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TiN/Si_3N_4纳米多层膜的生长结构与超硬效应
被引量:
13
1
作者
胡晓萍
董云杉
+2 位作者
孔明
李戈扬
顾明元
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第4期263-267,274,共6页
采用磁控溅射方法制备了一系列不同Si3N4和TiN层厚的TiN/Si3N4纳米多层膜,采用X射线衍射、高分辨电子显微分析和微力学探针表征了薄膜的微结构和力学性能,研究了Si3N4和TiN层厚对多层膜生长结构和力学性能的影响。结果表明:当Si3N4层厚...
采用磁控溅射方法制备了一系列不同Si3N4和TiN层厚的TiN/Si3N4纳米多层膜,采用X射线衍射、高分辨电子显微分析和微力学探针表征了薄膜的微结构和力学性能,研究了Si3N4和TiN层厚对多层膜生长结构和力学性能的影响。结果表明:当Si3N4层厚小于0.7 nm时,原为非晶的Si3N4在TiN的模板作用下晶化并与之形成共格外延生长的柱状晶,使TiN/Si3N4多层膜产生硬度和弹性模量异常升高的超硬效应。最高硬度和弹性模量分别为34.0 GPa和353.5 GPa。当其厚度大于1.3 nm时,Si3N4呈现非晶态,阻断了TiN的外延生长,多层膜的力学性能明显降低。此外,TiN层厚的增加也会对TiN/Si3N4多层膜的生长结构和力学性能造成影响,随着TiN层厚的增加,多层膜的硬度和弹性模量缓慢下降。
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关键词
Ti
n
/
si
3
n
4
纳米多层膜
si3n4晶化
外延生长
超硬效应
下载PDF
职称材料
题名
TiN/Si_3N_4纳米多层膜的生长结构与超硬效应
被引量:
13
1
作者
胡晓萍
董云杉
孔明
李戈扬
顾明元
机构
上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第4期263-267,274,共6页
基金
上海市纳米专项基金(0352nm084)
文摘
采用磁控溅射方法制备了一系列不同Si3N4和TiN层厚的TiN/Si3N4纳米多层膜,采用X射线衍射、高分辨电子显微分析和微力学探针表征了薄膜的微结构和力学性能,研究了Si3N4和TiN层厚对多层膜生长结构和力学性能的影响。结果表明:当Si3N4层厚小于0.7 nm时,原为非晶的Si3N4在TiN的模板作用下晶化并与之形成共格外延生长的柱状晶,使TiN/Si3N4多层膜产生硬度和弹性模量异常升高的超硬效应。最高硬度和弹性模量分别为34.0 GPa和353.5 GPa。当其厚度大于1.3 nm时,Si3N4呈现非晶态,阻断了TiN的外延生长,多层膜的力学性能明显降低。此外,TiN层厚的增加也会对TiN/Si3N4多层膜的生长结构和力学性能造成影响,随着TiN层厚的增加,多层膜的硬度和弹性模量缓慢下降。
关键词
Ti
n
/
si
3
n
4
纳米多层膜
si3n4晶化
外延生长
超硬效应
Keywords
Ti
n
/
si
3
n
4
n
a
n
omultilayers, Crystallizatio
n
of
si
3
n
4
, Epitaxial growth, Superhard
n
ess effect
分类号
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
TiN/Si_3N_4纳米多层膜的生长结构与超硬效应
胡晓萍
董云杉
孔明
李戈扬
顾明元
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005
13
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