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SiGe缓冲层对β-SiC(n)/c-Si(p)异质结特性的影响
被引量:
1
1
作者
张彩珍
刘肃
+2 位作者
陈永刚
吴蓉
刘春娟
《兰州交通大学学报》
CAS
2008年第4期141-144,共4页
SiC/Si的界面特性严重影响着SiC/Si异质结的电学特性及光学特性.在β-SiC(n)/c-Si(p)异质结中引入Si Ge缓冲层,构造了Al/β-SiC(n)/Si Ge/c-Si(p)/Al典型的三明治异质结结构.对带有和不带Si Ge缓冲层的β-SiC(n)/c-Si(p)异质结的界面SE...
SiC/Si的界面特性严重影响着SiC/Si异质结的电学特性及光学特性.在β-SiC(n)/c-Si(p)异质结中引入Si Ge缓冲层,构造了Al/β-SiC(n)/Si Ge/c-Si(p)/Al典型的三明治异质结结构.对带有和不带Si Ge缓冲层的β-SiC(n)/c-Si(p)异质结的界面SEM图像,正反向I-V特性曲线及QE作了对比研究,理论和实验均表明,Si Ge缓冲层的引入可以有效地改善β-SiC(n)/c-Si(p)异质结的界面特性,减少界面缺陷,从而提高异质结的反向击穿电压及整流比,展宽异质结光谱响应范围,提高量子效率QE,且使QE的峰值点发生明显红移.
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关键词
异质结
sige缓冲层
SEM
QE
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职称材料
题名
SiGe缓冲层对β-SiC(n)/c-Si(p)异质结特性的影响
被引量:
1
1
作者
张彩珍
刘肃
陈永刚
吴蓉
刘春娟
机构
兰州交通大学电子与信息工程学院
兰州大学物理科学与技术学院
兰州交通大学自动化与电气工程学院
出处
《兰州交通大学学报》
CAS
2008年第4期141-144,共4页
文摘
SiC/Si的界面特性严重影响着SiC/Si异质结的电学特性及光学特性.在β-SiC(n)/c-Si(p)异质结中引入Si Ge缓冲层,构造了Al/β-SiC(n)/Si Ge/c-Si(p)/Al典型的三明治异质结结构.对带有和不带Si Ge缓冲层的β-SiC(n)/c-Si(p)异质结的界面SEM图像,正反向I-V特性曲线及QE作了对比研究,理论和实验均表明,Si Ge缓冲层的引入可以有效地改善β-SiC(n)/c-Si(p)异质结的界面特性,减少界面缺陷,从而提高异质结的反向击穿电压及整流比,展宽异质结光谱响应范围,提高量子效率QE,且使QE的峰值点发生明显红移.
关键词
异质结
sige缓冲层
SEM
QE
Keywords
heterojunetion
sige
buffer layer
SEM
QE
分类号
TN323 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
SiGe缓冲层对β-SiC(n)/c-Si(p)异质结特性的影响
张彩珍
刘肃
陈永刚
吴蓉
刘春娟
《兰州交通大学学报》
CAS
2008
1
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职称材料
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参考文献
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