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X波段SiGe BiCMOS功率放大器设计
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作者 陈君涛 王绍权 廖余立 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第5期353-356,共4页
采用0.13μm Si Ge双极互补型金属氧化物半导体(Bi CMOS)工艺,设计了一款X波段功率放大器芯片。通过采用共射共基放大器电路结构和有源线性化偏置电路,提高了电路耐压值和功放最大输出功率。通过两级共射共基放大电路级联,结合级间匹... 采用0.13μm Si Ge双极互补型金属氧化物半导体(Bi CMOS)工艺,设计了一款X波段功率放大器芯片。通过采用共射共基放大器电路结构和有源线性化偏置电路,提高了电路耐压值和功放最大输出功率。通过两级共射共基放大电路级联,结合级间匹配电路及输出匹配电路,提高了放大器的增益和工作带宽。采用非均匀功率管版图布局及镇流电阻,提升功率放大器电路可靠性。测试结果表明,在8-12 GHz频段内,放大器回波损耗均小于-10 d B,小信号增益大于30 d B,1 d B压缩点输出功率为16 d Bm,饱和功率大于19 d Bm,峰值饱和功率附加效率大于18%。该放大器工作在AB类,采用5 V供电,静态工作电流为80 m A,面积为1.22 mm×0.73 mm。 展开更多
关键词 功率放大器 sige双极互补型金属氧化物半导体(bicmos) 线性化偏置电路 功率附加效率 结温
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基于SiGe BiCMOS工艺的25 Gbit/s跨阻放大器设计 被引量:1
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作者 薛喆 何进 +4 位作者 陈婷 王豪 常胜 黄启俊 许仕龙 《半导体技术》 CSCD 北大核心 2017年第12期892-895,917,共5页
采用0.25μm SiGe双极CMOS(BiCMOS)工艺设计并实现了一种传输速率为25 Gbit/s的高速跨阻前置放大器(TIA)。在寄生电容为65 fF的情况下,电路分为主放大器模块、两级差分模块和输出缓冲模块。相比传统的跨阻放大器,TIA采用Dummy形式实现... 采用0.25μm SiGe双极CMOS(BiCMOS)工艺设计并实现了一种传输速率为25 Gbit/s的高速跨阻前置放大器(TIA)。在寄生电容为65 fF的情况下,电路分为主放大器模块、两级差分模块和输出缓冲模块。相比传统的跨阻放大器,TIA采用Dummy形式实现了一种伪差分的输入,减小了共模噪声,提高了电路的稳定性;在差分级加入了电容简并技术,有效地提高了跨阻放大器的带宽;在各级之间引入了射极跟随器,减小了前后级之间的影响,改善了电路的频域特性。电路整体采用了差分结构,抑制了电源噪声和衬底噪声。仿真结果表明跨阻放大器的增益为63.6 dBΩ,带宽可达20.4 GHz,灵敏度为-18.2 dBm,最大输出电压为260 mV,功耗为82 mW。 展开更多
关键词 跨阻放大器 25 Gbit/s 伪差分输入 电容简并 sige双极cmos(bicmos)
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3.43 GHz SiGe BiCMOS功率放大器设计 被引量:1
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作者 周建冲 李智群 +1 位作者 范海娟 王志功 《上海交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第S2期16-19,共4页
采用AMS 0.35μm SiGe BiCMOS工艺,设计了用于卫星通信用的3.33-3.53 GHz功率放大器.该功率放大器采用单端结构,工作于A类.在3.3 V电源电压下,功率放大器的功率增益为22.3 dB,输出1 dB压缩点为31.9 dBm,相应的功率附加效率为25.2%.仿真... 采用AMS 0.35μm SiGe BiCMOS工艺,设计了用于卫星通信用的3.33-3.53 GHz功率放大器.该功率放大器采用单端结构,工作于A类.在3.3 V电源电压下,功率放大器的功率增益为22.3 dB,输出1 dB压缩点为31.9 dBm,相应的功率附加效率为25.2%.仿真结果表明,该功率放大器具有良好的输入、输出匹配,工作稳定. 展开更多
关键词 sigebicmos 射频功率放大器 设计
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UHF power amplifier design in 0.35μm SiGe BiCMOS
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作者 宋家友 Li Zhiqun Wang Zhigong 《High Technology Letters》 EI CAS 2009年第2期147-150,共4页
A two-stage power amplifier operated at 925 MHz was designed and fabricated in Jazz' s 0.35μmSiGe BiCMOS process.It was fully integrated excluding the inductors and the output matching network.Under a single 3.3V... A two-stage power amplifier operated at 925 MHz was designed and fabricated in Jazz' s 0.35μmSiGe BiCMOS process.It was fully integrated excluding the inductors and the output matching network.Under a single 3.3V supply voltage,the off-chip bonding test results indicated that the circuit has a smallsignal gain of more than 24dB,the input and output reflectance are less than- 24dB and-10dB,re-spectively,and the maximal output power is 23.5 dBm.At output power of 23.1 dBm,the PAE(poweradded efficiency)is 30.2%,the IMD2 and IMD3 are less than- 32 dBc and-46 dBc,respectively.The chip size is 1.27mm ×0.9mm. 展开更多
关键词 power amplifier sige bicmos heterojuncfion bipolar transistor
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东芝中等功率SiGe BiCMOS功放芯片
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《电子产品世界》 2006年第03X期50-50,共1页
东芝美国电子元器件公司(Toshiba America Electronic Components,TAEC)日前发布一款中等功率SiGe BiCMOS功率放大器TA4401CT,该产品适合于1.9GHz至2.5GHz频带的无线应用,包括无线LAN(WLAN)、PHS以及蓝牙等。TA4401CT采用了3... 东芝美国电子元器件公司(Toshiba America Electronic Components,TAEC)日前发布一款中等功率SiGe BiCMOS功率放大器TA4401CT,该产品适合于1.9GHz至2.5GHz频带的无线应用,包括无线LAN(WLAN)、PHS以及蓝牙等。TA4401CT采用了3个串联RF级以实现线性,高效和低功耗的性能优化,该器件符合IEEE802.11g标准, 展开更多
关键词 bicmos sige 中等功率 IEEE802.11g标准 功放芯片 东芝 Components cmos功率放大器 电子元器件 无线应用
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CMOS手机射频收发器渐成主流
6
作者 郭庆春 《今日电子》 2006年第12期62-63,共2页
关键词 bicmos工艺 射频收发器 手机 射频器件 cmos技术 开发成本 典型案例 sige
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应用于无线电发射领域的第二代SiGe技术进展
7
作者 孙伟峰 叶志镇 +1 位作者 赵炳辉 朱丽萍 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第11期24-27,共4页
SiGe 1器件性能出色,在射频器件中的频率高达50GHz,已用于制造 GSM、DCS、GPS 中的 LNA、PA、DACs 和混频器等。为了满足将来产品更新换代和制造高尖端产品的需要,现在的一些公司(如 Atmel wireless andMicrocontrollers)已经发展了第二... SiGe 1器件性能出色,在射频器件中的频率高达50GHz,已用于制造 GSM、DCS、GPS 中的 LNA、PA、DACs 和混频器等。为了满足将来产品更新换代和制造高尖端产品的需要,现在的一些公司(如 Atmel wireless andMicrocontrollers)已经发展了第二代 Si/SiGe 双极技术(SiGe2)。这种高性能的新技术可使发射区的宽度降到0.5μm,输运频率 f_T 和最大震荡频率 f_(max)达到90GHz 以上;5GHz 和20GHz 的最大稳定增益(MSG)分别为22dB 和11dB。SiGe 2技术能制造出应用更加广泛的各种器件,而0.5μm CMOS 技术还处于发展阶段。 展开更多
关键词 sige 双极 cmos 射频 MSG SI/sige 技术进展 第二代 发射区 应用
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SiGe集成电路工艺技术现状及发展趋势 被引量:9
8
作者 马羽 王志宽 崔伟 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2018年第4期508-514,共7页
介绍了基于SiGe材料的集成电路工艺技术概况,包括SiGe HBT器件结构、SiGe HBT特色双极工艺、SiGe BiCMOS工艺等。概述了SiGe工艺技术的应用情况以及国内外发展现状,并结合应用需求,提出了国内模拟集成电路制造用SiGe工艺技术的发展趋势。
关键词 异质结 sige HBT sige双极工艺 sige bicmos工艺
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SiGe为3G无线通信提供技术支撑
9
作者 LouHutter 李应 《电子产品世界》 2004年第03A期42-43,共2页
关键词 3G 无线通信 sige0 锗硅工艺 bicmos工艺 多媒体通信 互补工艺 cmos晶体管 互补双极晶体管
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硅基太赫兹功率放大器研究进展
10
作者 谢克南 李英杰 +1 位作者 张浩 王科平 《固体电子学研究与进展》 CAS 北大核心 2023年第6期467-479,共13页
太赫兹技术在探测、成像及通信等领域已展现出良好的应用前景,硅基太赫兹系统因为具有低成本、小尺寸、高集成度及易于实现大规模阵列化的优点受到广泛关注。太赫兹功率放大器是硅基太赫兹系统中的重要模块,决定系统的能耗、最大辐射距... 太赫兹技术在探测、成像及通信等领域已展现出良好的应用前景,硅基太赫兹系统因为具有低成本、小尺寸、高集成度及易于实现大规模阵列化的优点受到广泛关注。太赫兹功率放大器是硅基太赫兹系统中的重要模块,决定系统的能耗、最大辐射距离和信号质量,近年来硅基太赫兹功率放大器设计得到了长足的发展。本文将从太赫兹技术的应用场景与功率放大器在太赫兹收发系统中的地位、硅基太赫兹功率放大器的关键技术指标和设计难点、基于CMOS/CMOS SOI工艺的太赫兹功率放大器研究进展、基于SiGe工艺的太赫兹功率放大器研究进展四个方面对硅基太赫兹功率放大器的研究现状和技术发展趋势进行综述总结。 展开更多
关键词 太赫兹波 硅基功率放大器 cmos cmos SOI sige bicmos
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毫米波片上雷达技术研究进展 被引量:8
11
作者 李骏 王健安 赖凡 《微电子学》 CAS 北大核心 2019年第4期545-550,共6页
硅微电子技术的进步推动着雷达技术向着毫米波频段片上方向发展。片上雷达优良的性能和小型化优势使其在汽车及其他新领域获得越来越广泛的应用。阐述了基于SiGe BiCMOS和CMOS技术研制的几种主流硅毫米波片上雷达的电路结构、无源元件... 硅微电子技术的进步推动着雷达技术向着毫米波频段片上方向发展。片上雷达优良的性能和小型化优势使其在汽车及其他新领域获得越来越广泛的应用。阐述了基于SiGe BiCMOS和CMOS技术研制的几种主流硅毫米波片上雷达的电路结构、无源元件和封装技术,分析了其发展情况和面临的挑战,指出了片上毫米波雷达技术和应用的发展趋势。 展开更多
关键词 毫米波 片上雷达 sige bicmos cmos 收发器 天线
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静态存储单元电路设计工艺的研究 被引量:3
12
作者 李彦旭 巴大志 成立 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2002年第12期13-16,共4页
论述了静态存储单元电路对目前高速数字系统的意义。通过采用对双极型(Bipolar)、互补对称式金属–氧化物–半导体型(CMOS)、双极互补金属氧化物半导体型(BiCMOS)三种不同工艺所设计的静态存储单元电路在性能、特点方面进行比较的方法,... 论述了静态存储单元电路对目前高速数字系统的意义。通过采用对双极型(Bipolar)、互补对称式金属–氧化物–半导体型(CMOS)、双极互补金属氧化物半导体型(BiCMOS)三种不同工艺所设计的静态存储单元电路在性能、特点方面进行比较的方法,从而提出一些实际的解决措施,以便研发人员在设计具体的SRAM电路时有所参考。 展开更多
关键词 电路设计 静态存储器 双极型 互补对称式金属-氧化物-半导体电路 双极互补金属氧化物半导体电路 cmos SRAM
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二十四所半导体工艺技术发展历程与展望 被引量:1
13
作者 何开全 王志宽 钟怡 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期17-22,共6页
回顾了中电科技集团公司第二十四研究所自建所以来的半导体集成电路工艺发展历程。晶圆尺寸从1.5吋(40 mm)到6吋(150 mm),特征线宽从10μm到0.5μm,器件特征频率从低频到射频,工作电压从5 V到800 V,包括射频和高压大功率的各种器件。从... 回顾了中电科技集团公司第二十四研究所自建所以来的半导体集成电路工艺发展历程。晶圆尺寸从1.5吋(40 mm)到6吋(150 mm),特征线宽从10μm到0.5μm,器件特征频率从低频到射频,工作电压从5 V到800 V,包括射频和高压大功率的各种器件。从研制成功全国第一块大规模集成电路至今,二十四所作为全国唯一的模拟集成电路专业研究所,在各个领域均取得了突出的成就,见证了中国半导体集成电路事业的发展历程。最后,展望了二十四所模拟及专用集成电路工艺技术的发展前景。 展开更多
关键词 半导体工艺 双极 互补双极 cmos VDMOS bicmos SOI
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低压差电压调节器技术发展动态 被引量:10
14
作者 赖凡 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2004年第4期411-417,共7页
 介绍了电源和功率管理集成电路市场,描述了低压差(LDO)电压调节器技术的发展进程和未来趋势;对国内外LDO产品和技术现状进行了比较,提出了发展LDO的建议。
关键词 电压调节器 LDO cmos PMOS DMOS
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固态微波电子学的新进展 被引量:4
15
作者 赵正平 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2018年第1期1-14,47,共15页
固态微波电子学是现代电子学的重要分支之一,其基础材料已由第一代半导体Si和Ge、第二代半导体GaAs和InP,发展到第三代半导体GaN和SiC,石墨烯和金刚石等C基新材料正在进行探索性的研究,其加工工艺的尺寸也已进入纳米尺度,其工作频率已达... 固态微波电子学是现代电子学的重要分支之一,其基础材料已由第一代半导体Si和Ge、第二代半导体GaAs和InP,发展到第三代半导体GaN和SiC,石墨烯和金刚石等C基新材料正在进行探索性的研究,其加工工艺的尺寸也已进入纳米尺度,其工作频率已达到1 THz,应用的频率可覆盖微波毫米波到太赫兹。目前固态微波电子学呈多代半导体材料和器件共同发展的格局。综述了具有代表性的11类固态器件(RF CMOS,SiGe BiCMOS,RF LDMOS,RF MEMS,GaAs PHEMT,GaAs MHEMT,InP HEMT,InP HBT,GaN/SiC HEMT,GFET和金刚石FET)近几年的最新研究进展,详细介绍了有关固态微波电子学的应用需求、技术特点、设计拓扑、关键技术突破和测试结果,分析了当前固态微波电子学总的发展趋势和11类固态微波器件的发展特点和定位。最后介绍了采用3D异构集成技术的射频微系统的最新进展,指出射频微系统是发展下一代射频系统的关键技术。 展开更多
关键词 固态微波电子学 RF cmos sige BIMOS RF LDMOS RF MEMS GAAS PHEMT GAAS MHEMT INP HEMT INP HBT GaN/SiC HEMT GFET 金刚石FET 射频微系统 3D异构集成
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有源功率因数校正控制芯片的设计与实现 被引量:1
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作者 徐孝如 赵梦恋 +2 位作者 吴晓波 章丹艳 严晓浪 《浙江大学学报(工学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期618-621,626,共5页
为了有效改善电网供电质量,提高电能利用率,针对中大功率电器功率因数校正的需要,设计了一种带输入电压前馈的基于平均电流模式控制的有源功率因数校正(APFC)控制芯片.该芯片集成了输出过压保护和涌入电流限制等保护电路,采用1.5μm双极... 为了有效改善电网供电质量,提高电能利用率,针对中大功率电器功率因数校正的需要,设计了一种带输入电压前馈的基于平均电流模式控制的有源功率因数校正(APFC)控制芯片.该芯片集成了输出过压保护和涌入电流限制等保护电路,采用1.5μm双极型-CMOS(BiCMOS)工艺实现,芯片面积为2.44 mm×2.38 mm.基于该芯片设计了一250 W功率因数校正电路,测试结果表明,芯片在12 V供电电压的条件下,静态功耗为48 mW(不包括开关损耗);在220 V交流输入、满负载下的功率因数为0.993. 展开更多
关键词 功率因数 有源功率因数校正 模拟与混合集成电路 双极型-cmos
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锂离子电池充电器中基准源的设计 被引量:5
17
作者 樊晓燕 王兴君 《现代电子技术》 2004年第24期27-29,共3页
分析了双极型和 CMOS型基准电压源的特点 ,在此基础上提出了一种新型的 BI CMO S基准电压源 ,并对他的工作原理进行了分析。
关键词 带隙基准源 BI-cmos 集成电路 双极型基准电压源 cmos型基准电压源
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无线产品半导体工艺的选择
18
作者 PAULKEMPF 佳木 《今日电子》 2005年第6期50-51,共2页
关键词 半导体工艺 无线产品 数字cmos bicmos cmos工艺 可行性方案 生产工艺 无线标准 sige 产品设计 生产规模 特殊工艺 技术标准 可能性 单芯片 扩展
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