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过渡金属催化卤硅烷转化构建硅碳键反应研究进展
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作者 王雪松 曹建 《杭州师范大学学报(自然科学版)》 CAS 2024年第6期627-642,651,共17页
有机硅化合物在有机合成中具有广泛的应用,开发在分子中引入硅原子的高效方法备受关注.文章从格氏试剂促进反应、silyl-Heck反应、silyl-Negishi反应、过渡金属催化下的交叉偶联反应等方面对近20年硅碳键的构建研究进行了综述,发现硅卤... 有机硅化合物在有机合成中具有广泛的应用,开发在分子中引入硅原子的高效方法备受关注.文章从格氏试剂促进反应、silyl-Heck反应、silyl-Negishi反应、过渡金属催化下的交叉偶联反应等方面对近20年硅碳键的构建研究进行了综述,发现硅卤键键能较高是利用卤硅烷构建硅碳键时存在的主要问题.因此,扩展氯硅烷的底物范围,开发更为有利的反应条件将是未来需要探讨的话题. 展开更多
关键词 过渡金属 卤硅烷 si-c键合成 Si-X断裂
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