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新型SiC光学材料的制备及应用 被引量:9
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作者 闫勇 金光 +2 位作者 张雷 王栋 姚劲松 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2011年第8期145-150,共6页
随着空间成像技术的发展,当今各科技大国均加大了对新型光学材料的制备及应用的研究工作。近年来新近兴起的新型SiC材料因其良好的热稳定性、高比刚度、低密度、易于轻量化等优点,而成为未来空间相机主光学成像元件的首选材料。本文结... 随着空间成像技术的发展,当今各科技大国均加大了对新型光学材料的制备及应用的研究工作。近年来新近兴起的新型SiC材料因其良好的热稳定性、高比刚度、低密度、易于轻量化等优点,而成为未来空间相机主光学成像元件的首选材料。本文结合当前国内外SiC材料研究进展,介绍了新型SiC光学材料常用的几种制备技术及相关应用,对其制备方法和加工工艺进行了系统的阐述和总结,重点介绍了SiC材料与常规玻璃材料加工的不同之处,并对比了国内外的加工情况及我国目前SiC材料加工现状。从当前新型SiC加工情况看,SiC加工采用的数控光学加工技术CCOS大大提高了SiC材料的加工效率和加工精度,具有广阔的应用前景。 展开更多
关键词 空间成像 sic光学材料 制备及应用 数控光学加工技术
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