年第5期591-598,共8页
飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)作为一种重要的表面分析工具被广泛应用,本研究为其开发了一套仪器控制软件。基于LabVIEW面向对象方法建立了仪器部件控制类库,结合消息驱动机制完成了软件结构设计。所开发的软件能够实现对离子光学... 飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)作为一种重要的表面分析工具被广泛应用,本研究为其开发了一套仪器控制软件。基于LabVIEW面向对象方法建立了仪器部件控制类库,结合消息驱动机制完成了软件结构设计。所开发的软件能够实现对离子光学系统、真空系统和三维样品台等仪器子系统的部件控制。应用该软件控制仪器进行了锆石样品的TOF-SIMS实验,完成了锆石样品谱图的获取,结果表明,该软件能够满足仪器对控制软件的要求。此外,软件结构具有良好的可重用性和可扩展性,以及硬件更改对软件影响小等优点,该软件设计方法可用于类似仪器控制软件的开发。 展开更多
关键词 飞行时间二次离子质谱仪(TOF-sims) 控制软件 LABVIEW 面向对象
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TOF-SIMS二次离子光学系统仿真研究 被引量:1
12
作者 刘晓旭 齐国臣 +4 位作者 包泽民 Stephen Clement 邱春玲 田地 龙涛 《中国测试》 CAS 北大核心 2016年第1期130-133,共4页
为实现飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)对二次离子束的提取并提高仪器的调试效率,采用离子光学仿真软件SIMION 8.0对TOF-SIMS二次离子光学系统进行仿真。以稳定同位素铜离子为对象,通过仿真,研究二次离子光学系统中二次离子提取系统... 为实现飞行时间二次离子质谱仪(TOF-SIMS)对二次离子束的提取并提高仪器的调试效率,采用离子光学仿真软件SIMION 8.0对TOF-SIMS二次离子光学系统进行仿真。以稳定同位素铜离子为对象,通过仿真,研究二次离子光学系统中二次离子提取系统透镜电极电压的调整对质量分辨率的影响,确定最佳透镜电极电压组合,并得到稳定同位素铜离子的仿真谱图。仿真研究表明:当初级提取电极电压为800 V、单透镜有效电极电压为-4 400 V时,质量分辨率最高。在TOF-SIMS实验平台上对铜样品靶进行实验测试,实验与仿真结果相吻合,表明设计的二次离子光学系统可用于TOF-SIMS仪器的二次离子束提取,为实验参数的选择提供参考,从而提高仪器调试效率。 展开更多
关键词 飞行时间二次离子质谱仪 二次离子光学系统 仿真 透镜电极电压 质量分辨率
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FIB-TOF-SIMS联用技术在矿物学研究中的应用 被引量:4
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作者 王涛 葛祥坤 +1 位作者 范光 郭冬发 《铀矿地质》 CAS CSCD 2019年第4期247-252,共6页
基于聚焦离子束扫描电子显微镜的飞行时间二次离子质谱联用技术同时具备了聚焦离子束高空间分辨率以及飞行时间二次离子质谱轻元素、同位素分析以及较低的元素检出限的优势。可以实现:扫描电镜下原位分析H、Li、Be、B等轻元素;元素分布... 基于聚焦离子束扫描电子显微镜的飞行时间二次离子质谱联用技术同时具备了聚焦离子束高空间分辨率以及飞行时间二次离子质谱轻元素、同位素分析以及较低的元素检出限的优势。可以实现:扫描电镜下原位分析H、Li、Be、B等轻元素;元素分布的纳米级横向空间分辨率;元素三维空间分布。能够同时得到纳米级矿物的形貌、元素组成以及元素空间分布信息,该技术在地学领域有广阔的应用前景。 展开更多
关键词 飞行时间二次离子质谱 聚焦离子束扫描电镜 元素三维空间分布 轻元素分析 纳米级空间分辨率
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表面残留有机沾污物的TOF-SIMS及XPS研究
14
作者 邓朝辉 林晶 +1 位作者 任云珠 宗祥福 《分析测试学报》 CAS CSCD 1996年第2期1-5,共5页
飞行时间次级离子质谱(TOF-SIMS)结合X射线光电子能谱(XPS)分析了用化学方法清洗后、银片上残留的未知的有机物。结果显示,有机沾污物主要是一些含18~30碳原子、碳链饱和度很高的酮类和酯类化合物;个别有机物可... 飞行时间次级离子质谱(TOF-SIMS)结合X射线光电子能谱(XPS)分析了用化学方法清洗后、银片上残留的未知的有机物。结果显示,有机沾污物主要是一些含18~30碳原子、碳链饱和度很高的酮类和酯类化合物;个别有机物可能是硬脂酰胺。这种结构特点使有机物中的C=O基团易于采取氧原子指向基体表面的取向,通过带部分负电荷的氧原子与金属基体镜像力的作用而增强粘附。TOF-SIMS二维离子像显示有机沾污物在银片表面上呈极稀薄的均匀分布。 展开更多
关键词 TOF-sims XPS 有机沾污物 银片
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GaN单晶中Mg含量的SIMS定量分析方法
15
作者 何友琴 马农农 +2 位作者 陈潇 张鑫 刘立娜 《半导体技术》 CAS 北大核心 2020年第7期571-575,共5页
GaN材料是研制微电子器件、光电子器件的新型半导体材料,在其单晶材料的研制过程中,掺杂剂Mg的含量对生长p型GaN有重要影响,所以对Mg浓度的精确测定至关重要。采用相对灵敏度因子法,以离子注入样品为参考样品,对GaN单晶中Mg元素含量的... GaN材料是研制微电子器件、光电子器件的新型半导体材料,在其单晶材料的研制过程中,掺杂剂Mg的含量对生长p型GaN有重要影响,所以对Mg浓度的精确测定至关重要。采用相对灵敏度因子法,以离子注入样品为参考样品,对GaN单晶中Mg元素含量的二次离子质谱(SIMS)定量分析方法进行了研究,并通过改变扫描面积,使GaN单晶中Mg元素浓度的检测限达到5.0×1015 cm-3。该方法具有高稳定性(精密度小于10%)和可靠性,在没有可溯源参考样品的情况下,可自制参考样品实现对GaN晶体中Mg含量的SIMS定量分析。该方法成为GaN单晶中Mg杂质含量的可行的检测方法之一。 展开更多
关键词 氮化镓 相对灵敏度因子 二次离子质谱(sims) 定量分析
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环氧树脂的飞行时间次级离子质谱仪(TOF—SIMS)分析
16
作者 邓朝辉 陈维孝 宗祥福 《材料研究学报》 EI CAS CSCD 1995年第5期457-462,共6页
用飞行时间次级离子质谱仪(TOF—SIMS)结合银离化技术,研究了两种型号的环氧树脂;发现了一些不同结构的成分。
关键词 飞行时间 次级离子质谱 环氧树脂 银离化
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石墨烯负载纳米Ag颗粒增强ToF-SIMS分子离子峰
17
作者 孙立民 丁雪 +1 位作者 陈振营 张南南 《实验室研究与探索》 CAS 北大核心 2023年第5期53-56,67,共5页
制备石墨烯与纳米Ag颗粒的复合材料(AgNP-GE),并用作新型衬底/基质材料,研究了Ag纳米颗粒对有机物分子峰的增强检测机制。用溶液滴涂法将两种样品Irganox 1010与Risperidone分散到AgNP-GE衬底上,并以ToF-SIMS对其表征。实验发现,两种样... 制备石墨烯与纳米Ag颗粒的复合材料(AgNP-GE),并用作新型衬底/基质材料,研究了Ag纳米颗粒对有机物分子峰的增强检测机制。用溶液滴涂法将两种样品Irganox 1010与Risperidone分散到AgNP-GE衬底上,并以ToF-SIMS对其表征。实验发现,两种样品均检测出(M+Ag)^(+),但Irganox 1010更容易产生(M+Ag)^(+),而Risperidone更容易产生(M+H)^(+)。表明AgNP-GE衬底可以起到类似氧化银(AgO)衬底的作用而形成(M+Ag)^(+)。由于石墨烯衬底自身有助于有机分子的(M+H)^(+)的形成,AgNP-GE有望成为提高有机物分子的分子离子峰检测灵敏度的一种新型基质材料。 展开更多
关键词 飞行时间二次离子质谱 分子离子峰增强 纳米银颗粒 石墨烯
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Characterization of deep acceptor level in as-grown ZnO thin film by molecular beam epitaxy
18
作者 M.Asghar K.Mahmood +3 位作者 M.A.Hasan I.T.Ferguson R.Tsu M.Willander 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第9期364-368,共5页
We report deep level transient spectroscopy results from ZnO layers grown on silicon by molecular beam epitaxy (MBE), The hot probe measurements reveal mixed conductivity in the as-grown ZnO layers, and the current-... We report deep level transient spectroscopy results from ZnO layers grown on silicon by molecular beam epitaxy (MBE), The hot probe measurements reveal mixed conductivity in the as-grown ZnO layers, and the current-voltage (l-V) measurements demonstrate a good quality p-type Schottky device. A new deep acceptor level is observed in the ZnO layer having activation energy of 0.49 ± 0.03 eV and capture cross-section of 8,57 ×10^-18 cm^2. Based on the results from Raman spectroscopy, photoluminescence, and secondary ion mass spectroscopy (SIMS) of the ZnO layer, the observed acceptor trap level is tentatively attributed to a nitrogen-zinc vacancy complex in ZnO, 展开更多
关键词 ZnO secondary ion mass spectroscopy PHOTOLUMINESCENCE Raman spectroscopy
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Model of Diffusion of Sulfur in Soda-lime-silicate Glass:An Experimental and Comparative Study
19
作者 孟政 HONG Wang +1 位作者 WANG Yongbin JIANG Hong 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2017年第1期76-79,共4页
The diffusion property of sulfur on the soda-lime-silicate float glass surface was studied by using secondary ion mass spectroscopy(SIMS).According to the Fick's Second Law,two models of diffusion of sulfur on the ... The diffusion property of sulfur on the soda-lime-silicate float glass surface was studied by using secondary ion mass spectroscopy(SIMS).According to the Fick's Second Law,two models of diffusion of sulfur on the glass surface were built.When the diffusion of sulfate(S^6+) is considered uniquely,the concentration-depth profile of sulfur can not be fitted very well,especially on the top surfaces of the air side and tin side of float glass.So the diffusion of sulfide(S^2-) on the profile of sulfur can not be ignored.The concentration-depth profile of sulfur on both sides of glass can be fitted more exactly when both S^6+ and S^2- are considerd.Based on the above-mentioned fitting results,it is concluded that the diffusion coefficents of S^6+ and S^2- of tin side are larger than those of the air side.Moreover,the diffusion coefficents are related to the contacted medium. 展开更多
关键词 DIFFUSion SULFUR soda-lime-silicate glass secondary ion mass spectroscopy
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一种SiC MOSFET栅氧界面缺陷的POA优化工艺
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作者 付兴中 刘俊哲 +4 位作者 薛建红 尹志鹏 谭永亮 王德君 张力江 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第12期1144-1152,共9页
栅氧界面缺陷严重影响SiC MOSFET性能。开发了一种NO氧化后退火(POA)优化工艺,采用氮、氢、氧、氯四种元素组合钝化工艺,实现对SiC MOSFET栅氧界面缺陷的抑制。通过X射线光电子能谱(XPS)、二次离子质谱(SIMS)和电学测试,对工艺优化前后... 栅氧界面缺陷严重影响SiC MOSFET性能。开发了一种NO氧化后退火(POA)优化工艺,采用氮、氢、氧、氯四种元素组合钝化工艺,实现对SiC MOSFET栅氧界面缺陷的抑制。通过X射线光电子能谱(XPS)、二次离子质谱(SIMS)和电学测试,对工艺优化前后的SiC MOSFET栅氧界面缺陷类型及器件电学特性进行了分析。测试结果表明,采用传统NO POA工艺的SiC MOSFET退火后在栅氧化层和栅氧界面中存在大量缺陷,尤其是C相关缺陷,影响器件栅氧的绝缘特性。POA优化工艺对SiC MOSFET栅氧界面缺陷具有明显的抑制作用,可极大地提高N元素对栅氧界面缺陷的钝化效果,并且抑制了O空位的形成,进而提升了器件的可靠性和迁移率,降低了界面态密度,对器件性能起到了较好的优化效果。 展开更多
关键词 SiC MOSFET X射线光电子能谱(XPS) 二次离子质谱(sims) 界面缺陷 氧化后退火(POA)
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