1
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反应磁控溅射法制备nc-TiN/a-Si_3N_4薄膜的Young's模量和内耗 |
李朝升
王先平
方前锋
S.Veprek
李世直
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《金属学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2003 |
3
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2
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半导体器件钝化层Si_3N_4薄膜的制备及特性研究 |
刘宝峰
李洪峰
金立国
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《哈尔滨理工大学学报》
CAS
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2003 |
6
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3
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Si_3N_4薄膜的成分与结构研究 |
赵毅红
陈荣发
刘伯实
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《真空》
CAS
北大核心
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2004 |
8
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4
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人工神经网络—遗传算法优化激光—等离子体化学气相沉积Si_3N_4薄膜制备工艺 |
张勤俭
吴春丽
李敏
张勤河
秦勇
毕进子
张建华
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《陶瓷学报》
CAS
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2002 |
2
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5
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气体流量比对反应溅射Si_3N_4薄膜的影响 |
宋文燕
崔虎
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《真空》
CAS
北大核心
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2006 |
2
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6
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带有Si_3N_4薄膜的玻璃-硅-玻璃三层结构的阳极键合 |
林智鑫
王盛贵
刘琦
曾毅波
郭航
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《传感器与微系统》
CSCD
北大核心
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2013 |
3
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7
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采用不同反应气源制备的Si_3N_4薄膜的特性比较 |
张故万
宋爱民
雷仁方
高燕
罗春林
伍明娟
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《半导体光电》
CAS
CSCD
北大核心
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2009 |
1
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8
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采用Si3N4作为绝缘层的ZnS:Mn交流薄膜电致发光器件 |
赵伟明
张志林
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《薄膜科学与技术》
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1993 |
2
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9
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评Veprek的nc-TiN/a-Si_3N_4模型和其“超过金刚石硬度”的实验基础 |
李戈扬
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《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2015 |
3
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10
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离子束辅助沉积制备TiN/Si_3N_4纳米超硬膜的工艺研究 |
张平
蔡志海
杜月和
谭俊
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《核技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2006 |
0 |
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11
|
Si_3N_4膜对MOS电容器存储时间影响的研究 |
陈忠和
许青
高燕
陈捷
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《半导体光电》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2006 |
0 |
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12
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Si3N4纳米涂层的性能分析 |
刘力
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《中国外资》
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2008 |
0 |
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13
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Si基Si_3N_4弹性膜独立多探针的制作 |
原作兰
刘淑杰
张元良
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《微纳电子技术》
北大核心
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2016 |
0 |
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14
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低温 Hg 敏化光化学气相淀积 Si_3N_4薄膜 |
景俊海
孙青
付俊兴
孙建成
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《材料科学进展》
CSCD
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1991 |
0 |
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15
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C/C复合材料表面改性薄膜的制备及摩擦磨损性能研究 |
袁璞
李红
杨敏
任慕苏
孙晋良
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《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2020 |
0 |
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16
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CIGS薄膜太阳能电池背电极膜系结构研究 |
姚婷婷
李刚
杨扬
彭塞奥
金葆琪
陈淑勇
沈洪雪
王天齐
沈鸿烈
甘治平
马立云
彭寿
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《建筑玻璃与工业玻璃》
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2021 |
0 |
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17
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MEMS封装V形腔阵列的研究与制备 |
李雄
徐智谋
易新建
何少伟
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《微纳电子技术》
CAS
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2004 |
0 |
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18
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PCVD涂镀法在刀具上的应用研究 |
杨君宝
于晓琳
李智军
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《机械研究与应用》
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2005 |
1
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