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热处理对离子束溅射SiO_2薄膜结构特性的影响分析 被引量:12
1
作者 季一勤 姜玉刚 +6 位作者 刘华松 王利栓 刘丹丹 姜承慧 羊亚平 樊荣伟 陈德应 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第2期418-422,共5页
采用离子束溅射沉积技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,研究了热处理对离子束溅射SiO2薄膜结构特性的影响。热处理温度对表面粗糙度影响较大,低温热处理可降低表面粗糙度,高温热处理则增大表面粗糙度,选择合适的热处理温度,可以使表... 采用离子束溅射沉积技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,研究了热处理对离子束溅射SiO2薄膜结构特性的影响。热处理温度对表面粗糙度影响较大,低温热处理可降低表面粗糙度,高温热处理则增大表面粗糙度,选择合适的热处理温度,可以使表面粗糙度几乎不变。采用X射线衍射仪(XRD)物相分析方法,分析了热处理对离子束溅射SiO2薄膜的无定形结构特性的影响,当退火温度为550℃,离子束溅射SiO2薄膜的短程有序范围最大、最近邻原子平均距离最小,与熔融石英基底很接近,结构稳定。实验结果表明,采用合适的热处理温度,能大大改善离子束溅射SiO2薄膜的结构特性。 展开更多
关键词 sio2薄膜 热处理 表面粗糙度 XRD 无定形结构
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TiO_2-SiO_2系统凝胶玻璃薄膜折射率的研究 被引量:7
2
作者 樊先平 郝霄鹏 +1 位作者 姚华文 王民权 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期215-217,共3页
应用光度法研究了溶胶 凝胶系统组成、热处理温度对TiO2 SiO2 系统凝胶玻璃薄膜折射率的影响规律。随薄膜中TiO2 含量的增加以及热处理温度的升高 ,薄膜的折射率逐渐增大。通过调整TiO2 SiO2 系统的组成及适当的热处理温度 ,可实现Ti... 应用光度法研究了溶胶 凝胶系统组成、热处理温度对TiO2 SiO2 系统凝胶玻璃薄膜折射率的影响规律。随薄膜中TiO2 含量的增加以及热处理温度的升高 ,薄膜的折射率逐渐增大。通过调整TiO2 SiO2 系统的组成及适当的热处理温度 ,可实现TiO2 SiO2 系统薄膜折射率在 1.5~ 2 . 展开更多
关键词 溶胶-凝胶 折射率 TiO2-sio2薄膜 平面光波导
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超亲水TiO_2和TiO_2-SiO_2表面的动态润湿性 被引量:10
3
作者 冯文辉 管自生 +3 位作者 蒋峰芝 张金彪 宋延林 江雷 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期745-747,共3页
The dynamic wetting of water spreading on TiO 2 and TiO 2 SiO 2 films prepared by sol gel method and subsequently treated by air plasma and UV irradiation was investigated. Water completely spread on TiO 2 surface wit... The dynamic wetting of water spreading on TiO 2 and TiO 2 SiO 2 films prepared by sol gel method and subsequently treated by air plasma and UV irradiation was investigated. Water completely spread on TiO 2 surface within 3 s and its dynamic contact angles can be expressed by a power law θ d= k(t+a) -n with the n value 0.98. Less than 50%(molar fraction) SiO 2 addition can accelerate the dynamic water spreading rate on the TiO 2 SiO 2 films and the optimum molar fraction of SiO 2 amount corresponding to as annealed, air plasma, and UV irradiation treatment process is 15%, 10% and 20%, respectively. 展开更多
关键词 TIO2 sio2 动态润湿性 超亲水表面 二氧化钛 二氧化硅
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ZrO_2-SiO_2膜的制备和结构研究 被引量:13
4
作者 黄永前 郑昌琼 +1 位作者 胡英 张育林 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第2期204-206,共3页
以正硅酸乙酯和氧氯化锆为原料 ,用溶胶 -凝胶法制备了无支撑ZrO2 -SiO2 膜。应用DTA -TG、XRD、SEM和BET等测试技术对无支撑ZrO2 -SiO2 膜的结构、表面形貌和孔径进行了表征 ,结果表明ZrO2 -SiO2 凝胶膜虽在 46 7℃开始出现少量单斜ZrO... 以正硅酸乙酯和氧氯化锆为原料 ,用溶胶 -凝胶法制备了无支撑ZrO2 -SiO2 膜。应用DTA -TG、XRD、SEM和BET等测试技术对无支撑ZrO2 -SiO2 膜的结构、表面形貌和孔径进行了表征 ,结果表明ZrO2 -SiO2 凝胶膜虽在 46 7℃开始出现少量单斜ZrO2 ,但在 5 0 0℃和 12 0 0℃热处理后的主晶相均为四方ZrO2 ,显然SiO2 的存在阻碍了四方相ZrO2 向单斜相ZrO2 转变的过程 ,ZrO2 -SiO2 膜具有比ZrO2 膜更高的热稳定性 ,在95 0℃烧结的无支撑ZrO2 -SiO2 膜孔径稍呈双峰分布 ,其最可几孔径为 3 .3 5nm。 展开更多
关键词 ZrO2-sio2膜 溶胶-凝胶 制备 结构 热稳定性
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四甲基硅氧烷制备SiO_(x)低表面能薄膜 被引量:2
5
作者 周美丽 陈强 +1 位作者 岳蕾 葛袁静 《包装工程》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期68-70,共3页
采用13.56MHz的射频等离子体聚合装置,以四甲基二硅氧烷(TMDSO)为单体、氧气为反应气体、氩气为电离气体,在载玻片、单晶硅片、PET、BOPP等基体材料上沉积氧化硅低表面能薄膜。在薄膜的制备工艺研究中,通过改变放电方式、工作压强、放... 采用13.56MHz的射频等离子体聚合装置,以四甲基二硅氧烷(TMDSO)为单体、氧气为反应气体、氩气为电离气体,在载玻片、单晶硅片、PET、BOPP等基体材料上沉积氧化硅低表面能薄膜。在薄膜的制备工艺研究中,通过改变放电方式、工作压强、放电功率、沉积时间、氩气和TMDSO单体的比例等参数,研究氧化硅薄膜的沉积速率;通过傅立叶红外光谱仪(FTIR)、原子力显微镜(AFM)等分析了沉积膜的化学组成和结合状态;利用接触角测定仪测量薄膜的接触角,从而计算薄膜的表面能,最终从结构分析上研究影响S iO2薄膜低表面能内在因素。 展开更多
关键词 PECVD 四甲基二硅氧烷 低表面能薄膜 sioX薄膜
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溶胶-凝胶SiO_2在变色薄膜中的应用 被引量:3
6
作者 倪星元 吕俊霞 +2 位作者 邓忠生 沈军 王珏 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第4期435-436,439,共3页
变色薄膜是一种非常有用的光学产品。用溶胶 凝胶SiO2 作为变色薄膜中的介质层 (Cr/SiO2 /Al)能明显提高产品的质量和生产效率。本文介绍了溶胶 凝胶SiO2 薄膜的制作方法 ,提出了用酸性催化控制SiO2 溶胶过程 ;用网线辊涂布的方法形... 变色薄膜是一种非常有用的光学产品。用溶胶 凝胶SiO2 作为变色薄膜中的介质层 (Cr/SiO2 /Al)能明显提高产品的质量和生产效率。本文介绍了溶胶 凝胶SiO2 薄膜的制作方法 ,提出了用酸性催化控制SiO2 溶胶过程 ;用网线辊涂布的方法形成薄膜 ,连同烘烤后处理完成SiO2 凝胶过程。文章还对SiO2 展开更多
关键词 薄膜 溶胶-凝胶 sio2 变色薄膜
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溶胶-凝胶法制备亲水性TiO_2/SiO_2薄膜的相转变行为研究 被引量:5
7
作者 史非 刘敬肖 《玻璃与搪瓷》 CAS 北大核心 2002年第6期24-27,共4页
采用溶胶-凝胶法在玻璃表面制备了厚度约240nm的亲水性TiO2/SiO2薄膜,用差热分析(DTA)、红外光谱(FT-IR)和X射线衍射分析(XRD)研究了薄膜的热演化过程及晶相转变行为,结果表明:在500℃热处理1h的TiO2膜呈锐钛矿相,TiO2/SiO2复合膜则为... 采用溶胶-凝胶法在玻璃表面制备了厚度约240nm的亲水性TiO2/SiO2薄膜,用差热分析(DTA)、红外光谱(FT-IR)和X射线衍射分析(XRD)研究了薄膜的热演化过程及晶相转变行为,结果表明:在500℃热处理1h的TiO2膜呈锐钛矿相,TiO2/SiO2复合膜则为非晶态,SiO2的加入使析出锐钛矿晶体所需的温度升高,且提高了TiO2由锐钛矿向金红石结构转变的温度;此外,随薄膜中SiO2含量增多,薄膜的亲水性增强。 展开更多
关键词 玻璃 溶胶-凝胶法 TiO2/sio2薄膜 相转变 亲水性 表面处理
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钛金属有机物热解制备TiO_2-SiO_2复合膜及其光催化活性研究 被引量:11
8
作者 陈小泉 古国榜 刘焕彬 《化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2003年第11期1714-1719,共6页
混有一定量SiO2 溶胶的钛金属有机化合物膜液通过旋液成膜法制备前驱物膜 ,经热解得到TiO2 SiO2 复合膜 .于 610℃焙烧 15min所得复合膜 (Ti∶Si =9∶1)经SEM ,XRD ,UV vis和XPS研究表明 ,膜面由 3 0nm× 2 0 0nm大小的晶体粒子组... 混有一定量SiO2 溶胶的钛金属有机化合物膜液通过旋液成膜法制备前驱物膜 ,经热解得到TiO2 SiO2 复合膜 .于 610℃焙烧 15min所得复合膜 (Ti∶Si =9∶1)经SEM ,XRD ,UV vis和XPS研究表明 ,膜面由 3 0nm× 2 0 0nm大小的晶体粒子组成 ,结构致密 ,膜厚约 2 0 0nm ,其可见光透过率为玻璃基质的 80 %,膜表面Ti3 + /OH-的比值为 1 0 6.对不同SiO2 含量的膜液凝胶进行DSC分析显示 ,少量的SiO2 就能显著提高TiO2 锐钛矿型晶相的形成温度 .膜的光催化活性研究表明一定量的Fe3 + 有利于提高膜的光催化活性 ,但是如果以氯化物的形式加入则对光催化反应不利 ,铬的氯化物同样如此 .另外 ,在钛金属有机物热解制备TiO2 SiO2 复合膜中 ,溶胶SiO2 不利于光催化反应 。 展开更多
关键词 钛金属有机物 热解 制备 TIO2-sio2 复合膜 光催化活性 二氧化钛 二氧化硅 催化剂
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射频磁控共溅射制备超亲水TiO_2/SiO_2复合薄膜 被引量:3
9
作者 沈杰 沃松涛 +3 位作者 蔡臻炜 崔晓莉 杨锡良 章壮健 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期415-419,共5页
采用射频磁控共溅射法制备了SiO2 /TiO2 复合薄膜 ,通过控制SiO2 靶与TiO2 靶的溅射时间可调节SiO2 与TiO2 的比例。所制备的SiO2 /TiO2 薄膜为锐钛矿结构。实验结果表明 :SiO2 的掺入降低了SiO2 /TiO2 复合薄膜的光催化能力 ,但却提高... 采用射频磁控共溅射法制备了SiO2 /TiO2 复合薄膜 ,通过控制SiO2 靶与TiO2 靶的溅射时间可调节SiO2 与TiO2 的比例。所制备的SiO2 /TiO2 薄膜为锐钛矿结构。实验结果表明 :SiO2 的掺入降低了SiO2 /TiO2 复合薄膜的光催化能力 ,但却提高了薄膜的亲水性的维持时间。其中 ,掺入 6 %~ 13%SiO2 的SiO2 /TiO2 复合薄膜 ,在紫外光照射 30min ,接触角降到 2° ;停止照射后 ,在 5天内接触角小于 6°。 展开更多
关键词 sio2 共溅射法 TIO2薄膜 复合薄膜 接触角 内接 锐钛矿结构 射频 实验结果 照射
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α-SiO_x∶C薄膜的结构与发光特性研究 被引量:1
10
作者 李群 诸葛兰剑 +1 位作者 吴雪梅 项苏留 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期92-94,共3页
采用双离子束共溅射法制备了SiOx∶C薄膜。对样品的XRD和TEM测试结果表明薄膜为非晶结构 ;PL谱图显示有两个发光峰分别位于 4 2 0nm(紫光 )、4 70nm(蓝绿光 )处 ;4 70nm处的发光峰位来自于硅基薄膜中富硅引起的中性氧空位缺陷 (O3 Si- S... 采用双离子束共溅射法制备了SiOx∶C薄膜。对样品的XRD和TEM测试结果表明薄膜为非晶结构 ;PL谱图显示有两个发光峰分别位于 4 2 0nm(紫光 )、4 70nm(蓝绿光 )处 ;4 70nm处的发光峰位来自于硅基薄膜中富硅引起的中性氧空位缺陷 (O3 Si- SiO3 ) ,是由与氧原子配位的二价硅的单态以及三态 单态之间的跃迁所致 ,而与掺碳无关。进一步的XPS测试分析表明 ,4 2 0nm处的PL峰位可能来自于Si、C。 展开更多
关键词 发光特性 双离子束共溅射法 α-siox:C薄膜 非晶结构 PL谱图
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温度对非晶SiO_x薄膜的光致发光特性的影响 被引量:1
11
作者 罗经国 吴雪梅 +2 位作者 诸葛兰剑 宁兆元 姚伟国 《苏州大学学报(自然科学版)》 CAS 2001年第3期65-70,共6页
采用双离子束共溅射法制备的SiOx 薄膜为非晶结构 ,在室温下观察到了可见光致发光 (PL)现象 ,探测到样品有四个PL峰 ,它们的峰位分别为~ 32 0nm ,~ 4 10nm ,~5 6 0nm和~ 6 30nm ,且峰位和峰强随温度 (基片温度Ts 和退火温度Ta)的变... 采用双离子束共溅射法制备的SiOx 薄膜为非晶结构 ,在室温下观察到了可见光致发光 (PL)现象 ,探测到样品有四个PL峰 ,它们的峰位分别为~ 32 0nm ,~ 4 10nm ,~5 6 0nm和~ 6 30nm ,且峰位和峰强随温度 (基片温度Ts 和退火温度Ta)的变化而发生变化 。 展开更多
关键词 sioX薄膜 光致发光 非晶硅氧化合物薄膜 双离子束共溅射法 温度 峰位 峰强
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SiO_2溶胶及其静电自组装薄膜的制备 被引量:6
12
作者 许丕池 姜德生 +2 位作者 余海湖 李小甫 李鸿辉 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2004年第2期165-170,共6页
采用HCl催化、NH3 ·H2 O催化、HCl与NH3 ·H2 O分步催化三种途径制备了SiO2 胶体 ,用透射电镜观察了胶体粒子的形貌 .用静电自组装 (ESAM)法制备了聚电解质PDDA与SiO2 胶体粒子的有机 /无机复合光学薄膜 .实验结果表明 ,用HCl... 采用HCl催化、NH3 ·H2 O催化、HCl与NH3 ·H2 O分步催化三种途径制备了SiO2 胶体 ,用透射电镜观察了胶体粒子的形貌 .用静电自组装 (ESAM)法制备了聚电解质PDDA与SiO2 胶体粒子的有机 /无机复合光学薄膜 .实验结果表明 ,用HCl催化制备的SiO2 透明溶胶不适合于用ESAM法制备薄膜 ,用HCl与NH3 ·H2 O分步催化以及用NH3 ·H2 O单独催化制备的SiO2 胶体适合于用ESAM法制备光学薄膜 .薄膜的透射电镜微观察结果表明 ,以HCl与NH3 ·H2 O分步催化的SiO2 胶体制备的PDDA/SiO2 薄膜为连续结构 ,NH3 ·H2 O单独催化的为颗粒堆积 .研究了薄膜透光率与薄膜层数的关系 ,考察了薄膜的机械强度 .结果显示 ,以NH3 ·H2 O单独催化的SiO2 胶体制备的光学薄膜的增透效果较好 。 展开更多
关键词 sio2 溶胶 静电自组装 复合薄膜
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富氮SiO_xN_y膜的电子注入特性 被引量:1
13
作者 陈蒲生 张昊 +3 位作者 冯文修 田小峰 刘小阳 曾绍鸿 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期31-34,共4页
通过施加直流电压于P型SiOxNy 薄膜 ,使热电子注入到薄膜而引起薄膜电学参数的改变 .测试了薄膜在电子注入前后电学参数的变化 ,以研究薄膜的电子注入特性 ,探求薄膜的抗电子注入能力与制备工艺之间的关系 .结合俄歇电子能谱和红外光谱... 通过施加直流电压于P型SiOxNy 薄膜 ,使热电子注入到薄膜而引起薄膜电学参数的改变 .测试了薄膜在电子注入前后电学参数的变化 ,以研究薄膜的电子注入特性 ,探求薄膜的抗电子注入能力与制备工艺之间的关系 .结合俄歇电子能谱和红外光谱分析膜的微观结构 ,对薄膜的电子注入特性进行了理论分析与讨论 . 展开更多
关键词 等离子体增强化学气相淀积 俄歇电子能谱 红外光谱 电学参数 富氮sioXNY膜 抗电子注入能力
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Ge-SiO_2与Si-SiO_2薄膜中颗粒形成的对比研究
14
作者 成珏飞 吴雪梅 诸葛兰剑 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期245-248,共4页
以Ge SiO2 和Si SiO2 复合靶作为溅射靶 ,分别采用射频磁控溅射技术和双离子束溅射技术制得了Ge SiO2 和Si SiO2 薄膜。然后分别在N2 气氛中经过 6 0 0℃— 10 0 0℃的不同温度的退火。通过X射线衍射 (XRD) ,透射电子显微镜 (TEM) ,光... 以Ge SiO2 和Si SiO2 复合靶作为溅射靶 ,分别采用射频磁控溅射技术和双离子束溅射技术制得了Ge SiO2 和Si SiO2 薄膜。然后分别在N2 气氛中经过 6 0 0℃— 10 0 0℃的不同温度的退火。通过X射线衍射 (XRD) ,透射电子显微镜 (TEM) ,光电子能谱 (XPS)分析等测试手段 ,将两种薄膜进行了比较。在Ge SiO2 样品中 ,随退火温度的升高 ,会发生GeOx 的热分解或者与Si发生化学反应 ,引起部分氧原子逸出和Ge原子的扩散和聚集 ,从而形成纳米Ge的晶粒。在Si SiO2 薄膜样品中 ,由于Si的成核长大速率较低 ,因而颗粒长大的速率较慢 ,薄膜内不易形成Si颗粒。只有经 10 0 0℃高温退火后样品中才有少量单质Si颗粒形成。 展开更多
关键词 sio2薄膜 射频磁控溅射技术 光电子能谱 氧原子 双离子束溅射 颗粒 溅射靶 速率 高温退火 退火温度
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Ge-SiO_2薄膜的XPS研究 被引量:1
15
作者 叶春暖 汤乃云 +3 位作者 吴雪梅 诸葛兰剑 余跃辉 姚伟国 《微细加工技术》 2002年第1期36-39,共4页
采用射频磁控溅射技术制备了Ge SiO2 薄膜 ,在N2 气氛下进行 30 0℃到 1 0 0 0℃的退火处理 30分钟 ,对样品进行XPS分析 ,研究了在不同退火温度下薄膜样品的成分与化学状态 ,为进一步探讨薄膜的光致发光机理提供了依据。结合XRD谱图分... 采用射频磁控溅射技术制备了Ge SiO2 薄膜 ,在N2 气氛下进行 30 0℃到 1 0 0 0℃的退火处理 30分钟 ,对样品进行XPS分析 ,研究了在不同退火温度下薄膜样品的成分与化学状态 ,为进一步探讨薄膜的光致发光机理提供了依据。结合XRD谱图分析结果可发现 ,退火处理对纳米晶粒的形成与长大起着关键作用。随着退火温度的升高 ,样品中的Si向高价态转化 ,Ge则向低价态转化 ;GeO含量在 80 0℃退火样品中为最大 ,高于 80 展开更多
关键词 Ge-sio2薄膜 溅射 XPS谱 退火
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从n型硅到RTN超薄SiO_2膜的电流传输特性
16
作者 冯文修 张恒 +1 位作者 陈蒲生 田浦延 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第10期51-54,共4页
用卤素钨灯作辐射热源 ,对超薄 (1 0nm )SiO2 膜进行快速热氮化 (RTN) ,制备了SiOxNy 超薄栅介质膜 ,并制作了Al/n Si/SiOxNy/Al结构电容样品 .研究了不同样品中n型Si到快速热氮化超薄SiO2 膜的电流传输特性及其随氮化时间的变化 .结果... 用卤素钨灯作辐射热源 ,对超薄 (1 0nm )SiO2 膜进行快速热氮化 (RTN) ,制备了SiOxNy 超薄栅介质膜 ,并制作了Al/n Si/SiOxNy/Al结构电容样品 .研究了不同样品中n型Si到快速热氮化超薄SiO2 膜的电流传输特性及其随氮化时间的变化 .结果表明 :低场时的漏电流很小 ;进入隧穿电场时 ,I E曲线遵循Fowler Nordheim (F N)规律 ;在更高的电场时 ,主要出现两种情形 ,其一是I E曲线一直遵循F N规律直至介质膜发生击穿 ,其二是I E曲线下移 ,偏离F N关系 ,直至介质膜发生击穿 .研究表明 ,I E曲线随氮化时间增加而上移 . 展开更多
关键词 快速热氮化 超薄sio2膜 电流传输特性
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ECR-PECVD制备SiO_2薄膜中衬底射频偏压的作用 被引量:6
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作者 张劲松 任兆杏 +2 位作者 梁荣庆 隋毅峰 刘卫 《核聚变与等离子体物理》 CAS CSCD 北大核心 2001年第1期59-64,共6页
采用微波电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积 (ECR PECVD)技术在单晶衬底上制备了SiO2 薄膜 ,研究了射频偏压对薄膜特性的影响。通过X射线光电子能谱 (XPS)、傅里叶变换红外线光谱 (FTIR)、原子力显微镜 (AFM)和扫描隧道显微镜 (STM... 采用微波电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积 (ECR PECVD)技术在单晶衬底上制备了SiO2 薄膜 ,研究了射频偏压对薄膜特性的影响。通过X射线光电子能谱 (XPS)、傅里叶变换红外线光谱 (FTIR)、原子力显微镜 (AFM)和扫描隧道显微镜 (STM)三维形貌图测量等手段 ,对成膜特性进行了分析。实验结果表明 ,通过改变射频偏压的参数来控制离子轰击能量 ,对ECR PECVD成膜的内应力、溅射现象。 展开更多
关键词 电子回旋共振等离子体 sio2薄膜 射频偏压 ECR-PECVD 二氧化硅薄膜 离子轰击能量 成膜特性
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溶胶凝胶法制备SiO2(Eu^n+∶SiO2)多层膜及其性能研究
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作者 王海风 董云谷 +2 位作者 王若轩 熊能 胡煜林 《玻璃与搪瓷》 CAS 2018年第6期6-11,共6页
利用溶胶-凝胶法于硅基片表面制备SiO_2及Eu^(n+)∶SiO_2单层及多层薄膜。通过X射线衍射仪(XRD)、傅里叶红外光谱仪(FT-IR)、接触角测量仪、动态力学分析仪(DMA)以及扫描电镜(SEM)等对样品的性能进行系统的测试和分析。研究结果表明,经... 利用溶胶-凝胶法于硅基片表面制备SiO_2及Eu^(n+)∶SiO_2单层及多层薄膜。通过X射线衍射仪(XRD)、傅里叶红外光谱仪(FT-IR)、接触角测量仪、动态力学分析仪(DMA)以及扫描电镜(SEM)等对样品的性能进行系统的测试和分析。研究结果表明,经多层镀膜后基片表面膜层厚度增加,且薄膜与基片之间没有明显的间隙,结合紧密。多层镀膜,尤其是镀膜超过6层后,可以显著提高基片的抗弯强度。Eu^(n+)∶SiO_2薄膜对抗弯强度的提高量大于单层SiO_2薄膜。SiO_2薄膜对硅基片亲水性影响不明显,但稀土掺杂Eu^(n+)∶SiO_2薄膜可以显著提高基片的亲水性。 展开更多
关键词 溶胶-凝胶法 sio 2薄膜 EU ^n+ 掺杂 力学性能
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Quantifying the effectiveness of SiO_2/Au light trapping nanoshells for thin film poly-Si solar cells 被引量:4
19
作者 BAI YiMing 1 ,WANG Jun 2 ,CHEN NuoFu 1,3 ,YAO JianXi 1 ,YIN ZhiGang 3 ,ZHANG Han 3 , ZHANG XingWang 3 ,HUANG TianMao 3 ,WANG YanShuo 3 &YANG XiaoLi 3 1School of Renewable Energy Engineering,North China Electric Power University,Beijing 102206,China 2 National Engineering Research Center for Optoelectronic Devices,Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences,PO Box 912,Beijing 100083,China 3 Key Laboratory of Semiconductor Materials Science,Institute of Semiconductors, Chinese Academy of Sciences,PO Box 912,Beijing 100083,China 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2010年第8期2228-2231,共4页
In order to enhance light absorption of thin film poly-crystalline silicon(TF poly-Si)solar cells over a broad spectral range, and quantify the effectiveness of nanoshell light trapping structure over the full solar s... In order to enhance light absorption of thin film poly-crystalline silicon(TF poly-Si)solar cells over a broad spectral range, and quantify the effectiveness of nanoshell light trapping structure over the full solar spectrum in theory,the effective photon trapping flux(EPTF)and effective photon trapping efficiency(EPTE)were firstly proposed by considering both the external quantum efficiency of TF poly-Si solar cell and scattering properties of light trapping structures.The EPTF,EPTE and scattering spectrum exhibit different behaviors depending on the geometric size and density of nanoshells that form the light trapping layer.With an optimum size and density of SiO2/Au nanoshell light trapping layer,the EPTE could reach up to 40%due to the enhancement of light trapping over a broad spectral range,especially from 500 to 800 nm. 展开更多
关键词 thin film poly-crystalline silicon surface PLASMONS sio2/Au NANOSHELL
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Fe^(3+)-TiO_2/SiO_2光催化降解罗丹明B的研究 被引量:26
20
作者 王建强 辛柏福 +3 位作者 于海涛 任志宇 曲鹏飞 付宏刚 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第6期1093-1096,共4页
以硅胶为载体 ,采用溶胶 -凝胶法制备了不同掺杂量的 Fe3 +-Ti O2 /Si O2 光催化剂 ,并采用 SEM,Raman和 DRS等手段对其进行了分析和表征 .以氙灯为光源 ,通过对可溶性染料罗丹明 B的降解反应 ,考察了 Fe3 +-Ti O2 /Si O2 催化剂的光催... 以硅胶为载体 ,采用溶胶 -凝胶法制备了不同掺杂量的 Fe3 +-Ti O2 /Si O2 光催化剂 ,并采用 SEM,Raman和 DRS等手段对其进行了分析和表征 .以氙灯为光源 ,通过对可溶性染料罗丹明 B的降解反应 ,考察了 Fe3 +-Ti O2 /Si O2 催化剂的光催化活性 ,探讨了光催化反应中溶液 p H值和起始浓度对催化反应的影响 . 展开更多
关键词 光催化降解 罗丹明B 光催化剂 硅胶 载体 二氧化钛 三价铁离子 溶胶-凝胶法 制备 光催化活性 有机污染物 染料
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