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Si间隔层对Al(1wt.%Si)/Zr极紫外多层膜热稳定的作用研究(英文) 被引量:1
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作者 李嘉 朱杰 +3 位作者 张众 齐润泽 钟奇 王占山 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2015年第4期1335-1342,共8页
为了提升Al/Zr多层膜的热稳定性,采用直流磁控溅射方法制备了18个带有不同厚度Si间隔层的Al(1 wt.%Si)/Zr多层膜,并将这些样品分别进行了不同温度(100-500℃)的真空退火,退火时间为1 h。利用X射线掠入射反射(GIXR)和X射线衍射(XR... 为了提升Al/Zr多层膜的热稳定性,采用直流磁控溅射方法制备了18个带有不同厚度Si间隔层的Al(1 wt.%Si)/Zr多层膜,并将这些样品分别进行了不同温度(100-500℃)的真空退火,退火时间为1 h。利用X射线掠入射反射(GIXR)和X射线衍射(XRD)的方法来研究Si间隔层对Al/Zr多层膜热稳定性的作用。GIXR测量结果表明:随着Si间隔层厚度的增大,Al膜层的粗糙度减小,而Zr膜层的粗糙度增大;XRD测量结果表明:Al和Zr膜层粗糙度的变化是由于退火后膜层中晶粒尺寸不同造成的。相比于没有Si间隔层的Al/Zr多层膜,引入厚度为0.6 nm的Si间隔层可以有效提升Al/Zr多层膜的热稳定性。 展开更多
关键词 Al/Zr多 热稳定性 si间隔层 合金界面模型
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