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High Temperature Creep behaviour of a Si_3N_4 Whisker Reinforced Al-Fe-V-Si Composite
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作者 Liangming PENG Shijie ZHU Haoran CHEN and Fugang WANG(Dept. of Materials Engineering,Dalian University of Technology, Dalian 116023, China)Zongyi MA and Jing BI(Institute of Metal Research, Chinese Academy of Sciences, Shenyang 110015, China) 《Journal of Materials Science & Technology》 SCIE EI CAS CSCD 1998年第6期527-532,共6页
The creep behaviour of β-Si3N4 whisker reinforced Al-8.5Fe-1.3V-1.7Si composite has been investigated at the temperature 773 and 823 K. The results are characterized by high stress exponent and high apparent creep ac... The creep behaviour of β-Si3N4 whisker reinforced Al-8.5Fe-1.3V-1.7Si composite has been investigated at the temperature 773 and 823 K. The results are characterized by high stress exponent and high apparent creep activation energy The creep data can be interpreted based on the incorporation of a threshold Stress and a load transfer coefficient into the power-law creep equation. A good correlation between the normalized creep rate and normalized effective stress is available which demonstrates that the creep behaviour of both the alloy and the composite is controlled by the matrix lattice self-diffusion in AI. EXamination on microstructure shows that edge dislocations exist at the interfaces between two adjacent whiskers and the intedeces emit edge dislocations in parallel paired-columns. 展开更多
关键词 SI Al Fe High Temperature Creep behaviour of a si3n4 whisker Reinforced Al-Fe-V-Si Composite
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氮化硅低温转化合成碳化硅晶须研究 被引量:13
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作者 张颖 蒋明学 +1 位作者 崔曦文 张军战 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第1期80-83,89,共5页
对氮化硅转化法制备碳化硅晶须的反应过程进行了热力学分析;采用氮化硅为硅源,石墨、活性炭和炭黑为碳源,氧化硼作为催化剂,利用氮化硅转化法分别在1500℃、1550℃、1600℃合成碳化硅晶须,通过X射线衍射和扫描电子显微镜分析合成晶须的... 对氮化硅转化法制备碳化硅晶须的反应过程进行了热力学分析;采用氮化硅为硅源,石墨、活性炭和炭黑为碳源,氧化硼作为催化剂,利用氮化硅转化法分别在1500℃、1550℃、1600℃合成碳化硅晶须,通过X射线衍射和扫描电子显微镜分析合成晶须的特征。结果表明:合成反应在1450℃以上可以发生,且随着温度的升高,平衡常数急剧增加,SiC晶须直径变大;以活性炭和炭黑等较高活性的碳源代替石墨可以提高晶须的质量和生成量,通过对晶须合成过程的分析,推测晶须的生长属于螺旋位错生长机理。 展开更多
关键词 si3n4 SIC晶须 热力学 机理
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Si_3N_4晶须结合剂合成PCBN微观组织结构的研究 被引量:7
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作者 董企铭 位星 +4 位作者 彭进 邹文俊 赵盟月 王小品 韩平 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2010年第1期50-52,共3页
本文以Si3N4晶须为结合剂,高温高压下合成了聚晶立方氮化硼,烧结压力为5~7GPa,温度为1400~1500℃,选用了石墨管+NaCl管+钼杯组装方式。采用金相显微镜、扫描电镜和X射线衍射仪等仪器设备研究了产品PCBN的组织结构。金相显微镜结果表明... 本文以Si3N4晶须为结合剂,高温高压下合成了聚晶立方氮化硼,烧结压力为5~7GPa,温度为1400~1500℃,选用了石墨管+NaCl管+钼杯组装方式。采用金相显微镜、扫描电镜和X射线衍射仪等仪器设备研究了产品PCBN的组织结构。金相显微镜结果表明,PCBN的表面组织比较均匀。扫描电镜结果表明,PCBN的烧结情况良好,结合剂对CBN高温润湿情况良好。X射线衍射结果表明,有新的物相生成。 展开更多
关键词 si3n4晶须 PCBN 微观结构
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