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p-Si/n-Ga_(2)O_(3)异质结制备与特性研究
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作者 陈沛然 焦腾 +6 位作者 陈威 党新明 刁肇悌 李政达 韩宇 于含 董鑫 《人工晶体学报》 北大核心 2024年第1期73-81,共9页
本实验采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)工艺,在p(111)型Si衬底上制备了p-Si/n-Ga_(2)O_(3)结构的PN结。通过X射线衍射仪、原子力显微镜等对样品进行了晶体结构、表面形貌、表面粗糙度等的表征分析;通过磁控溅射与蒸镀方法在样品上生长T... 本实验采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)工艺,在p(111)型Si衬底上制备了p-Si/n-Ga_(2)O_(3)结构的PN结。通过X射线衍射仪、原子力显微镜等对样品进行了晶体结构、表面形貌、表面粗糙度等的表征分析;通过磁控溅射与蒸镀方法在样品上生长Ti/Au电极并进行I-V特性曲线、开启电压、开关电流比、反向饱和电流、理想因子、零偏压下的势垒高度等结特性测试,研究了掺杂浓度与薄膜厚度对PN结特性的影响,并对其原因进行了分析;通过二步生长法和缓冲层温度优化实验,减少了Si衬底与β-Ga_(2)O_(3)之间的晶格失配与热失配带来的影响,对薄膜与器件特性进行了优化。最终获得了表面粗糙度最低可达到4.21 nm的高质量n型β-Ga_(2)O_(3)薄膜,以及具有较低理想因子(42.1)的PN结。 展开更多
关键词 β-Ga_(2)O_(3)薄膜 金属有机化学气相沉积 p-si/n-Ga_(2)O_(3) Pn 晶体质量 电学特性
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Numerical Analysis on the Effect of n-Si on Cu(In, Ga)Se2 Based Thin-Films for High-Performance Solar Cells by 1D-SCAPS
2
作者 Rasika N. Mohottige Micheal Farndale +1 位作者 Gary S. Coombs Shahnoza Saburhhojayeva 《Open Journal of Applied Sciences》 2024年第5期1315-1329,共15页
We report the performances of a chalcopyrite Cu(In, Ga)Se<sub>2 </sub>CIGS-based thin-film solar cell with a newly employed high conductive n-Si layer. The data analysis was performed with the help of the ... We report the performances of a chalcopyrite Cu(In, Ga)Se<sub>2 </sub>CIGS-based thin-film solar cell with a newly employed high conductive n-Si layer. The data analysis was performed with the help of the 1D-Solar Cell Capacitance Simulator (1D-SCAPS) software program. The new device structure is based on the CIGS layer as the absorber layer, n-Si as the high conductive layer, i-In<sub>2</sub>S<sub>3</sub>, and i-ZnO as the buffer and window layers, respectively. The optimum CIGS bandgap was determined first and used to simulate and analyze the cell performance throughout the experiment. This analysis revealed that the absorber layer’s optimum bandgap value has to be 1.4 eV to achieve maximum efficiency of 22.57%. Subsequently, output solar cell parameters were analyzed as a function of CIGS layer thickness, defect density, and the operating temperature with an optimized n-Si layer. The newly modeled device has a p-CIGS/n-Si/In<sub>2</sub>S<sub>3</sub>/Al-ZnO structure. The main objective was to improve the overall cell performance while optimizing the thickness of absorber layers, defect density, bandgap, and operating temperature with the newly employed optimized n-Si layer. The increase of absorber layer thickness from 0.2 - 2 µm showed an upward trend in the cell’s performance, while the increase of defect density and operating temperature showed a downward trend in solar cell performance. This study illustrates that the proposed cell structure shows higher cell performances and can be fabricated on the lab-scale and industrial levels. 展开更多
关键词 n-si p-CIGS 1D-SCAPS Thin-Films In2S3
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纳米Si_2N_2O-Sialon陶瓷超塑性挤压试验与模拟研究 被引量:4
3
作者 王守玉 骆俊廷 《塑性工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2011年第2期37-40,共4页
文章以Y2O3和Al2O3纳米粉体作为烧结助剂,真空热压烧结非晶纳米Si3N4粉体和纳米AlN混合粉体,制备具有超塑性的平均晶粒直径小于100nm的Si2N2O-Sialon复相陶瓷,研究纳米复相陶瓷的超塑性挤压性能。在1550℃的低温下,纳米Si2N2O-Sialon复... 文章以Y2O3和Al2O3纳米粉体作为烧结助剂,真空热压烧结非晶纳米Si3N4粉体和纳米AlN混合粉体,制备具有超塑性的平均晶粒直径小于100nm的Si2N2O-Sialon复相陶瓷,研究纳米复相陶瓷的超塑性挤压性能。在1550℃的低温下,纳米Si2N2O-Sialon复相陶瓷实现了以1mm/s的高速率、3.57大挤压比的挤压变形,成形出良好的制件。采用有限元技术模拟Si2N2O-Sialon陶瓷的超塑性挤压过程,得出了不同温度挤压变形的力和行程曲线,以及挤压成形过程中应力和应变的分布情况,与实验结果进行比较,分析了纳米陶瓷超塑性变形的基本规律。研究表明,纳米Si2N2O-Sialon陶瓷具有较好的超塑性,可实现大挤压比挤压变形,可以进行工程陶瓷零件的超塑性成形。 展开更多
关键词 si2n2o-sialon 纳米陶瓷 挤压 有限元模拟
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纳米Si_2N_2O-Sialon陶瓷齿轮超塑性锻造研究 被引量:1
4
作者 顾勇飞 骆俊廷 +2 位作者 温雅丽 徐艳霞 李洪波 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第13期1620-1622,1628,共4页
采用Deform有限元软件对纳米Si2N2O-Sialon陶瓷超塑性锻造成形过程进行模拟,较直观地预测了齿轮成形过程中齿形充填情况。在1550℃,纳米Si2N2O-Sialon陶瓷显示出良好的超塑性成形性能,通过试验,超塑性锻造成形出了质量良好的齿轮零件。... 采用Deform有限元软件对纳米Si2N2O-Sialon陶瓷超塑性锻造成形过程进行模拟,较直观地预测了齿轮成形过程中齿形充填情况。在1550℃,纳米Si2N2O-Sialon陶瓷显示出良好的超塑性成形性能,通过试验,超塑性锻造成形出了质量良好的齿轮零件。在模拟与试验的基础上,通过与金属齿轮的齿形充填情况进行对比,建立了陶瓷齿轮齿形充填模型,得到了纳米陶瓷齿轮超塑性锻造成形的基本规律:陶瓷齿轮锻造过程中齿形充填过程分为5个基本阶段,与金属齿轮锻造成形充填过程相比,齿形前端的鼓形量和齿形侧面的鼓形量明显较小。 展开更多
关键词 si2n2o-sialon 纳米陶瓷 超塑性锻造 有限元模拟
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Si(NH)_2热分解法制备Si_3N_4晶须的影响因素 被引量:6
5
作者 毕玉惠 陈斐 +2 位作者 李君 张东明 张联盟 《武汉理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期8-11,共4页
利用Si(NH)2热分解法制备了Si3N4晶须,对实验原理和实验过程进行了详细描述,对实验中存在的温度、残留碳、微量氧、坩埚材质等可能影响晶须生长的诸多因素进行了分析讨论,说明了诸影响因素的影响程度和参与机理。通过对工艺过程中诸影... 利用Si(NH)2热分解法制备了Si3N4晶须,对实验原理和实验过程进行了详细描述,对实验中存在的温度、残留碳、微量氧、坩埚材质等可能影响晶须生长的诸多因素进行了分析讨论,说明了诸影响因素的影响程度和参与机理。通过对工艺过程中诸影响因素的控制,可以制备高质量Si3N4晶须或改性Si3N4晶须,对研究开发该法批量生产性能优异的Si3N4晶须的工作具有重要的参考意义。 展开更多
关键词 si(nH)2 si3n4晶须 影响因素 α—sialon
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添加ZrO_2对Si_3N_4复合陶瓷材料力学性能的影响 被引量:8
6
作者 李荐 李淳伟 +4 位作者 夏亨 刘凡 李艳芬 杨亮 杨俊 《稀有金属与硬质合金》 CAS CSCD 北大核心 2012年第1期38-40,47,共4页
通过无压烧结制备了ZrO2-Si3N4复合陶瓷材料,并以排水法、SEM和DDL100型万能拉伸机进行表征。研究了ZrO2含量对Si3N4陶瓷的致密度、显微结构和力学性能的影响。结果表明,随着ZrO2含量的增加,Si3N4陶瓷致密度增加;抗弯强度和断裂韧性先... 通过无压烧结制备了ZrO2-Si3N4复合陶瓷材料,并以排水法、SEM和DDL100型万能拉伸机进行表征。研究了ZrO2含量对Si3N4陶瓷的致密度、显微结构和力学性能的影响。结果表明,随着ZrO2含量的增加,Si3N4陶瓷致密度增加;抗弯强度和断裂韧性先增大后减小,当ZrO2含量达到10%时,Si3N4的抗弯强度和断裂韧性同时达到最大值,分别为362MPa和7.0MPa.m1/2。ZrO2增韧Si3N4陶瓷的机制为应力诱导相变。 展开更多
关键词 si3n4陶瓷 ZRO2增韧 致密度 显微结构 力学性能
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SiO_2/(Si_3N_4+BN)透波材料表面涂层的防潮性能和透波性能研究 被引量:10
7
作者 李俊生 张长瑞 +2 位作者 王思青 曹峰 王衍飞 《涂料工业》 CAS CSCD 2007年第1期5-7,10,共4页
SiO2/(Si3N4+BN)复合材料是近几年发展起来的综合性能优良的适用于高马赫数的导弹天线罩材料。本文分析了SiO2/(Si3N4+BN)复合材料的吸潮机理。采用有机硅树脂在SiO2/(Si3N4+BN)复合材料表面制备了防潮涂层,取得较好的防... SiO2/(Si3N4+BN)复合材料是近几年发展起来的综合性能优良的适用于高马赫数的导弹天线罩材料。本文分析了SiO2/(Si3N4+BN)复合材料的吸潮机理。采用有机硅树脂在SiO2/(Si3N4+BN)复合材料表面制备了防潮涂层,取得较好的防潮效果。涂装后SiO2/(Si3N4+BN)复合材料在40℃、90%的高温高湿条件下放置15d的吸水率约0.30%;在大气环境下(温度27-30℃,湿度45-60%)的吸水率小于0.01%。涂层对SiO2/(Si3N4+BN)复合材料的透波率影响较小,涂装后材料的透波率仍然能保持在85%以上。 展开更多
关键词 siO2/(si3n4+Bn) 透波率 防潮涂层 吸水率
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Fe2O3对碳热还原氮化SiO2合成Si2N2O的催化效应及机理 被引量:5
8
作者 李晓雷 王健 +1 位作者 季惠明 徐雄文 《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2012年第2期95-98,共4页
采用碳热还原氮化SiO2的方法在1 500℃制备了Si2N2O,并通过XRD和热失重分析,研究了Fe2O3对合成Si2N2O的催化作用及机理。Fe2O3对Si2N2O的合成具有显著的催化作用,加入少量Fe2O3可以使SiO2的转化率达到100%。Fe2O3的催化机理为:一方面,Fe... 采用碳热还原氮化SiO2的方法在1 500℃制备了Si2N2O,并通过XRD和热失重分析,研究了Fe2O3对合成Si2N2O的催化作用及机理。Fe2O3对Si2N2O的合成具有显著的催化作用,加入少量Fe2O3可以使SiO2的转化率达到100%。Fe2O3的催化机理为:一方面,Fe2O3被C还原为纳米铁单质,并与Si形成Fe-Si液相,该Fe-Si液相可溶解SiO2和C颗粒,促使SiOC中间相在较低温度下形成,从而显著降低碳热还原反应的开始温度。另一方面,Fe-Si液相中的CO2与FeSi反应,通过形成SiO和CO而加速碳热还原反应的进行。 展开更多
关键词 si2n2O 碳热还原 FE2O3 催化机理
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Si_3N_4-Fe对Al_2O_3-SiC-C质铁沟浇注料性能的影响 被引量:14
9
作者 邓小玲 孙加林 +2 位作者 陈俊红 张厚兴 洪彦若 《耐火材料》 CAS 北大核心 2004年第2期82-84,共3页
利用Si3N4 的优良性质及金属塑性相Fe的作用 ,将其添加到高炉出铁沟用Al2 O3-SiC -C浇注料中 ,以改善材料的力学性能和抗氧化性能。对高温处理后试样强度、显气孔率测试以及对氧化层的SEM分析 ,结果表明 ,添加适量的Si3N4 -Fe ,材料的... 利用Si3N4 的优良性质及金属塑性相Fe的作用 ,将其添加到高炉出铁沟用Al2 O3-SiC -C浇注料中 ,以改善材料的力学性能和抗氧化性能。对高温处理后试样强度、显气孔率测试以及对氧化层的SEM分析 ,结果表明 ,添加适量的Si3N4 -Fe ,材料的显气孔率降低 ,强度提高 ,抗氧化性增强。 展开更多
关键词 si3n4-Fe AL2O3 siC 铁沟浇注料 力学性能 抗氧化性能 显气孔率测试 氧化层
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原位无压烧结制备Si2N2O-Si3N4复相陶瓷 被引量:3
10
作者 裴雨辰 李嘉禄 +1 位作者 于长清 李淑琴 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第5期4-6,12,共4页
以Y2O3和Al2O3陶瓷粉体作为烧结助剂,原位无压液相烧结制备Si3N4-Si2N2O复相陶瓷,Si2N2O相通过SiO2+Si3N42Si2N2O反应生成。生坯采用注凝成型制备,然后在1780℃保温2h烧结,烧结体基本由板条状的Si2N2O及长柱状的-βSi3N4晶粒构成。Si2N2... 以Y2O3和Al2O3陶瓷粉体作为烧结助剂,原位无压液相烧结制备Si3N4-Si2N2O复相陶瓷,Si2N2O相通过SiO2+Si3N42Si2N2O反应生成。生坯采用注凝成型制备,然后在1780℃保温2h烧结,烧结体基本由板条状的Si2N2O及长柱状的-βSi3N4晶粒构成。Si2N2O陶瓷相对于Si3N4陶瓷而言,具有优异的抗氧化性能,低的弹性模量,以及低的热膨胀系数,因此,Si2N2O-Si3N4复相陶瓷结合了两者的优异性能,并大大提高了材料的热冲击性,材料的热冲击温差即使达到1200℃,其残余强度基本上没有变化。 展开更多
关键词 原位无压 si2n2O si3n4 复相陶瓷
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Eu^(2+)浓度对Sr_2Si_5N_8∶Eu^(2+)红粉热猝灭机制的影响 被引量:4
11
作者 陈磊 刘荣辉 +3 位作者 庄卫东 刘元红 胡运生 杜甫 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期371-376,共6页
采用高温固相法制备了不同Eu2+浓度掺杂的Sr2Si5N8红色荧光粉,并对其晶体结构、形貌、发光和热猝灭性能进行了详细的研究。XRD和SEM测试表明,所合成的样品为纯相Sr2Si5N8结构,具有较高的结晶度。PL光谱数据表明,Eu2+替代Sr2+格位形成两... 采用高温固相法制备了不同Eu2+浓度掺杂的Sr2Si5N8红色荧光粉,并对其晶体结构、形貌、发光和热猝灭性能进行了详细的研究。XRD和SEM测试表明,所合成的样品为纯相Sr2Si5N8结构,具有较高的结晶度。PL光谱数据表明,Eu2+替代Sr2+格位形成两种不同的发光中心。温度特性测试发现,样品的热猝灭性能很大程度上取决于Eu2+浓度。随着Eu2+浓度的增加,样品的热猝灭性能先增强后降低。不同发光中心的荧光强度比和荧光寿命测试结果表明:在较低Eu2+掺杂条件下,Eu2+浓度引起热猝灭性能改变的机制主要归因于Eu2+占据不同Sr2+格位的几率的改变。 展开更多
关键词 Sr2si5n8 荧光粉 热猝灭 荧光寿命
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无压烧结制备Si_3N_4/SiO_2复合材料 被引量:7
12
作者 徐常明 王士维 +1 位作者 黄校先 郭景坤 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期935-938,共4页
以无压烧结工艺制备了Si3N4/SiO2复合材料.实验结果表明:Si3N4颗粒对石英基体的析晶起到了抑制作用和增韧补强作用.Si3N4含量为5vol%的样品在1370℃烧结2h后,抗弯强度达到96.2MPa,断裂韧性为2.4MPa·m1/2,介电常数和介电损... 以无压烧结工艺制备了Si3N4/SiO2复合材料.实验结果表明:Si3N4颗粒对石英基体的析晶起到了抑制作用和增韧补强作用.Si3N4含量为5vol%的样品在1370℃烧结2h后,抗弯强度达到96.2MPa,断裂韧性为2.4MPa·m1/2,介电常数和介电损耗分别在3.63-3.68和1.29-1.75×10-3之间. 展开更多
关键词 天线罩 无压烧结 si3n4/siO2复合材料 力学性能 介电性能
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Si粉和Al粉对N_2保护热处理铝碳材料性能和显微结构的影响 被引量:10
13
作者 刘国齐 王金相 +1 位作者 杨彬 李红霞 《耐火材料》 EI CAS 北大核心 2005年第4期241-245,共5页
为改善含碳材料埋炭保护热处理时的操作条件,并为提高含碳材料性能开辟新的途径,对添加Si粉或Al粉的铝碳材料在N2气氛中1200℃热处理5h,测定试样热处理前后的质量变化率、抗折强度、体积密度、显气孔率、抗热震性、热膨胀系数和抗氧化指... 为改善含碳材料埋炭保护热处理时的操作条件,并为提高含碳材料性能开辟新的途径,对添加Si粉或Al粉的铝碳材料在N2气氛中1200℃热处理5h,测定试样热处理前后的质量变化率、抗折强度、体积密度、显气孔率、抗热震性、热膨胀系数和抗氧化指数,并用扫描电镜和XRD分析试样的显微结构和物相组成。结果发现,采用N2保护热处理工艺同埋炭热处理工艺一样可防止碳氧化,使铝碳材料形成碳结合并具有较好的性能指标。与添加Si粉的试样相比,添加Al粉的试样在热处理后具有较高的高温强度和较低的热膨胀系数;反应生成的Al2OC和AlN有益于材料抗热震性能和强度的提高,并减轻了其在埋炭保护热处理后由于生成Al4C3而产生的严重水化现象。部分Si粉与气氛反应生成纤维状的βSiC、SixN和粒状的Si2N2O,它们对铝碳材料具有明显的增强作用。 展开更多
关键词 添加剂 氮气保护热处理 铝碳材料 优势区相图 热处理工艺 含碳材料 n2气氛 材料性能 显微结构 si
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Si_3N_(4(p))/SiC_((w))协同复合MoSi_2材料的强韧化及机理研究 被引量:3
14
作者 周宏明 易丹青 +1 位作者 柳公器 肖来荣 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第11期1955-1959,共5页
采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、维氏硬度计、电子万能材料试验机研究MoSi2-Si3N4(p)/SiC(w)复合材料的结构、形貌、硬度、断裂韧性,并对SiC晶须和Si3N4颗粒复合强韧化MoSi2的机理进行了探讨。结果表明,SiC晶须和Si3N4颗粒对... 采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、维氏硬度计、电子万能材料试验机研究MoSi2-Si3N4(p)/SiC(w)复合材料的结构、形貌、硬度、断裂韧性,并对SiC晶须和Si3N4颗粒复合强韧化MoSi2的机理进行了探讨。结果表明,SiC晶须和Si3N4颗粒对MoSi2具有协同强韧化作用,MoSi2-20%Si3N4(p)-20%SiC(w)(体积分数,下同)复合材料的抗弯强度达427MPa,室温断裂韧性达到10.4MPa·m1/2,均高于单一强韧化剂的强韧化效果。MoSi2-20%Si3N4(p)-20%SiC(w)复合材料的强化机理为细晶强化和弥散强化;韧化机制为细晶韧化、裂纹偏转与分支和微桥接韧化。 展开更多
关键词 MOsi2 复合材料 si3n4颗粒 siC晶须 强韧化机制
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SiN、Si_2N分子的结构与势能函数 被引量:3
15
作者 刘玉芳 蒋利娟 +1 位作者 韩晓琴 孙金锋 《原子与分子物理学报》 CAS CSCD 北大核心 2006年第5期938-942,共5页
应用密度泛函B3LYP方法,采用aug-cc-pvtz基组对SiN(X2∑+)进行了理论计算,得到了它的微观几何结构,力学性质和光谱性质,结果表明SiN的平衡核间距为0.1739 nm,基态的离解能为4.5907 eV,谐振频率为1175.3820 cm-1,与实验结果符合得非常好... 应用密度泛函B3LYP方法,采用aug-cc-pvtz基组对SiN(X2∑+)进行了理论计算,得到了它的微观几何结构,力学性质和光谱性质,结果表明SiN的平衡核间距为0.1739 nm,基态的离解能为4.5907 eV,谐振频率为1175.3820 cm-1,与实验结果符合得非常好,并得到了它的Murrell-Sorbie势能函数.用密度泛函B3P86/6-311++G(3d2f),优化出Si2N(X2A1)分子稳定构型为C2V,其平衡核间距Re=0.16712 nm、∠SiNSi=94.3862°,同时计算出了离解能、力常数及谐振频率.在推断出Si2N的离解极限此基础上,应用多体展式理论方法,导出了基态Si2N分子的分析势能函数,该势能表面准确地再现了Si2N(X2A1)分子的结构特征和能量变化. 展开更多
关键词 sin si2n 多体项展式理论 势能函数
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TiO_2/n-Si/p-Si及n-PS/p-PS/Si的光伏特性 被引量:4
16
作者 向梅 贾振红 涂楚辙 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期218-220,共3页
在抛光的p型单晶硅上通过扩散工艺制备pn结,采用此种硅片利用阳极腐蚀法制备多孔硅(PS)。用磁控溅射镀膜机在有pn结的单晶硅表面镀上一层TiO2纳米结构薄膜,并用表面光电压谱(SPS)研究了n-PS/p-PS/Si和TiO2/n-Si/p-Si的表面光伏特性... 在抛光的p型单晶硅上通过扩散工艺制备pn结,采用此种硅片利用阳极腐蚀法制备多孔硅(PS)。用磁控溅射镀膜机在有pn结的单晶硅表面镀上一层TiO2纳米结构薄膜,并用表面光电压谱(SPS)研究了n-PS/p-PS/Si和TiO2/n-Si/p-Si的表面光伏特性。结果表明TiO2/n-Si/p-Si和n-PS/p-PS/Si的光伏效应比n-Si/p-Si在不同程度上有所提高。在300~600℃热处理温度范围内TiO2/n-Si/p-Si的光伏效应随温度的升高而增强,600~800℃范围内随温度的升高而降低。 展开更多
关键词 n-PS/p—PS/si TiO2/n-si/p—si nsi/p—si 光伏效应
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TiB_2/Si_3N_4纳米多层膜的制备及其结构和性能分析 被引量:3
17
作者 董磊 刘广庆 +3 位作者 孙延东 龚杰 刘孟寅 李德军 《天津师范大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2010年第1期29-32,共4页
利用超高真空离子束辅助沉积(IBAD)系统,在225℃条件下,制备一系列TiB2/Si3N4纳米多层膜,通过X射线衍射(XRD)仪、表面轮廓仪、原子力显微镜(AFM)和纳米力学测试系统分析该体系合成中调制比对多层膜结构和机械性能的影响.结果表明:一定... 利用超高真空离子束辅助沉积(IBAD)系统,在225℃条件下,制备一系列TiB2/Si3N4纳米多层膜,通过X射线衍射(XRD)仪、表面轮廓仪、原子力显微镜(AFM)和纳米力学测试系统分析该体系合成中调制比对多层膜结构和机械性能的影响.结果表明:一定条件下制备的多层膜其纳米硬度值高于两种个体材料混合相的硬度值;当调制比为15∶1,调制周期为(13±1)nm时,结晶出现多元化,多层膜体系的硬度、应力、弹性模量和膜基结合性能均达到最佳.多层膜机械性能的明显改善与其多层结构和多晶结构存在直接联系.实验证明通过选择合适的个体层材料、厚度以及调制比等条件,制备具有高硬度、低应力和良好膜基结合力的纳米多层膜是可以实现的. 展开更多
关键词 离子束辅助沉积 TiB2/si3n4纳米多层膜 调制比 硬度
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Si_3N_(4(p))/SiC_((w))强韧化MoSi_2基复合材料的显微组织与力学性能 被引量:2
18
作者 周宏明 易丹青 +2 位作者 李丹 肖来荣 柳公器 《粉末冶金技术》 CAS CSCD 北大核心 2010年第3期172-177,209,共7页
采用热压工艺制备了不同Si3N4(p)和SiC(w)体积含量的MoSi2基复合材料,通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、维氏硬度计、电子万能材料试验机等研究了复合材料的显微组织、硬度、断裂韧度和抗弯强度,并对其强韧化机理进行了初步... 采用热压工艺制备了不同Si3N4(p)和SiC(w)体积含量的MoSi2基复合材料,通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、维氏硬度计、电子万能材料试验机等研究了复合材料的显微组织、硬度、断裂韧度和抗弯强度,并对其强韧化机理进行了初步探讨。结果表明,复合材料结构致密,强化相与MoSi2之间没有新相生成,力学性能较纯MoSi2得到大幅度提高,其中MoSi2-20%Si3N4(p)-20%SiC(w)复合材料具有最好的抗弯强度和断裂韧度,分别为427MPa和10.4MPa.m1/2。复合材料的强化机制为细晶强化和弥散强化,韧化机制为细晶韧化和裂纹偏转与分支韧化。 展开更多
关键词 MOsi2 复合材料 si3n4颗粒 siC晶须 强韧化机制
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掺N的β-FeSi_2基热电材料电学性能的研究 被引量:3
19
作者 李伟文 赵新兵 +1 位作者 周邦昌 邬震泰 《有色金属》 CSCD 2002年第3期9-11,共3页
在氮气和氩气气氛中合成Fe1 9Cr0 1 Si5 0 1Cu ,对比 β FeSi2 和掺N的 β FeSi2 基热电材料 ,进行结构分析 ,密度测量和电学性能研究。结果表明 :两者的密度分别为 3 13 85 g/cm3和 3 14 49g/cm3;在掺N的 β FeSi2 基热电材料中... 在氮气和氩气气氛中合成Fe1 9Cr0 1 Si5 0 1Cu ,对比 β FeSi2 和掺N的 β FeSi2 基热电材料 ,进行结构分析 ,密度测量和电学性能研究。结果表明 :两者的密度分别为 3 13 85 g/cm3和 3 14 49g/cm3;在掺N的 β FeSi2 基热电材料中部分过量的Si与N2 产生了反应 ,形成Si3N4 ;掺N样品的功率因子要比没掺N的大 5倍以上 ,说明N的掺入提高样品的电学性能。轻元素的掺杂 ,应是FeSi2 基热电材料的研究方向之一。 展开更多
关键词 热电材料 Β-FEsi2 si3n4 热电性能 功率因子 掺杂
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Si_3N_(4p)-SiC_w/MoSi_2复合材料的强韧化效果与机制 被引量:2
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作者 周宏明 柳公器 +1 位作者 肖来荣 易丹青 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2009年第8期46-49,共4页
通过显微组织观察和力学性能测试,对SiC晶须和Si3N4颗粒复合强韧化MoSi2的效果及其作用机制进行了初步研究和探讨。结果表明:复合材料中的SiC晶须和Si3N4颗粒的加入可大幅提高其抗弯强度、断裂韧度和维氏硬度;弥散强化和细晶强化是复合... 通过显微组织观察和力学性能测试,对SiC晶须和Si3N4颗粒复合强韧化MoSi2的效果及其作用机制进行了初步研究和探讨。结果表明:复合材料中的SiC晶须和Si3N4颗粒的加入可大幅提高其抗弯强度、断裂韧度和维氏硬度;弥散强化和细晶强化是复合材料强度提高的主要机制,抗弯强度达到427 MPa;通过晶粒细化、裂纹偏转和分叉等机制的综合作用使复合材料增韧,室温断裂韧度达到10.4 MPa.m1/2。 展开更多
关键词 MOsi2 复合材料 si3n4 siC晶须 强韧化
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