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在复合衬底γ-Al_2O_3/Si(001)上生长GaN 被引量:1
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作者 刘喆 王军喜 +7 位作者 李晋闽 刘宏新 王启元 王俊 张南红 肖红领 王晓亮 曾一平 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第12期2378-2384,共7页
采用分子束外延(MBE)生长方法,使用γAl2O3材料作为新型过渡层,在Si(001)衬底上获得了没有裂纹的GaN外延层,实验结果表明使用γAl2O3过渡层有效地缓解了外延层中的应力.通过生长并测试分析几种不同结构的外延材料,研究了复合衬底γAl2O3... 采用分子束外延(MBE)生长方法,使用γAl2O3材料作为新型过渡层,在Si(001)衬底上获得了没有裂纹的GaN外延层,实验结果表明使用γAl2O3过渡层有效地缓解了外延层中的应力.通过生长并测试分析几种不同结构的外延材料,研究了复合衬底γAl2O3/Si(001)生长GaN情况,得到了六方相GaN单晶材料,实现了GaNc面生长.预铺薄层Al及高温AlN层可以提高GaN晶体质量,低温AlN缓冲层可以改善GaN表面的粗糙度.为解决Si(001)衬底上GaN的生长问题提供了有益的探索. 展开更多
关键词 GAN MBE Γ-AL2o3 缓冲层
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STM observation of pit formation and evolution during the epitaxial growth of Si on Si(001) surface
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作者 徐茂杰 Jeyanthinath Mayandi +3 位作者 王学森 贾金锋 薛其坤 窦晓鸣 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第10期360-363,共4页
Pit formation and surface morphological evolution in Si(001) homoepitaxy are investigated by using scanning tunneling microscopy. Anti-phase boundary is found to give rise to initial generation of pits bound by bunc... Pit formation and surface morphological evolution in Si(001) homoepitaxy are investigated by using scanning tunneling microscopy. Anti-phase boundary is found to give rise to initial generation of pits bound by bunched DB steps. The terraces break up and are reduced to a critical nucleus size with pit formation. Due to anisotropic kinetics, a downhill bias diffusion current, which is larger along the dimer rows through the centre area of the terrace than through the area close to the edge, leads to the prevalence of pits bound by {101} facets. Subsequent annealing results in a shape transition from {101)-faceted pits to multi-faceted pits. 展开更多
关键词 PIT FACET HoMoEPITAXY si(o01)
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不同覆盖度下Li原子在Si(001)表面上的吸附构型和电子结构 被引量:2
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作者 倪碧莲 蔡亚萍 +2 位作者 李奕 丁开宁 章永凡 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2009年第8期1535-1544,共10页
采用基于赝势平面波基组的密度泛函理论,对不同Li原子覆盖度下Li/Si(001)体系的吸附构型、电子结构以及吸附Li原子对表面性质的影响进行了系统研究.计算结果表明,在所考察的覆盖度范围内,Li原子倾向于吸附在相邻两个Si-Si二聚体之间各... 采用基于赝势平面波基组的密度泛函理论,对不同Li原子覆盖度下Li/Si(001)体系的吸附构型、电子结构以及吸附Li原子对表面性质的影响进行了系统研究.计算结果表明,在所考察的覆盖度范围内,Li原子倾向于吸附在相邻两个Si-Si二聚体之间各种对称性较高的空穴位,其中覆盖度为0.75ML(monolayer)时具有最小的平均吸附能.由能带结构分析结果可知,随着覆盖度的增大,Si(001)表面存在由半导体→导体→半导体的变化过程.在覆盖度为1.00ML时,由于表层二聚体均受到显著破坏,使得体系带隙明显增大.吸附后,有较多电子从Li原子转移到底物,导致Si(001)表面功函显著下降,并随着覆盖度的增加表面功函呈现振荡变化.此外,从热力学稳定性角度上看,覆盖度为0.75ML的Li/Si(001)表面较难形成. 展开更多
关键词 密度泛函理论 碱金属 表面吸附 能带结构 si(001)表面
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Si(001)-p(2×2)表面原子结构与电子态的第一性原理研究
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作者 刘芳 赵华 +2 位作者 周武雷 郑勇 杨宇 《材料导报(纳米与新材料专辑)》 EI CAS 2015年第2期156-159,185,共5页
采用基于第一性原理的密度泛函方法对Si(001)-p(2×2)表面的原子结构和电子态进行了系统的研究。计算采用的是含有8个Si原子层的超晶胞结构,且电子态是由Si(001)-p(2×2)表面的优化结构分析所得。计算结果表明表面形成了非对称... 采用基于第一性原理的密度泛函方法对Si(001)-p(2×2)表面的原子结构和电子态进行了系统的研究。计算采用的是含有8个Si原子层的超晶胞结构,且电子态是由Si(001)-p(2×2)表面的优化结构分析所得。计算结果表明表面形成了非对称二聚体,近表面几层原子发生相应的弛豫现象。由于表面原子的配位环境发生变化,表面原子的电荷分布也发生了变化。通过对比,得到了与实验结果一致的计算结果。 展开更多
关键词 si(001)-p(2×2) 原子结构态密度 布居分析第一性原理
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