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Sub-nano Layers of Li, Be, and Al on the Si(100) Surface: Electronic Structure and Silicide Formation
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作者 Victor Zavodinsky Oga Gorkusha 《Semiconductor Science and Information Devices》 2023年第1期11-17,共7页
Within the framework of the density functional theory and the pseudopotential method,the electronic structure calculations of the“metal-Si(100)”systems with Li,Be and Al as metal coverings of one to four monolayers(... Within the framework of the density functional theory and the pseudopotential method,the electronic structure calculations of the“metal-Si(100)”systems with Li,Be and Al as metal coverings of one to four monolayers(ML)thickness,were carried out.Calculations showed that band gaps of 1.02 eV,0.98 eV and 0.5 eV,respectively,appear in the densities of electronic states when the thickness of Li,Be and Al coverings is one ML.These gaps disappear with increasing thickness of the metal layers:first in the Li-Si system(for two ML),then in the Al-Si system(for three ML)and then in the Be-Si system(for four ML).This behavior of the band gap can be explained by the passivation of the substrate surface states and the peculiarities of the electronic structure of the adsorbed metals.In common the results can be interpreted as describing the possibility of the formation of a two-dimensional silicide with semiconducting properties in Li-Si(100),Be-Si(100)and Al-Si(100)systems. 展开更多
关键词 Kohn-Sham method PSEUDOPOTENTIALS si(100)surface Sub-nano metal layers Density of states Two-dimensional silicides Semiconducting properties
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Simulation of Nano Si and Al Wires Growth on Si(100) Surface 被引量:2
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作者 吴锋民 黄辉 吴自勤 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第11期1116-1121,共6页
Growth of nano Si and Al wires on the Si(100) surfaces is investigated by computer simulation, including the anisotropic diffusion and the anisotropic sticking. The diffusion rates along and across the substrate dimer... Growth of nano Si and Al wires on the Si(100) surfaces is investigated by computer simulation, including the anisotropic diffusion and the anisotropic sticking. The diffusion rates along and across the substrate dimer rows are different, so are the sticking probabilities of an adatom, at the end sites of existing islands or the side sites. Both one\|dimensional wires of Si and Al are perpendicular to the dimer rows of the substrate, though the diffusion of Si adatoms is contrary to that of Al adatoms, i.e. Si adatoms diffuse faster along the dimer rows while Al adatoms faster across the dimer rows. The simulation results also show that the shape anisotropy of islands is due to the sticking anisotropy rather than the diffusion anisotropy, which is in agreement with the experiments. 展开更多
关键词 硅表面 双向异性 毫线
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Si(100)—As表面钝化作用和氧吸附 被引量:1
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作者 钟战天 王大文 +1 位作者 范越 李承芳 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1990年第2期104-110,共7页
利用自己研制的具有分子束外延系统的表面分析联合谱仪研究了氧与Si(100)—As表面的相互作用。本文进一步证实了As层是Si表面的很好的钝化层,并首次研究了Si(100)—As表面的氧吸附全过程。实验表明,氧的饱和覆盖量为0.5单原子层,即Si表... 利用自己研制的具有分子束外延系统的表面分析联合谱仪研究了氧与Si(100)—As表面的相互作用。本文进一步证实了As层是Si表面的很好的钝化层,并首次研究了Si(100)—As表面的氧吸附全过程。实验表明,氧的饱和覆盖量为0.5单原子层,即Si表面上存在As原子层而使吸附位置减少一半。另外,通过吸附动力学分析得知,Si(100)—As表面的初始粘附系数是5.6×10^(-3),比清洁的Si(100)表面小一个数量级。Si表面上As的钝化作用是Si原子的悬挂键态被As原子的占有孤立对态代替而形成。 展开更多
关键词 si-as表面 纯化效应 氧吸附
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氢原子与H-Si(100)表面作用提取的氢分子角分布研究
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作者 阳生红 CHATELET Marc 《中山大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2007年第6期30-33,共4页
利用可旋转四极质谱仪对氢原子束与氢化Si(100)表面作用中氢提取反应产生的氢分子角分布进行了系统的分析。发现氢原子束与氢化Si(100)表面作用中,从氢化Si(100)表面脱附的氢分子具有较宽的角分布,并可以用函数cosnθf(其中n<1)拟合... 利用可旋转四极质谱仪对氢原子束与氢化Si(100)表面作用中氢提取反应产生的氢分子角分布进行了系统的分析。发现氢原子束与氢化Si(100)表面作用中,从氢化Si(100)表面脱附的氢分子具有较宽的角分布,并可以用函数cosnθf(其中n<1)拟合氢分子角分布。脱附的氢分子角分布与Si(100)表面温度和表面重构模型无关。根据硅表面重构机制,用非活性脱氢模型对实验结果进行了合理的解释。 展开更多
关键词 四极质谱仪 氢化si(100)表面 脱附 氢分子角分布
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乙炔和乙烯分子在Si(100)表面吸附的几何和电子结构的密度泛函研究
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作者 秦改萍 蔡亚萍 +3 位作者 邢伯蕾 李奕 章永凡 李俊 《化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2007年第14期1305-1312,共8页
采用基于第一性原理的密度泛函理论和平板模型对Si(100)表面吸附乙炔和乙烯分子的构型稳定性以及电子结构进行系统研究.结果表明:无论是吸附乙炔还是乙烯分子,当覆盖度为0.5ML时,最为稳定的吸附方式为dimerized模型;当覆盖度增大到1.0ML... 采用基于第一性原理的密度泛函理论和平板模型对Si(100)表面吸附乙炔和乙烯分子的构型稳定性以及电子结构进行系统研究.结果表明:无论是吸附乙炔还是乙烯分子,当覆盖度为0.5ML时,最为稳定的吸附方式为dimerized模型;当覆盖度增大到1.0ML时,end-bridge模型为最稳定的吸附方式.通过对各吸附模型的能带结构分析可知,体系的带隙变化可以通过考察表层Si—Si二聚体中Si原子的配位环境来确定.对于相同的吸附模型,无论吸附分子是乙炔还是乙烯,都具有非常相近的带隙.吸附构型以及吸附分子的覆盖度对最小带隙及其来源有较大影响.此外,研究结果还表明,杂化密度泛函方法更适合于描述Si(100)表面的电子结构,尤其是对end-bridge吸附模型. 展开更多
关键词 密度泛函理论 si(100)表面 乙烯 乙炔 能带结构
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SiO_2层对金刚石膜初期生长影响的研究
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作者 陈岩 陈启谨 +2 位作者 崔玉德 孙碧武 林彰达 《真空科学与技术》 CSCD 1994年第6期396-400,共5页
用俄歇子能谱(AES)研究了热丝法生长金刚石膜中未经划痕处理的单晶硅衬底在不同沉积时间下的表面结构及Si,C,O元素浓度的深度分布。结果表明:在沉积过程中,随沉积时间增加时,基材表面C浓度增加,O浓度下降,但SiC过渡层的生长缓... 用俄歇子能谱(AES)研究了热丝法生长金刚石膜中未经划痕处理的单晶硅衬底在不同沉积时间下的表面结构及Si,C,O元素浓度的深度分布。结果表明:在沉积过程中,随沉积时间增加时,基材表面C浓度增加,O浓度下降,但SiC过渡层的生长缓慢。700℃沉积4h时仍无结构完整的SiC层生成,这是表面SiO2层阻碍了SiC的形成。分析了不经划痕处理的基材形核率低的原因。用高分辨电镜(HREM)观察了生长良好的金刚石膜的膜—基界面,发现没有SiO2层存在。 展开更多
关键词 表面结构 单晶硅衬底 生长速率 氧化硅
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亚100nm应变Si/SiGe nMOSFET阈值电压二维解析模型 被引量:1
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作者 王冠宇 张鹤鸣 +2 位作者 王晓艳 吴铁峰 王斌 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第7期573-581,共9页
本文基于二维泊松方程,建立了适用于亚100nm应变Si/SiGe nMOSFET的阈值电压理论模型.为了保证该模型的准确性,同时考虑了器件尺寸减小所导致的物理效应,如短沟道效应,量子化效应等.通过将模型的计算结果与二维器件模拟器ISE的仿真结果... 本文基于二维泊松方程,建立了适用于亚100nm应变Si/SiGe nMOSFET的阈值电压理论模型.为了保证该模型的准确性,同时考虑了器件尺寸减小所导致的物理效应,如短沟道效应,量子化效应等.通过将模型的计算结果与二维器件模拟器ISE的仿真结果进行对比分析,证明了本文提出的模型的正确性.最后,还讨论了亚100nm器件中常规工艺对阈值电压的影响.该模型为亚100nm小尺寸应变Si器件的分析设计提供了一定的参考. 展开更多
关键词 亚lOOnm 应变si/siGe NMOSFET 二维表面势 阈值电压
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利用湿化学方法在单晶硅表面接枝PDA分子 被引量:1
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作者 戴郁菁 周家宏 《南京师大学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2011年第2期45-49,共5页
通过湿化学方法,首先将H-Si表面氯化得到Cl-Si表面,接着1,4-二氨基苯(PDA)分子与带有Cl-Si表面的单晶硅反应,使得PDA分子通过Si-N键接枝到硅表面.所得Si-N键通过接触角实验,XPS和AFM手段进行表征.本文综合这些数据探讨了反应进行的路线... 通过湿化学方法,首先将H-Si表面氯化得到Cl-Si表面,接着1,4-二氨基苯(PDA)分子与带有Cl-Si表面的单晶硅反应,使得PDA分子通过Si-N键接枝到硅表面.所得Si-N键通过接触角实验,XPS和AFM手段进行表征.本文综合这些数据探讨了反应进行的路线和机理.这种简单的方法提供了新的路线将功能共轭分子嫁接到半导体材料表面,为分子器件的制备提供了新的思路. 展开更多
关键词 PDA 单晶硅 嫁接 表面
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Sr/Si(100)表面TiSi_2纳米岛的扫描隧道显微镜研究 被引量:1
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作者 杨景景 杜文汉 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期598-603,共6页
为了解半导体衬底与氧化物之间存在的相互作用,以及量子尺寸效应对不同再构体的影响,制备了1—2个原子层厚的TiSi2/Si(100)纳米岛,并使用扫描隧道显微镜(STM)表征手段详细地研究了TiSi2/Si(100)纳米岛的电子和几何特性.结果发现:这些纳... 为了解半导体衬底与氧化物之间存在的相互作用,以及量子尺寸效应对不同再构体的影响,制备了1—2个原子层厚的TiSi2/Si(100)纳米岛,并使用扫描隧道显微镜(STM)表征手段详细地研究了TiSi2/Si(100)纳米岛的电子和几何特性.结果发现:这些纳米岛表面显示出明显的金属性;其空态STM图像具有典型的偏压依赖性:在高偏压下STM图像由三聚物形成的单胞构成,并在低偏压下STM图像显示为密堆积的图案,这些不同的图案反映出不同能量位的态密度有明显差异. 展开更多
关键词 Tisi2纳米岛 Sr/si(100)表面 扫描隧道显微镜
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饱和吸附H原子的Si(100)表面的光学二次谐波研究
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作者 蒋红兵 刘杨华 +2 位作者 陆兴泽 王文澄 郑家骠 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第3期377-380,共4页
测量了Si(100)(2×1)-H表面和Si(100)(3×1)-H表面的反射二次谐波强度随温度的变化关系,并与清洁的Si(100)(2×1)表面进行了比较。Si(100)(2×1)表面和Si(100... 测量了Si(100)(2×1)-H表面和Si(100)(3×1)-H表面的反射二次谐波强度随温度的变化关系,并与清洁的Si(100)(2×1)表面进行了比较。Si(100)(2×1)表面和Si(100)(3×1)-H表面的二次谐波强度随温度的上升而单调地减小,Si(100)(2×1)-H表面二次谐波强度随温度的变化不是单调的,约在470K时信号最大。可以根据二次谐波信号的强度及其随温度的变化关系来确定样品温度和表面结构。 展开更多
关键词 光学二次谐波 si(100)表面 H原子 饱和吸附
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锰及其硅化物在Si(100)表面的反应外延生长
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作者 孙静静 邹志强 +2 位作者 王丹 赵明海 陈礼 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第6期564-568,共5页
采用超高真空分子束外延-扫描隧道显微镜(UHVMBE-STM)系统研究了不同温度下锰及其硅化物在Si(100)-2×1重构表面上的外延生长情况。实验结果表明当生长过程中衬底温度控制在室温到135℃时,生成大小基本一致的锰纳米团簇;当衬底温度... 采用超高真空分子束外延-扫描隧道显微镜(UHVMBE-STM)系统研究了不同温度下锰及其硅化物在Si(100)-2×1重构表面上的外延生长情况。实验结果表明当生长过程中衬底温度控制在室温到135℃时,生成大小基本一致的锰纳米团簇;当衬底温度达到210℃时锰与硅开始发生反应,形成硅化物,并有纳米线结构出现;当衬底温度达到330℃时,纳米线完全被棒状物或不规则的三维岛状硅化物取代。随着沉积时衬底温度升高,生成物的成核密度与生长温度的关系与经典的二维岛成核理论相符合。 展开更多
关键词 扫描隧道显微镜(STM) si(100)-2×1重构表面 纳米线 棒状物 三维岛状硅化物
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Si(100)(2×1)表面光学二次谐波强度随温度的变化关系
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作者 蒋红兵 刘杨华 +2 位作者 陆兴泽 王文澄 郑家骠 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第6期648-652,共5页
通过测量基频光波长为1.064μm时几个不同掺杂类型和掺杂浓度的Si(100)(2×1)样品表面反射二次谐波强度随温度的变化关系,说明在此波长上二次谐波不是来源于表面耗尽场的影响,而是来源于表面态电子。Si(10... 通过测量基频光波长为1.064μm时几个不同掺杂类型和掺杂浓度的Si(100)(2×1)样品表面反射二次谐波强度随温度的变化关系,说明在此波长上二次谐波不是来源于表面耗尽场的影响,而是来源于表面态电子。Si(100)(2×1)表面反射二次谐波强度反比于温度的平方。本文提出了一个简单模型,给出了初步解释。 展开更多
关键词 光学二次谐波 单晶硅 表面态
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点缺陷对γ-TiAl(100)表面O原子吸附和扩散影响的第一性原理研究 被引量:1
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作者 周立颖 王福合 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第11期1387-1391,共5页
利用基于密度泛函理论的第一性原理计算了γ-TiAl(100)表面附近空位、Si和W掺杂的形成能,以及它们对O原子在该表面附近吸附和扩散的影响.计算结果表明,在掺杂体系中,Si原子更容易替代表面第1层Al原子的位置,而W原子更容易替代表面第2层T... 利用基于密度泛函理论的第一性原理计算了γ-TiAl(100)表面附近空位、Si和W掺杂的形成能,以及它们对O原子在该表面附近吸附和扩散的影响.计算结果表明,在掺杂体系中,Si原子更容易替代表面第1层Al原子的位置,而W原子更容易替代表面第2层Ti原子的位置,且2者均使其近邻吸附O原子的吸附能升高.因此,Si更容易偏析在表面第1层上,而W更容易偏析在表面第2层上,且抑制了O原子在γ-TiAl(100)表面的吸附.在空位缺陷体系中,表面第1层Ti原子空位比Al原子空位更易形成.在干净表面、Ti空位表面,Si掺杂和W掺杂表面体系中,O原子从表面上到表面下第2层扩散的能垒分别为1.98,1.34,2.53和2.69 eV,相对于干净表面,Ti空位缺陷的形成使得O原子在,γ-TiAl(100)表面附近的扩散更加容易,而Si和W掺杂使得O原子在γ-TiAl(100)表面上的扩散更加困难. 展开更多
关键词 Γ-TIAL (100)表面 si掺杂 W掺杂 空位 O的扩散
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