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高能Si^+注入Sl-GaAs形成n型埋层
被引量:
2
1
作者
姬成周
李国辉
+3 位作者
吴瑜光
罗晏
王琦
王文勋
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1991年第3期245-249,共5页
本文报导0.6~5MeV高能Si^+离子注入LEC半绝缘GaAs的快速退火效果,在950℃温度下退火5秒得到最佳电特性.采用多能量叠加注入已制备出平均深度在1.2μm,厚约1.7μm的n^+深埋层,载流子浓度为3~5×10^(17)cm^(-3).在近表面单晶层上作...
本文报导0.6~5MeV高能Si^+离子注入LEC半绝缘GaAs的快速退火效果,在950℃温度下退火5秒得到最佳电特性.采用多能量叠加注入已制备出平均深度在1.2μm,厚约1.7μm的n^+深埋层,载流子浓度为3~5×10^(17)cm^(-3).在近表面单晶层上作成了性能良好的肖特基接触,其势垒高度约为0.7V.
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关键词
离子
注入
si
-GAAS
埋层
si注入
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职称材料
Si离子注入对SIMOX SOI材料抗总剂量辐照性能的影响(英文)
2
作者
杨慧
张恩霞
张正选
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第3期323-326,共4页
为了提高SIMOX SOI材料抗总剂量辐照的能力,采用硅注入绝缘埋层后退火得到改性的SIMOX SOI材料.辐照前后,用pseudo-MOSFET方法测试样品的ID-VG特性曲线.结果表明,合适的硅离子注入工艺能有效提高材料抗总剂量辐照的能力.
关键词
si
MOX
SOI
si
离子
注入
总剂量辐照效应
pseudo-MOS
下载PDF
职称材料
Si离子注入对TiN薄膜的微观结构和力学性能的影响
3
作者
秦华
陶冶
邓斌
《物理测试》
CAS
2012年第3期31-34,共4页
采用MEVVA离子源技术对由磁过滤阴极真空电弧沉积的TiN薄膜注入不同剂量的Si元素,利用XPS和纳米硬度仪表征Si离子注入后化学成分、元素键合状态以及硬度的变化。结果表明,Si离子注入后,薄膜表面硬度得到提高,5×1016 ions/cm2的样...
采用MEVVA离子源技术对由磁过滤阴极真空电弧沉积的TiN薄膜注入不同剂量的Si元素,利用XPS和纳米硬度仪表征Si离子注入后化学成分、元素键合状态以及硬度的变化。结果表明,Si离子注入后,薄膜表面硬度得到提高,5×1016 ions/cm2的样品硬度峰值从27.18GPa增加到39.85GPa,随着注入剂量的增加,纳米硬度峰值有下降的趋势,1×1017 ions/cm2的样品硬度峰值为33.27GPa,但表面改性层的深度增加,纳米硬度在一定的深度范围内得到了整体的提高。离子注入使薄膜表面层的弹性模量显著提高,表层弹性模量随注入剂量的增加而提高。并且由于Si元素的注入,形成了新的微结构相Si3N4,新相的含量与注入剂量有关。
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关键词
TIN薄膜
si
离子
注入
纳米硬度
XPS
原文传递
题名
高能Si^+注入Sl-GaAs形成n型埋层
被引量:
2
1
作者
姬成周
李国辉
吴瑜光
罗晏
王琦
王文勋
机构
北京师范大学低能核物理研究所
北京师范大学分析测试中心
出处
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1991年第3期245-249,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目
文摘
本文报导0.6~5MeV高能Si^+离子注入LEC半绝缘GaAs的快速退火效果,在950℃温度下退火5秒得到最佳电特性.采用多能量叠加注入已制备出平均深度在1.2μm,厚约1.7μm的n^+深埋层,载流子浓度为3~5×10^(17)cm^(-3).在近表面单晶层上作成了性能良好的肖特基接触,其势垒高度约为0.7V.
关键词
离子
注入
si
-GAAS
埋层
si注入
分类号
TN305.3 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
Si离子注入对SIMOX SOI材料抗总剂量辐照性能的影响(英文)
2
作者
杨慧
张恩霞
张正选
机构
中国科学院上海微系统与信息技术研究所信息功能材料国家重点实验室
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第3期323-326,共4页
文摘
为了提高SIMOX SOI材料抗总剂量辐照的能力,采用硅注入绝缘埋层后退火得到改性的SIMOX SOI材料.辐照前后,用pseudo-MOSFET方法测试样品的ID-VG特性曲线.结果表明,合适的硅离子注入工艺能有效提高材料抗总剂量辐照的能力.
关键词
si
MOX
SOI
si
离子
注入
总剂量辐照效应
pseudo-MOS
Keywords
si
MOX
SOI
si
ion implantation
total-dose radiation effect
pseudo-MOS
分类号
TN304 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
Si离子注入对TiN薄膜的微观结构和力学性能的影响
3
作者
秦华
陶冶
邓斌
机构
北京航空航天大学材料科学与工程学院
出处
《物理测试》
CAS
2012年第3期31-34,共4页
文摘
采用MEVVA离子源技术对由磁过滤阴极真空电弧沉积的TiN薄膜注入不同剂量的Si元素,利用XPS和纳米硬度仪表征Si离子注入后化学成分、元素键合状态以及硬度的变化。结果表明,Si离子注入后,薄膜表面硬度得到提高,5×1016 ions/cm2的样品硬度峰值从27.18GPa增加到39.85GPa,随着注入剂量的增加,纳米硬度峰值有下降的趋势,1×1017 ions/cm2的样品硬度峰值为33.27GPa,但表面改性层的深度增加,纳米硬度在一定的深度范围内得到了整体的提高。离子注入使薄膜表面层的弹性模量显著提高,表层弹性模量随注入剂量的增加而提高。并且由于Si元素的注入,形成了新的微结构相Si3N4,新相的含量与注入剂量有关。
关键词
TIN薄膜
si
离子
注入
纳米硬度
XPS
Keywords
TiN coatings
si
-ion implantation
nanohardness
XPS
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
高能Si^+注入Sl-GaAs形成n型埋层
姬成周
李国辉
吴瑜光
罗晏
王琦
王文勋
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1991
2
下载PDF
职称材料
2
Si离子注入对SIMOX SOI材料抗总剂量辐照性能的影响(英文)
杨慧
张恩霞
张正选
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007
0
下载PDF
职称材料
3
Si离子注入对TiN薄膜的微观结构和力学性能的影响
秦华
陶冶
邓斌
《物理测试》
CAS
2012
0
原文传递
已选择
0
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