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(Mo_(1-x),W_x)Si_2固溶体的价电子结构及其性能研究 被引量:4
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作者 彭可 易茂中 +1 位作者 冉丽萍 葛毅成 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第3期414-417,共4页
根据固体与分子经验电子理论(EET),利用平均原子模型对(Mo1-x,Wx)Si2固溶体进行价电子结构分析,并分别与MoSi2和WSi2基体进行比较。结果表明,随着x值的增加,(Mo1-x,Wx)Si2固溶体的主干键络键能、最强键上共价电子数和共价电子总数百分... 根据固体与分子经验电子理论(EET),利用平均原子模型对(Mo1-x,Wx)Si2固溶体进行价电子结构分析,并分别与MoSi2和WSi2基体进行比较。结果表明,随着x值的增加,(Mo1-x,Wx)Si2固溶体的主干键络键能、最强键上共价电子数和共价电子总数百分比均逐渐增加,表明固溶体的熔点、硬度和强度均逐渐增加。 展开更多
关键词 (Mo1-x Wx)si2固溶体 价电子结构 EET理论 性能
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Si_(1-x)Ge_x/Si多层异质外延结构的研究 被引量:2
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作者 郭林 李开成 +2 位作者 张静 刘道广 易强 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2000年第4期217-220,共4页
对制作的 Si1-xGex/Si多层异质外延结构进行了研究。并对其做了反射高能电子衍射(RHEED)、X射线衍射(XRD)和扩展电阻(SR)等测量,给出了利用这种结构研制出的异质结双极晶体管(HBT)的输出特性曲线。
关键词 si1-2gex/si 异质外延 异质结双极晶体管
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Ge_xSi_(1-x)/Si(100)应变超晶格高分辨电镜研究
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作者 余是东 李齐 +5 位作者 王路春 魏明 冯端 俞鸣人 周国良 褚一鸣 《自然科学进展(国家重点实验室通讯)》 1991年第6期502-506,共5页
本文用高分辨电镜(HREM)技术研究了在较高温度下生长的Ge_(0.2)Si_(0.8)/Si(100)和Ge_(0.4)Si_(0.6)/Si(100)应变超晶格中截面高分辨象。结果表明,晶格失配造成超晶格中较薄的子层,即合金层中弹性应变,在Ge_(0.2)Si_(0.8)/Si(100)应变... 本文用高分辨电镜(HREM)技术研究了在较高温度下生长的Ge_(0.2)Si_(0.8)/Si(100)和Ge_(0.4)Si_(0.6)/Si(100)应变超晶格中截面高分辨象。结果表明,晶格失配造成超晶格中较薄的子层,即合金层中弹性应变,在Ge_(0.2)Si_(0.8)/Si(100)应变超晶格中,合金层弹性应变与四方畸变结果相近,在Ge_(0.4)Si_(0.6)/Si(100)应变超晶格中,合金层弹性应变不均匀,使{111}晶面取向局部偏离无法观察到完整清晰的晶格象.Ge_(0.2)Si_(0.8)/Si(100)应变超晶格计算模拟与观察结果比较发现,超晶格界面附近存在互扩散. 展开更多
关键词 gexsi1-x/si HREM 应变超晶体
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Physically-based modeling for hole scattering rate in strained Si_(1-x) Ge_x/(100)Si
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作者 王斌 胡辉勇 +2 位作者 张鹤鸣 宋建军 张玉明 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第2期430-436,共7页
Based on the Fermi's golden rule and the theory of Boltzmann collision term approximation, a physically-based model for hole scattering rate(SR) in strained Si1-x Gex/(100)Si was presented, which takes into accoun... Based on the Fermi's golden rule and the theory of Boltzmann collision term approximation, a physically-based model for hole scattering rate(SR) in strained Si1-x Gex/(100)Si was presented, which takes into account a variety of scattering mechanisms,including ionized impurity, acoustic phonon, non-polar optical phonon and alloy disorder scattering. It is indicated that the SRs of acoustic phonon and non-polar optical phonon decrease under the strain, and the total SR in strained Si1-x Gex/(100)Si also decreases obviously with increasing Ge fraction(x). Moreover, the total SR continues to show a constant tendency when x is less than 0.3. In comparison with bulk Si, the total SR of strained Si1-x Gex/(100) Si decreases by about 58%. 展开更多
关键词 strained si1-x gex biaxial stress hole scattering rate effective mass
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Effect of growth temperature of GaAsxSb1-x metamorphic buffer layer on electron mobility of InAs/AlSb heterostructures grown on Si substrate
5
作者 Jing Zhang Hong-Liang Lv +5 位作者 Hai-Qiao Ni Shi-Zheng Yang Xiao-Ran Cui Zhi-Chuan Niu Yi-Men Zhang Yu-Ming Zhang 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第11期364-369,共6页
The InAs/AlSb heterostructures with step-graded GaAsxSb1-x metamorphic buffer layers grown on Si substrates by molecular beam epitaxy are studied. The step-graded GaAsxSb1-x metamorphic buffer layers are used to relax... The InAs/AlSb heterostructures with step-graded GaAsxSb1-x metamorphic buffer layers grown on Si substrates by molecular beam epitaxy are studied. The step-graded GaAsxSb1-x metamorphic buffer layers are used to relax the strain and block defects at each interface of the layers. Meanwhile, adding Sb to GaAs is also beneficial to suppressing the formation of dislocations in the subsequent materials. The influences of the growth temperature of the step-graded GaAsxSb1-x metamorphic buffer layer on the electron mobility and surface topography are investigated for a series of samples. Based on the atomic force microscopy(AFM), high resolution x-ray diffraction(HRXRD), reciprocal space map(RSM), and Hall measurements, the crystal quality and composition of GaAsxSb1-x layer are seen to strongly depend on growth temperature while keeping the Ga growth rate and V/III ratio constant. The results show that the highest electron mobility is 10270 cm2/V·s and the roughness is 4.3 nm for the step-graded GaAsxSb1-x metamorphic buffer layer grown at a temperature of 410℃. 展开更多
关键词 si STICKING COEFFICIENTS growth temperature GaAsxSb1-x METAMORPHIC buffer
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Crystal structure and magnetic properties of Nd(Mn_(1-x)Fe_x)_2Si_2 compounds
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作者 陈业青 骆军 +2 位作者 梁敬魁 李静波 饶光辉 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第11期4944-4948,共5页
X-ray powder diffraction, resistivity and magnetization studies have been performed on polycrystalline Nd(FexMn1-x)2Si2 (0≤x 〈 1) compounds which crystallize in a ThCr2Si2-type structure with the space group 14/... X-ray powder diffraction, resistivity and magnetization studies have been performed on polycrystalline Nd(FexMn1-x)2Si2 (0≤x 〈 1) compounds which crystallize in a ThCr2Si2-type structure with the space group 14/mmm. The field-cooled temperature dependence of the magnetization curves shows that, at low temperatures, NdFe2Si2 is antiferromagnetic, while the other compounds show ferromagnetic behaviour. The substitution of Fe for Mn leads to a decrease in lattice parameters a, c and unit-cell volume V. The Curie temperature of the compounds first increases, reaches a maximum around x=0.7, then decreases with Fe content. However, the saturation magnetization decreases monotonically with increasing Fe content. This Fe concentration dependent magnetization of Nd(FexMn1-x)2Si2 compounds can be well explained by taking into account the complex effect on magnetic properties due to the substitution of Mn by Fe. The temperature's square dependence on electrical resistivity indicates that the curve of Nd(Fe0.6Mn0.4)2Si2 has a quasi-linear character above its Curie temperature, which is typical of simple metals. 展开更多
关键词 Nd(FexMn1-x)2si2 crystal structure magnetic properties REsiSTIVITY
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High-temperature oxidation behavior of Ti_3Si_((1-x))Al_xC_2 in air
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作者 刘小磐 万隆 +1 位作者 汪洋 马文闵 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2006年第B02期478-482,共5页
The oxidation behaviors of bulk Ti3Si(1-x)AlxC2 prepared by hot pressing were investigated. The results show that the isothermal oxidation behavior of Ti3SiC2 obeys a parabolic law between 900 and 1 100℃and follows a... The oxidation behaviors of bulk Ti3Si(1-x)AlxC2 prepared by hot pressing were investigated. The results show that the isothermal oxidation behavior of Ti3SiC2 obeys a parabolic law between 900 and 1 100℃and follows a two-step parabolic rate law between 1 200℃and 1 300℃. The cyclic oxidation behavior of material is assumed to obey a three-step parabolic rate law at 1 100℃and 1 200℃. The calculated activation energy of isothermal oxidation is 101.43 kJ/mol. The oxide layers which consist of a mass ofα-Al2O3 and little TiO2 and SiO2 are observed on Ti3SiC2 as a dense and adhesive protect scale. The oxidation mechanism varies with the additive aluminum that greatly improves the oxidation resistance of Ti3SiC2. 展开更多
关键词 Ti3si(1-x)AlxC2陶瓷 纳米层压化合物 等温氧化 空气 高温氧化行为
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利用Keating模型计算Si(1-x))Gex及非晶硅的拉曼频移 被引量:3
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作者 段宝兴 杨银堂 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第10期7114-7118,共5页
利用Keating模型计算了Si(1-x)Gex合金中Si—Si,Ge—Ge和Si—Ge三种振动模态的拉曼频移,计算分别获得Ge浓度为0.1,0.5和0.9时,Si—Ge的振动拉曼频移分别为402.75,413.39和388.15cm-1,这些结果与文献的实验结果符合,证明了Keating模型建... 利用Keating模型计算了Si(1-x)Gex合金中Si—Si,Ge—Ge和Si—Ge三种振动模态的拉曼频移,计算分别获得Ge浓度为0.1,0.5和0.9时,Si—Ge的振动拉曼频移分别为402.75,413.39和388.15cm-1,这些结果与文献的实验结果符合,证明了Keating模型建立的关于原子振动模型是有效的,并可以利用拉伸压缩和相邻原子键之间弹性系数变化获得处于应变状态的拉曼光谱频率.利用Keating模型首次计算得到了非晶硅材料的单声子散射峰为477.029cm-1,与文献实验结果480.0cm-1相近,说明了非晶硅中原子的总体效果与晶体硅相比处于拉伸状态. 展开更多
关键词 Keating模型 拉曼光谱 si(1-x)gex 非晶硅
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Ge 组分对应变 Si1-x Gex 沟道 P-MOSFET 电学特性影响 被引量:2
9
作者 杨洲 王茺 +2 位作者 王洪涛 胡伟达 杨宇 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第7期547-552,共6页
利用二维数值模拟方法,研究了不同Ge组分应变Si1-xGex沟道p-MOSFET的电容-电压特性以及阈值电压的变化情况.计算结果表明:提高应变Si1-xGex沟道层中的Ge组分,器件亚阈值电流明显增大;栅电容在器件进入反型状态时产生显著变化;阈值电压... 利用二维数值模拟方法,研究了不同Ge组分应变Si1-xGex沟道p-MOSFET的电容-电压特性以及阈值电压的变化情况.计算结果表明:提高应变Si1-xGex沟道层中的Ge组分,器件亚阈值电流明显增大;栅电容在器件进入反型状态时产生显著变化;阈值电压的改变量与Ge组分基本成线性关系.通过改变Si1-xGex沟道的长度,并结合相关物理模型,在低电场情况下,沟道中的空穴迁移率与总电阻对沟道长度的微分成反比关系. 展开更多
关键词 应变si1-x gex 沟道 P-MOSFET 空穴迁移率 栅电容
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放电等离子烧结Gd/Gd_5Si_2Ge_2复合材料磁热效应研究
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作者 曾宏 岳明 +1 位作者 陈海玲 张久兴 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期872-874,共3页
以高纯钆和Gd5Si2Ge2合金为原料,采用放电等离子烧结技术制备了两组元Gdx(Gd5Si2Ge2)1-x(x=0,0.33,0.5,0.7,1)层状复合磁制冷材料.通过自制的磁热效应测量仪器直接测量了复合材料在外加磁场1.5 T下的磁热效应(ΔTad).随着复合比例的变化... 以高纯钆和Gd5Si2Ge2合金为原料,采用放电等离子烧结技术制备了两组元Gdx(Gd5Si2Ge2)1-x(x=0,0.33,0.5,0.7,1)层状复合磁制冷材料.通过自制的磁热效应测量仪器直接测量了复合材料在外加磁场1.5 T下的磁热效应(ΔTad).随着复合比例的变化,材料的最大绝热温变(ΔTad)从x=0.3时的1.6 K增加到x=0.7时的2.0 K,而最大绝热温变峰的位置从286K变到了293 K.同时,与单组元的Gd5Si2Ge2合金相比,随着钆的含量增加时,复合材料的最大绝热温变峰变宽.当x=0.7时,层状复合磁制冷材料在外加磁场1.5 T下的最大绝热温变(ΔT)在260-310K范围里从1.1 K变到2.0 K,这种材料非常适合作为室温磁制冷材料. 展开更多
关键词 放电等离子烧结 Gdx(Gd5si2Ge2)1-x 复合材料 磁热效应 绝热温变(ΔTad)
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Ge_xSi_(1-x)/Si超晶格的X射线小角衍射分析 被引量:8
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作者 周国良 沈孝良 +2 位作者 盛篪 蒋维栋 俞鸣人 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1991年第1期56-63,共8页
用分子束外延生长了23周期的Ge_xSi_(1-x)/Si超晶格,用计算机控制的衍射仪(Cu K_α辐射)测量了X射线衍射曲线,共观察到13级超晶格结构的衍射峰。超晶格的周期和Ge平均含量可以根据考虑折射修正的布喇格定律得出。用光学多层膜反射理论... 用分子束外延生长了23周期的Ge_xSi_(1-x)/Si超晶格,用计算机控制的衍射仪(Cu K_α辐射)测量了X射线衍射曲线,共观察到13级超晶格结构的衍射峰。超晶格的周期和Ge平均含量可以根据考虑折射修正的布喇格定律得出。用光学多层膜反射理论分析衍射曲线可以确定超晶格的结构参数,第2级衍射峰与第一级峰的强度比对应于超晶格两种材料的相对厚度变化非常灵敏,通过比较实验和计算的I_2/I-1值,可以确定Si,Ge_xSi_(1-x)层的厚度以及合金组份x。用光学多层膜反射理谁计算得到的衍射曲线与实验曲线趋于一致。 展开更多
关键词 gexsi1-x/si 超晶格 X射线 衍射
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Fe_3(Si_(1-x),Al_x)金属间化合物的制备及其力学性能研究
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作者 周琦 贾建刚 +1 位作者 赵红顺 章新民 《华中科技大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期76-79,84,共5页
采用真空电弧熔炼退火制备了Fe3(Si1-x,Alx)(x=0.2,0.4,0.6)Fe3Si基金属间化合物.通过XRD和SEM对制备出的试样进行表征,同时对其显微硬度、压缩强度及弯曲强度等力学性能进行了综合分析.结果表明,Fe3(Si1-x,Alx)金属间化合物仍然保持Fe... 采用真空电弧熔炼退火制备了Fe3(Si1-x,Alx)(x=0.2,0.4,0.6)Fe3Si基金属间化合物.通过XRD和SEM对制备出的试样进行表征,同时对其显微硬度、压缩强度及弯曲强度等力学性能进行了综合分析.结果表明,Fe3(Si1-x,Alx)金属间化合物仍然保持Fe3Si物相不变.Al的合金化改性降低了Fe3Si金属间化合物的显微硬度,有利于改善Fe3Si的脆性.Fe3(Si0.67,Al0.33)表现出较Fe3Si高的抗压和抗弯强度,这是其适中的有序度值与变形过程中加工硬化作用的综合结果.Fe3(Si1-x,Alx)表现出明显的二次解理特征,这利于断裂过程中裂纹能量的释放,从而提高其强度. 展开更多
关键词 Fe3(si1-x Alx) Al的合金化 金属间化合物 真空熔炼 力学性能 强度
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Ge_xSi_(1-x)/Si和Ge/Si应变层超晶格
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作者 陈可明 张翔九 王迅 《物理》 CAS 北大核心 1989年第1期21-26,共6页
GexSi1-x/Si和Ge/Si应变层超晶格是半导体超晶格中新发展起来的一种类型.本文简要地介绍了这类超晶格在生长和物理特性方面的一些基本问题,列举了它在器件应用方面的例子.给出了共度生长时超晶格的临界厚度值,超晶... GexSi1-x/Si和Ge/Si应变层超晶格是半导体超晶格中新发展起来的一种类型.本文简要地介绍了这类超晶格在生长和物理特性方面的一些基本问题,列举了它在器件应用方面的例子.给出了共度生长时超晶格的临界厚度值,超晶格中GexSi1-x合金层能隙随成分的变化,以及界面处的能带失配值等.最后介绍了由Ge,Si原子层有序排列而组成的新晶体. 展开更多
关键词 应变层超晶格 gexsi1-x/si GE/si
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约瑟夫森结阵器件的研究进展 被引量:4
14
作者 郭小玮 迟宗涛 +3 位作者 曹文会 钟青 贺青 李劲劲 《计量学报》 CSCD 北大核心 2013年第4期378-382,共5页
介绍了约瑟夫森效应在电压基准方面的应用,综述了目前国内外对用于电压基准的约瑟夫森结阵的研究和发展过程,重点介绍了国内用于电压基准的Nb/Nb,Si1-x/Nb单结的研究进展。
关键词 计量学 电压基准 约瑟夫森结阵 NB Nb si1-x Nb结
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Rare Earths and Magnetic Refrigeration 被引量:20
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作者 Karl A Gschneidner Vitalij K Pecharsky 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第6期641-647,共7页
Magnetic refrigeration is a revolutionary, efficient, environmentally friendly cooling technology, which is on the threshold of commercialization. The magnetic rare earth materials are utilized as the magnetic refrige... Magnetic refrigeration is a revolutionary, efficient, environmentally friendly cooling technology, which is on the threshold of commercialization. The magnetic rare earth materials are utilized as the magnetic refrigerants in most cooling devices, and for many cooling application the Nd2Fe14B permanent magnets are employed as the source of the magnetic field. The status of the near room temperature magnetic cooling was reviewed. 展开更多
关键词 magnetic refrigeration magnetocaloric effect GADOLINIUM Gd5 si1- x gex 4 La Fe 13 - x six Hy Nd2 Fe14 B permanent magnets active magnetic regenerator cycle rare earths
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