硅铝基柱撑蒙脱石的红外光谱研究

以钠基蒙脱石为原料,采用共聚法制备Si/Al柱化剂并合成Si/Al基柱撑蒙脱石。本实验研究了不同Si/Al摩尔比例和不同水浴温度条件下,对柱撑蒙脱石的影响。XRD结果表明,当Si/Al摩尔比例为1∶1,水浴温度为60℃,加入100mL0.4mol/LNaOH时可得到(001)面网间距达2.0701nm的Si/Al基柱撑蒙脱石。通过不同温度焙烧后蒙脱石的FI-IR分析,发现Si/Al聚合阳离子交换蒙脱石矿物层间域的阳离子后,改变了蒙脱石硅氧四面体中顶氧和底氧伸缩振动的强度,Si/Al二元聚合阳离子替代了一部分Al13聚体而与底氧发生了化学键合,形成了稳定的[Si-O]…[H(O)-Al(Si)]氢键,从理论上解释了Si/Al基柱撑蒙脱石热稳定性较高的原因。