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Ni丝的自电热升华镀膜及其机理研究
1
作者
黄醒良
方晓明
+1 位作者
沈学础
袁诗鑫
《红外技术》
CSCD
1993年第5期3-7,共5页
讨论了Ni丝自电热升华镀Ni的机理,测定了Φ0.5mmNi丝的升华速率α_V(I′),并讨论了Ni丝镀膜的控制工艺;最后测定了Ni丝的自电热电阻R(I′)和小电流下的变温电阻R(T)。
关键词
真空镀镍
变温电阻
红外材料
调速
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职称材料
题名
Ni丝的自电热升华镀膜及其机理研究
1
作者
黄醒良
方晓明
沈学础
袁诗鑫
机构
中国科学院红外物理国家实验室
中国科学院上海技术物理研究所
出处
《红外技术》
CSCD
1993年第5期3-7,共5页
文摘
讨论了Ni丝自电热升华镀Ni的机理,测定了Φ0.5mmNi丝的升华速率α_V(I′),并讨论了Ni丝镀膜的控制工艺;最后测定了Ni丝的自电热电阻R(I′)和小电流下的变温电阻R(T)。
关键词
真空镀镍
变温电阻
红外材料
调速
Keywords
Vaccum deposition of Ni
self electro - heating sublimation
Deposition rate control
Temperature
-
dependent resistance
分类号
TN213 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Ni丝的自电热升华镀膜及其机理研究
黄醒良
方晓明
沈学础
袁诗鑫
《红外技术》
CSCD
1993
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