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SemiSouth发布耐压为650 V和1700 V的SiC制JFET
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作者 宏海 《半导体信息》 2013年第3期9-9,共1页
美国SemiSouth Laboratories公司发布了耐压为650 V和耐压为1700 V的SiC制JFET产品,均为常开型功率元件。耐压为650 V的产品名称为"SJDA065R055",导通电阻为55 mΩ,漏电流在室温时(25℃)为30 A,在脉冲驱动时为80 A,工作温度... 美国SemiSouth Laboratories公司发布了耐压为650 V和耐压为1700 V的SiC制JFET产品,均为常开型功率元件。耐压为650 V的产品名称为"SJDA065R055",导通电阻为55 mΩ,漏电流在室温时(25℃)为30 A,在脉冲驱动时为80 A,工作温度范围为一55~+150℃, 展开更多
关键词 导通电阻 功率元件 脉冲驱动 JFET semisouth SIC 工作温度范围 爬电距离 外形尺寸
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SemiSouth发布45 mΩ导通电阻的SiC制JFET
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作者 马莉雅 《半导体信息》 2011年第4期6-6,共1页
美国SemiSouth Laboratories公司发布了SiC制JFET新产品。此次发布的新产品共有两种。分别是以裸片形态供货的SJDC120R045和收纳在TO-247封装中的SJDP120R045。封装品可在175℃下工作。SemiSouth已经上市了常闭型SiC制JFET产品,此次上... 美国SemiSouth Laboratories公司发布了SiC制JFET新产品。此次发布的新产品共有两种。分别是以裸片形态供货的SJDC120R045和收纳在TO-247封装中的SJDP120R045。封装品可在175℃下工作。SemiSouth已经上市了常闭型SiC制JFET产品,此次上市的新产品为常开型。 展开更多
关键词 导通电阻 JFET semisouth SIC
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Ⅱ—Ⅵ公司与SemiSouth公司开发SiC外延晶片
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作者 周慧 《半导体信息》 2004年第1期26-26,共1页
SemiSouth实验室与Ⅱ—Ⅵ公司正协力为SiC外延晶片提供SiC衬底及外延。该项合作将Ⅱ—Ⅵ的4H—SiC衬底生产能力与SemiSouth公司运用SiC外延反应堆开发出的SiC外延材料生产技术相结合,计划生产直径为2英寸,层结构厚度达20μm并具有宽范围... SemiSouth实验室与Ⅱ—Ⅵ公司正协力为SiC外延晶片提供SiC衬底及外延。该项合作将Ⅱ—Ⅵ的4H—SiC衬底生产能力与SemiSouth公司运用SiC外延反应堆开发出的SiC外延材料生产技术相结合,计划生产直径为2英寸,层结构厚度达20μm并具有宽范围n—与P—型掺杂。Ⅱ—Ⅵ公司总经理Thomas Anderson说:"我们坚信,与SemiSouth公司的进一步合作将使两公司的技术得到迅速发展,并最终使产品成本降低。据他介绍,Ⅱ—Ⅵ在外延材料和器件的生产方面得到SemiSouth公司宝贵的反馈意见。这将帮助他们提高SiC衬底材料的质量.并生产出满足SemiSouth外延工艺具体要求的衬底。 展开更多
关键词 semisouth SIC 外延材料 产品成本 外延工艺 结构厚度 计划生产 生产技术
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SemiSouth以新型SiC JFET器件进入高端音频市场
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作者 马莉雅 《半导体信息》 2011年第5期24-25,共2页
据SemiSouth透露,其最新碳化硅JFET器件较传统器件成本低15%,且线性特征和保真性能优良,非常适合于高端音频放大器的需求。SemiSouth Laboratories推出一系列新型低成本SiC JFET器件,具有非常好的线性特征,产品定位于高端音频应用。
关键词 音频应用 semisouth SIC JFET 产品定位 保真性 开关速度 推挽式 并联使用 NELSON 功率型
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新型碳化硅晶体管
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《有色金属工业》 2004年第5期58-58,共1页
关键词 碳化硅晶体管 生产工艺 美国semisouth实验室 成本
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碳化硅晶体管可使元件尺寸和成本减少一半
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作者 王凤娥 《现代材料动态》 2004年第8期8-8,共1页
关键词 碳化硅 晶体管 电子元件 尺寸 成本 美国密西西比州semisouth实验室公司
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