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预注入对Si_(1-x)C_x合金形成的影响
被引量:
1
1
作者
王引书
李晋闽
+3 位作者
王衍斌
王玉田
孙国胜
林兰英
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第7期1329-1333,共5页
室温下在单晶Si中注入 (0 6— 1 5 )at%的C原子 ,部分样品在C离子注入之前在其中注入2 9Si+ 离子产生损伤 ,然后在相同条件下利用高温退火固相外延了Si1 -xCx 合金 ,研究了预注入对Si1 -xCx 合金形成的影响 .如果注入C离子的剂量小于引...
室温下在单晶Si中注入 (0 6— 1 5 )at%的C原子 ,部分样品在C离子注入之前在其中注入2 9Si+ 离子产生损伤 ,然后在相同条件下利用高温退火固相外延了Si1 -xCx 合金 ,研究了预注入对Si1 -xCx 合金形成的影响 .如果注入C离子的剂量小于引起Si非晶化的剂量 ,在 95 0℃退火过程中注入产生的损伤缺陷容易与C原子结合形成缺陷团簇 ,难于形成Si1 -xCx 合金 ,预注入形成的损伤有利于合金的形成 .随着C离子剂量的增大 ,注入产生的损伤增强 ,预注入反而不利于Si1 -xCx 合金的形成 ,但当注入C原子的浓度超过固相外延的溶解度时 ,预注入的影响可以忽略 .退火温度升高到 10 5 0℃ ,无论预注入还是未预注入样品 ,C含量低的合金相仍然保留 ,而C含量高的合金相大部分消失 .
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关键词
离子注入
固相外延
si1-xcx合金
损伤
形成机理
原文传递
题名
预注入对Si_(1-x)C_x合金形成的影响
被引量:
1
1
作者
王引书
李晋闽
王衍斌
王玉田
孙国胜
林兰英
机构
北京师范大学物理系
中国科学院半导体研究所
中国科学院近代物理研究所
出处
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第7期1329-1333,共5页
文摘
室温下在单晶Si中注入 (0 6— 1 5 )at%的C原子 ,部分样品在C离子注入之前在其中注入2 9Si+ 离子产生损伤 ,然后在相同条件下利用高温退火固相外延了Si1 -xCx 合金 ,研究了预注入对Si1 -xCx 合金形成的影响 .如果注入C离子的剂量小于引起Si非晶化的剂量 ,在 95 0℃退火过程中注入产生的损伤缺陷容易与C原子结合形成缺陷团簇 ,难于形成Si1 -xCx 合金 ,预注入形成的损伤有利于合金的形成 .随着C离子剂量的增大 ,注入产生的损伤增强 ,预注入反而不利于Si1 -xCx 合金的形成 ,但当注入C原子的浓度超过固相外延的溶解度时 ,预注入的影响可以忽略 .退火温度升高到 10 5 0℃ ,无论预注入还是未预注入样品 ,C含量低的合金相仍然保留 ,而C含量高的合金相大部分消失 .
关键词
离子注入
固相外延
si1-xcx合金
损伤
形成机理
Keywords
ion implantation
solid phase epitaxy
si
1
-xcx
alloy
分类号
TG13 [一般工业技术—材料科学与工程]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
预注入对Si_(1-x)C_x合金形成的影响
王引书
李晋闽
王衍斌
王玉田
孙国胜
林兰英
《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001
1
原文传递
已选择
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