硅表面HEMA和NIPAM聚合物刷点阵组装

嵌段共聚物纳米刻蚀技术由于具有大面积、大批量生产的优点,可应用于集成电路硅片、生物芯片等技术领域.本文对该技术进行了改进,首先,通过聚苯乙烯-聚(4-乙烯基吡啶)(polystyrene-block-poly(4-vinylpyridine),PS-b-P4VP)胶束溶液旋涂得到其自组装点阵模板,然后通过稀氢氟酸腐蚀在硅表面上形成相应的硅-氢(SiH_(x))纳米坑点阵图案,进而由原子转移自由基聚合反应(atom transfer radical polymerization,ATRP)生成甲基丙烯酸-2-羟基乙酯(hydroxyethyl methacrylate,HEMA)和N-异丙基丙烯酰胺(N-isopropyl acrylamide,NIPAM)聚合物刷的纳米点阵结构.硅和其表面的HEMA和NIPAM聚合物刷软材料构成新颖的复合材料,同时兼容了无机和有机材料的优点,扩大了其在催化、吸附、分离和生物分子检测领域的应用.加之其良好的生物兼容性,可直接用于人体和动物体,而且硅表面高分子刷丰富的功能团,也为后续的端基改性提供了基础.