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一种新型n^-区多层渐变掺杂SiGe/Si功率开关二极管 被引量:3
1
作者 马丽 高勇 王彩琳 《电子器件》 CAS 2004年第2期232-235,共4页
n- 区掺杂浓度采用多层渐变式结构的p+ (SiGe) n- n+ 异质结功率二极管 ,对该新结构的反向恢复特性及正反向I -V特性进行了模拟 ,从器件运行机理上对模拟结果做出了详细的分析。与n- 区固定掺杂的普通p+ (SiGe) n- n+ 二极管相比 ,... n- 区掺杂浓度采用多层渐变式结构的p+ (SiGe) n- n+ 异质结功率二极管 ,对该新结构的反向恢复特性及正反向I -V特性进行了模拟 ,从器件运行机理上对模拟结果做出了详细的分析。与n- 区固定掺杂的普通p+ (SiGe) n- n+ 二极管相比 ,在正向压降基本不发生变化的前提下 ,渐变掺杂后的器件反向恢复时间可缩短一半 ,反向峰值电流能降低 33% ,反向恢复软度因子可提高 1 5倍。并且 ,随着n- 区渐变掺杂的层数增多 ,反向恢复特性越好。 展开更多
关键词 sige/si异质结 功率二极管 多层渐变掺杂 快速软恢复
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横向结构参数对SiGe HBT小信号模型参量的影响 被引量:1
2
作者 赵彦晓 张万荣 +4 位作者 谢红云 黄鑫 张良浩 金子超 付强 《北京工业大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2016年第4期508-512,共5页
为了分析了发射极条宽、条长、条数等横向结构参数对SiGe HBT小信号模型参数的影响,通过Jazz 0.35μm BiCMOS SiGe HBT的Y参量,得出了在不同横向结构参数下SiGe HBT的小信号模型参数.结果表明:增加发射极条宽、条长、条数时,小信号模型... 为了分析了发射极条宽、条长、条数等横向结构参数对SiGe HBT小信号模型参数的影响,通过Jazz 0.35μm BiCMOS SiGe HBT的Y参量,得出了在不同横向结构参数下SiGe HBT的小信号模型参数.结果表明:增加发射极条宽、条长、条数时,小信号模型中的等效电阻值减小、等效电容增大、跨导也增大.在此基础上,分析了SiGe HBT横向结构参数对合成的有源电感特性的影响.在设计不同性能的有源电感时,所得结果对有源器件横向结构参数的选取有一定的指导意义. 展开更多
关键词 横向结构 Y参量 小信号模型参数 sige HBT
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UHV/CVD生长SiGe/Si材料分析及应用研究 被引量:2
3
作者 周志文 叶剑锋 《深圳信息职业技术学院学报》 2011年第3期29-32,共4页
以Si2H6和GeH4为生长气源,采用UHV/CVD系统在Si(100)衬底上生长了Si1-xGex合金和Si1-xGex/Si多量子阱结构。采用X射线双晶衍射仪、扫描电子显微镜和原子力显微镜等仪器设备对样品的组份、界面和表面形貌等晶体质量进行了研究。SiGe合金... 以Si2H6和GeH4为生长气源,采用UHV/CVD系统在Si(100)衬底上生长了Si1-xGex合金和Si1-xGex/Si多量子阱结构。采用X射线双晶衍射仪、扫描电子显微镜和原子力显微镜等仪器设备对样品的组份、界面和表面形貌等晶体质量进行了研究。SiGe合金中Si和Ge摩尔分数的比值随着Si2H6和GeH4流量比的增加按比例线性增加,比例因子为2.57。生长的Si0.88Ge0.12合金样品的界面清晰,表面平整,平均粗糙度仅为0.4 nm,位错密度低于104/cm2。六周期Si0.88Ge0.12/Si多量子阱的X射线双晶衍射摇摆曲线中存在多级卫星峰和Pendellosung条纹。这些结果表明SiGe合金和SiGe/Si多量子阱均具有很好的晶体质量。 展开更多
关键词 sige合金 sige/si多量子阱 外延生长 UHV/CVD
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快速软恢复SiGe功率开关二极管的结构设计与特性分析
4
作者 马丽 高勇 +1 位作者 刘静 余明斌 《电子器件》 CAS 2007年第4期1255-1257,1265,共4页
为了进一步提高SiGe/Si异质结功率开关二极管的性能,提出了一种SiGe功率开关二极管的新结构,用交替的p+、n+区形成的mosaic结构来代替原常规的n+区,关断时可同时为电子和空穴的抽取提供通道使阴极具有理想欧姆接触.该结构可大大提高开... 为了进一步提高SiGe/Si异质结功率开关二极管的性能,提出了一种SiGe功率开关二极管的新结构,用交替的p+、n+区形成的mosaic结构来代替原常规的n+区,关断时可同时为电子和空穴的抽取提供通道使阴极具有理想欧姆接触.该结构可大大提高开关速度,并获得很软的反向恢复特性及很低的漏电流.与常规p+(SiGe)-n--n+功率开关二极管相比,反向恢复时间缩短了近2/3,反向峰值电流降低了约1/2,漏电流降低了约1个数量级.另外,嵌镶结构中p+区的厚度对器件性能有很大影响,调整p+区的厚度可实现器件的反向耐压能力和反向恢复特性之间很好的折衷.这种性能的改进无需采用少子寿命控制技术因而很容易集成于功率IC中. 展开更多
关键词 sige/si异质结 功率二极管 快速软恢复 低漏电流
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SiGe/SiHBT异质界面与pn结界面的相对位移的影响
5
作者 徐晨 沈光地 +6 位作者 邹德恕 陈建新 李建军 罗辑 魏欢 周静 董欣 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第8期63-65,共3页
从模拟和实验两方面研究了SiGe/SiHBT发射结中pn结界面和SiGe/Si界面的相对位置对器件的电流增益和频率特性的影响 .发现两界面偏离时器件性能会变差 .尤其是当pn结位于SiGe/Si界面之前仅几十 就足以产生相当高的电子寄生势垒 ,严重恶... 从模拟和实验两方面研究了SiGe/SiHBT发射结中pn结界面和SiGe/Si界面的相对位置对器件的电流增益和频率特性的影响 .发现两界面偏离时器件性能会变差 .尤其是当pn结位于SiGe/Si界面之前仅几十 就足以产生相当高的电子寄生势垒 ,严重恶化器件的性能 .据此分析了基区B杂质的偏析和外扩对器件的影响以及SiGe/Si隔离层的作用 . 展开更多
关键词 sige/si异质结双极晶体管 pn结界面 相对位移
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SiGe HBT技术及其在超高速光纤通信电路中的应用
6
作者 徐跃 郭宇锋 《电气电子教学学报》 2006年第6期35-38,共4页
超高速通信集成电路必须满足高速率、低成本、低功耗和低噪声等指标要求。因为本文介绍了SiGe HBT的一些重要特性,SiGe HBT和Si基工艺兼容,能有效的将CMOS电路集成到一起,具有和Si工艺一样的低成本,而性能指标却能和GaAsI、nP等媲美。... 超高速通信集成电路必须满足高速率、低成本、低功耗和低噪声等指标要求。因为本文介绍了SiGe HBT的一些重要特性,SiGe HBT和Si基工艺兼容,能有效的将CMOS电路集成到一起,具有和Si工艺一样的低成本,而性能指标却能和GaAsI、nP等媲美。笔者用IBM公司0.5μm SiGe BiCMOS HBT工艺设计了一个10Gbit/s的光接收机限幅放大器。 展开更多
关键词 sige 异质结双极晶体管 光接收机 限幅放大器
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两种新结构SiGe/Si功率二极管特性模拟
7
作者 祁慧 高勇 +2 位作者 余宁梅 马丽 安涛 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2004年第2期168-172,228,共6页
提出了在 n- 区中采用掺杂浓度三层渐变式结构 Si Ge/Si功率二极管及台面结构的 Si Ge/Si功率二极管。由 Medici模拟所得的特性表明 ,在采用 n- 区渐变掺杂结构的 p+ ( Si Ge) -n- -n+ 功率二极管中 ,在正向特性基本不发生变化的前提下 ... 提出了在 n- 区中采用掺杂浓度三层渐变式结构 Si Ge/Si功率二极管及台面结构的 Si Ge/Si功率二极管。由 Medici模拟所得的特性表明 ,在采用 n- 区渐变掺杂结构的 p+ ( Si Ge) -n- -n+ 功率二极管中 ,在正向特性基本不发生变化的前提下 ,与 n-区固定掺杂结构相比反向恢复过程加快 ,二极管下降时间 t A 缩短近 1 /2 ;在采用台面结构的 p+ ( Si Gi) -n- -n+功率二极管中 ,反向恢复特性也有明显改进 ,电流反向恢复时间缩短近 1 /3 ,而电压反向恢复时间缩短近 1 /2。 展开更多
关键词 锗硅/硅异质结 PIN二极管 渐变掺杂 Medici模拟
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新型SiGe开关功率二极管的特性分析
8
作者 陈波涛 高勇 杨媛 《电力电子技术》 CSCD 北大核心 2002年第1期60-62,共3页
提出了一种新型SiGe/Si异质结P i N开关功率二极管结构 ,在分析器件结构机理的基础上 ,用Medici模拟了该器件的特性。结果表明 ,该功率二极管具有低的正向压降 ,较少的存贮电荷 。
关键词 sige 异质结 通态压降 存贮电荷 开关功率二极管 特性分析
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SiGe开关功率二极管的计算机模拟及优化设计
9
作者 陈波涛 杨媛 高勇 《西安理工大学学报》 CAS 2002年第2期140-143,共4页
介绍了新型 Si Ge开关功率二极管结构及机理 ,在对器件正反向特性进行模拟的基础上进一步进行了优化设计 ,并对其动态特性进行了模拟。与正反向特性模拟结果综合比较得出 ,取 2 0 %的 Ge含量和 2 0 nm的 Si Ge层厚时 ,器件性能最优。
关键词 开关功率二极管 计算机模拟 优化设计 sige/si异质结 通态压降 存贮电荷
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纳米硅(nc-Si∶H)/晶体硅(c-Si)异质结太阳电池计算机模拟 被引量:2
10
作者 胡志华 夏朝凤 +1 位作者 徐德林 廖显伯 《云南师范大学学报(自然科学版)》 2003年第3期23-26,共4页
文章运用美国宾州大学发展的 AMPS程序模拟计算了 n-型纳米硅 ( n+ -nc-Si∶ H) /p-型晶体硅 ( p-c-Si)异质结太阳电池的光伏特性。结果显示 ,界面缺陷态是决定电池性能的关键因素 ,显著影响电池的开路电压 ( VOC和填充因子 ( F F)。计... 文章运用美国宾州大学发展的 AMPS程序模拟计算了 n-型纳米硅 ( n+ -nc-Si∶ H) /p-型晶体硅 ( p-c-Si)异质结太阳电池的光伏特性。结果显示 ,界面缺陷态是决定电池性能的关键因素 ,显著影响电池的开路电压 ( VOC和填充因子 ( F F)。计算得到了这种电池理想情况下 (无界面态、有背面场、正背面反射率分别为 0和 1 )的理论极限效率 ηmax=3 1 .1 7% ( AM1 .5 1 0 0 MW/cm2 0 .40~ 1 .1 0 μm波段 )。 展开更多
关键词 nc-si:H/c-si异质结 太阳电池 纳米硅 晶体硅 光伏特性 计算机模拟 极限效率
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Si夹层对GaAs/AlAs异质结的影响 被引量:1
11
作者 李永平 刘杰 +1 位作者 姜永超 田强 《山东大学学报(理学版)》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期40-42,48,共4页
用MBE生长了GaAs/Si/AlAs异质结及其对比样,通过深能级瞬态谱技术(DLTS)和X射线光电子谱测量(XPS)研究了Si夹层的引入对异质结的影响,研究发现Si夹层的引入不会引起明显的深能级缺陷,异质结仍保持较好的质量,但使GaAs/AlAs的带阶发生了... 用MBE生长了GaAs/Si/AlAs异质结及其对比样,通过深能级瞬态谱技术(DLTS)和X射线光电子谱测量(XPS)研究了Si夹层的引入对异质结的影响,研究发现Si夹层的引入不会引起明显的深能级缺陷,异质结仍保持较好的质量,但使GaAs/AlAs的带阶发生了改变。 展开更多
关键词 GaAs/AlAs异质结 si夹层 X射线光电子谱测量 深能级瞬态谱测量
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The n-type Si-based materials applied on the front surface of IBC-SHJ solar cells
12
作者 Jianhui Bao Ke Tao +2 位作者 Yiren Lin Rui Jia Aimin Liu 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2019年第9期353-358,共6页
Interdigitated back contact silicon hetero-junction(IBC-SHJ) solar cells exhibit excellent performance owing to the IBC and SHJ structures.The front surface field(FSF) layer composed of electric field passivation and ... Interdigitated back contact silicon hetero-junction(IBC-SHJ) solar cells exhibit excellent performance owing to the IBC and SHJ structures.The front surface field(FSF) layer composed of electric field passivation and chemical passivation has been proved to play an important role in IBC-SHJ solar cells.The electric field passivated layer n^+-a-Si: H, an n-type Si alloy with carbon or oxygen in amorphous phase, is simulated in this study to investigate its effect on IBC-SHJ.It is indicated that the n^+-a-Si: H layer with wider band gap can reduce the light absorption on the front side efficaciously,which hinders the surface recombination of photo-generated carriers and thus contributes to the improvement of the short circuit current density Jsc.The highly doped n^+-a-Si: H can result in the remakable energy band bending, which makes it outstanding in the field passivation, while it makes little contribution to the chemical passivation.It is noteworthy that when the electric field intensity exceeds 1.3 × 10^5 V/cm, the efficiency decrease caused by the inferior chemical passivation is only 0.16%.In this study, the IBC-SHJ solar cell with a front n^+-a-Si: H field passivation layer is simulated, which shows the high efficiency of 26% in spite of the inferior chemical passivation on the front surface. 展开更多
关键词 si-based doped materials PASsiVATION interdigitated BACK contact silicon hetero-junction(IBC-SHJ) solar cell simulation
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异质多晶SiGe栅应变Si NMOSFET物理模型研究 被引量:1
13
作者 王斌 张鹤鸣 +4 位作者 胡辉勇 张玉明 宋建军 周春宇 李妤晨 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第21期452-459,共8页
结合了"栅极工程"和"应变工程"二者的优点,异质多晶SiGe栅应变Si MOSFET,通过沿沟道方向使用不同功函数的多晶SiGe材料,在应变的基础上进一步提高了MOSFET的性能.本文结合其结构模型,以应变Si NMOSFET为例,建立了... 结合了"栅极工程"和"应变工程"二者的优点,异质多晶SiGe栅应变Si MOSFET,通过沿沟道方向使用不同功函数的多晶SiGe材料,在应变的基础上进一步提高了MOSFET的性能.本文结合其结构模型,以应变Si NMOSFET为例,建立了强反型时的准二维表面势模型,并进一步获得了其阈值电压模型以及沟道电流的物理模型.应用MATLAB对该器件模型进行了分析,讨论了异质多晶SiGe栅功函数及栅长度、衬底SiGe中Ge组分等参数对器件阈值电压、沟道电流的影响,获得了最优化的异质栅结构.模型所得结果与仿真结果及相关文献给出的结论一致,证明了该模型的正确性.该研究为异质多晶SiGe栅应变Si MOSFET的设计制造提供了有价值的参考. 展开更多
关键词 异质多晶sige 应变si NMOSFET 表面势 沟道电流
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柔性衬底非晶硅/非晶硅锗叠层太阳电池 被引量:3
14
作者 刘成 徐正军 杨君坤 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第12期2191-2195,共5页
首先研究沉积温度对p型材料的影响,并应用于非晶硅锗单结太阳电池,发现在140℃下沉积的p层最适合,这与非晶硅太阳电池有较大差别。其次研究3种不同结构隧穿结对叠层太阳电池性能的影响,发现p+-nc-Si/n+-a-Si隧穿结最优。在上述基础上,... 首先研究沉积温度对p型材料的影响,并应用于非晶硅锗单结太阳电池,发现在140℃下沉积的p层最适合,这与非晶硅太阳电池有较大差别。其次研究3种不同结构隧穿结对叠层太阳电池性能的影响,发现p+-nc-Si/n+-a-Si隧穿结最优。在上述基础上,获得效率为11.21%的柔性聚酰亚胺衬底非晶硅/非晶硅锗叠层太阳电池。 展开更多
关键词 柔性衬底 非晶硅 非晶硅锗 叠层太阳电池 隧穿结
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光伏新材料——掺氮碳薄膜溅射制备技术及测试 被引量:2
15
作者 丁正明 周之斌 +2 位作者 崔容强 孙铁囤 贺振宏 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2003年第3期320-322,共3页
介绍了采用氮气离子束溅射 ,高纯石墨为靶材 ,沉积掺氮碳薄膜的设备及工艺技术。对薄膜的沉积过程作了讨论 ,采用 X射线光电子能谱 (XPS)技术等对薄膜结构成分、氮 -碳、碳 -碳原子之间的键以及结合能作了研究 ,在 (1 1 1 )单晶硅片上... 介绍了采用氮气离子束溅射 ,高纯石墨为靶材 ,沉积掺氮碳薄膜的设备及工艺技术。对薄膜的沉积过程作了讨论 ,采用 X射线光电子能谱 (XPS)技术等对薄膜结构成分、氮 -碳、碳 -碳原子之间的键以及结合能作了研究 ,在 (1 1 1 )单晶硅片上沉积掺氮碳薄膜 ,构成 C/Si异质结 ,在 1 0 0 m W/cm2 光照下 ,开路电压达 2 0 0 m V。 展开更多
关键词 光伏材料 掺氮碳薄膜 溅射制备技术 测试 碳/硅异质结 X射线光电子能谱 太阳能电池
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i基区渐变掺杂SiGe/Si异质结开关功率二极管的特性模拟
16
作者 祁慧 高勇 +2 位作者 余宁梅 马丽 安涛 《功能材料与器件学报》 CAS CSCD 2003年第4期437-442,共6页
提出了在SiGe/Si异质结开关功率二极管的本征i区中采用掺杂浓度三层渐变式结构。由Medici模拟所得的特性曲线表明,该结构在正向I-V特性基本不发生改变的前提下,与i区固定掺杂结构相比具有更好的反向恢复电流与反向恢复电压特性,尤其软... 提出了在SiGe/Si异质结开关功率二极管的本征i区中采用掺杂浓度三层渐变式结构。由Medici模拟所得的特性曲线表明,该结构在正向I-V特性基本不发生改变的前提下,与i区固定掺杂结构相比具有更好的反向恢复电流与反向恢复电压特性,尤其软恢复特性更加明显,反向恢复过程加快。还对渐变掺杂所得到的优越性能进行了分析,从理论上给出了较好的解释。 展开更多
关键词 sige/si异质结 开关功率二极管 渐变掺杂 MEDICI 软恢复 PIN二极管
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CuPc based organic-inorganic hetero-junction with Au electrodes
17
作者 Zubair Ahmad Muhammad H.Sayyad Kh.S.Karimov 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第7期22-25,共4页
A hetero-junction of n-silicon(n-Si) and copper phthalocyanine(CuPc) has been fabricated.The current -voltage characteristics were investigated to explain the rectification and conduction mechanism.The effect of t... A hetero-junction of n-silicon(n-Si) and copper phthalocyanine(CuPc) has been fabricated.The current -voltage characteristics were investigated to explain the rectification and conduction mechanism.The effect of temperature and humidity on the electrical properties of n-Si/CuPc hetero-junction has also been investigated.The characteristics of the junction have been observed to be temperature and humidity dependent,so it is suggested that this junction can be used as a temperature and humidity sensor. 展开更多
关键词 inorganic-organic hetero-junction n-si CUPC
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一种结构新颖的锗硅NPN HBT器件特性研究
18
作者 刘冬华 段文婷 +6 位作者 石晶 胡君 陈帆 黄景峰 钱文生 肖胜安 朱东园 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2013年第1期32-36,共5页
对一种结构新颖的锗硅NPN HBT器件的特性进行了研究。通过分析器件发射极窗口宽度W和长度L对器件直流和交流特性的影响,对器件在结构上和制作工艺上进行了优化,得到性能与业界可比的三种不同耐压水平的器件(高速器件、标准器件和高压器... 对一种结构新颖的锗硅NPN HBT器件的特性进行了研究。通过分析器件发射极窗口宽度W和长度L对器件直流和交流特性的影响,对器件在结构上和制作工艺上进行了优化,得到性能与业界可比的三种不同耐压水平的器件(高速器件、标准器件和高压器件),并且成功地被应用于光通讯和射频功放等商业产品中。 展开更多
关键词 锗硅NPN异质结三极管 电流增益 截止频率
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纳米硅(nc-Si:H)晶体硅(c-Si)异质结太阳电池的数值模拟分析 被引量:27
19
作者 胡志华 廖显伯 +4 位作者 曾湘波 徐艳月 张世斌 刁宏伟 孔光临 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期217-224,共8页
运用美国宾州大学发展的AMPS程序模拟分析了n 型纳米硅 (n+ nc Si:H) p 型晶体硅 (p c Si)异质结太阳电池的光伏特性 .分析表明 ,界面缺陷态是决定电池性能的关键因素 ,显著影响电池的开路电压 (VOC)和填充因子(FF) ,而电池的光谱响... 运用美国宾州大学发展的AMPS程序模拟分析了n 型纳米硅 (n+ nc Si:H) p 型晶体硅 (p c Si)异质结太阳电池的光伏特性 .分析表明 ,界面缺陷态是决定电池性能的关键因素 ,显著影响电池的开路电压 (VOC)和填充因子(FF) ,而电池的光谱响应或短路电流密度 (JSC)对缓冲层的厚度较为敏感 .对不同能带补偿 (bandgapoffset)的情况所进行的模拟分析表明 ,随着ΔEc 的增大 ,由于界面态所带来的开路电压和填充因子的减小逐渐被消除 ,当ΔEc达到 0 5eV左右时界面态的影响几乎完全被掩盖 .界面层的其他能带结构特征对器件性能的影响还有待进一步研究 .最后计算得到了这种电池理想情况下 (无界面态、有背面场、正背面反射率分别为 0和 1)的理论极限效率 ηmax=31 17% (AM1 5 ,10 0mW cm2 ,0 4 0— 1 10 μm波段 ) . 展开更多
关键词 数值模拟 nc-si:H/c-si异质结 太阳电池 计算机模拟 光伏特性 纳米硅/晶体硅异质结
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Si_(1-x)Ge_x/Si脊形波导X型分支器的研制 被引量:3
20
作者 高勇 刘恩科 +1 位作者 李国正 刘西钉 《光学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第2期252-254,共3页
采用分子束外延方法制作低损耗Si1-xGe/Si异质结脊形光波导,在X型交叉波导上实现了Si1-xGex/Si光分支器的功能.设计中采用了SiGe大截面脊形波导的单模条件和交叉波导传输特性分析的结果.X型光分支器的实... 采用分子束外延方法制作低损耗Si1-xGe/Si异质结脊形光波导,在X型交叉波导上实现了Si1-xGex/Si光分支器的功能.设计中采用了SiGe大截面脊形波导的单模条件和交叉波导传输特性分析的结果.X型光分支器的实现为进一步研制Si1-xGex/Si光开关和光电调制器积累了经验. 展开更多
关键词 异质结 脊形波导 X型 波导 分支器
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