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分子动力学模拟不同入射能量的SiF_2与SiC的相互作用
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作者 赵成利 秦尤敏 +3 位作者 吕晓丹 宁建平 贺平逆 苟富均 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第3期376-380,共5页
采用分子动力学模拟方法研究了入射能量对SiF2与SiC样品表面相互作用的影响。本次模拟选择的入射初始能量分别为0.3,1,5,10和25 eV。模拟结果显示SiF2分解率与Si和F原子的沉积率有密切的关系。沉积的Si和F原子在SiC表面形成一层SixFy薄... 采用分子动力学模拟方法研究了入射能量对SiF2与SiC样品表面相互作用的影响。本次模拟选择的入射初始能量分别为0.3,1,5,10和25 eV。模拟结果显示SiF2分解率与Si和F原子的沉积率有密切的关系。沉积的Si和F原子在SiC表面形成一层SixFy薄膜。随入射能量的增加,薄膜厚度先增加后减小,薄膜中Si-Si键密度增大。构成薄膜的主要成分SiFx(x=1-4)中主要是SiF和SiF2,随入射能量的增加,薄膜成分由SiF2向SiF转变。 展开更多
关键词 分子动力学 分解率 沉积率 sixfy薄膜
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