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Magnetic property and microstructure of SmCo magnetic recording films 被引量:1
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作者 李宁 李帅 +1 位作者 张恩 王立锦 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第5期839-842,共4页
Cr/SmCo/Cr thin films with Sm concentration of 37.7 at.% were deposited on glass substrates by magnetron sputtering. Measurement of magnetic properties showed that the SmCo film possessed good magnetic anisotropy, a h... Cr/SmCo/Cr thin films with Sm concentration of 37.7 at.% were deposited on glass substrates by magnetron sputtering. Measurement of magnetic properties showed that the SmCo film possessed good magnetic anisotropy, a high coercivity of 3019 kA/m and low magnetic exchange coupling. Microstructure analysis showed that crystallized SmCo5 magnetic phase, non-magnetic SmCo2 phase and Sm2Co7 phase co-existed in the film. The non-magnetic SmCo2 phase might function as isolator of SmCo grains, leading to a decrease of magnetic exchange coupling. Moreover, a Cr2O3 oxide layer which could protect the SmCo layer from oxidation formed at the surface of the Cr cap layer. 展开更多
关键词 smco thin film magnetic recording magnetic exchange coupling rare earths
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溅射参数对SmCo/Cr薄膜铬底层晶面取向及磁学性能的影响 被引量:4
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作者 段静芳 许小红 +1 位作者 武海顺 李佐宜 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期561-564,共4页
采用直流磁控溅射法制备SmCo Cr薄膜磁记录材料 ,通过改变Cr底层制备过程中的功率、靶基距、溅射压强和溅射时间 ,得到了磁性能不同的SmCo Cr薄膜。利用X射线衍射法对Cr底层晶面取向和磁控溅射参数之间的关系进行了研究 ,结果表明 :如... 采用直流磁控溅射法制备SmCo Cr薄膜磁记录材料 ,通过改变Cr底层制备过程中的功率、靶基距、溅射压强和溅射时间 ,得到了磁性能不同的SmCo Cr薄膜。利用X射线衍射法对Cr底层晶面取向和磁控溅射参数之间的关系进行了研究 ,结果表明 :如果改变溅射参数 ,使沉积Cr原子获得较大的能量 ,则有利于Cr底层最终以 ( 110 )晶面择优取向。本实验中Cr底层以 ( 110 )晶面择优取向的最佳实验条件为 :溅射功率在 5 0~ 70W左右 ,靶基距为 6cm ,压强为 0 .5Pa ,溅射时间为 15min。利用振动样品磁强计 (VSM )测定SmCo Cr薄膜的磁学性能 ,结果表明 ,如果Cr底层能以 ( 110 )晶面择优取向 ,所得到的SmCo Cr薄膜的磁学性能较好。 展开更多
关键词 铬底层 晶面取向 溅射参数 smco/cr薄膜 矫顽力
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SmCo/Cr薄膜中Cr底层最佳溅射条件的正交设计研究 被引量:1
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作者 许小红 段静芳 +3 位作者 王芳 武海顺 李震 李佐宜 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第10期1033-1036,共4页
在SmCo/Cr薄膜中,Cr底层的取向结构对薄膜的磁学性能有很大的影响。设计了4因素3水平的正交实验L9(34),并通过数理统计的方法分析了Cr底层的溅射参数对SmCo/Cr薄膜矫顽力的影响。用较少的实验得到Cr底层的最佳实验条件:靶基距为4cm,功率... 在SmCo/Cr薄膜中,Cr底层的取向结构对薄膜的磁学性能有很大的影响。设计了4因素3水平的正交实验L9(34),并通过数理统计的方法分析了Cr底层的溅射参数对SmCo/Cr薄膜矫顽力的影响。用较少的实验得到Cr底层的最佳实验条件:靶基距为4cm,功率为50W,溅射气压为0.5Pa,溅射时间为9min。并发现了靶基距、功率和溅射气压对薄膜矫顽力的影响较大,其中靶基距是薄膜矫顽力最主要的控制因素。而溅射时间在所取的水平上对薄膜矫顽力的影响最小。本实验设计可达到95%的置信度。 展开更多
关键词 smco/cr薄膜 矫顽力 cr底层 溅射参数
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多靶射频磁控共溅射SmCo/Cr薄膜的制备和磁性能 被引量:1
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作者 章平 黄致新 +2 位作者 张玉龙 王辉 张峰 《咸宁学院学报》 2006年第6期47-49,共3页
采用多靶射频磁控共溅射方法制备了SmCo/Cr薄膜,用XRD和VSM测量了各样品的微结构和矫顽力.结果表明,SmCo膜具有较强的垂直各向异性,当Cr底层溅射时间为5min、SmCo磁性层溅射时间为14min、Co靶溅射功率为220W时,所得到的薄膜垂直矫顽力最大.
关键词 多靶共溅射 smco/cr薄膜 矫顽力
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Effects of Cr_3C_2 content and wheel speed on amorphization behavior of melt-spun SmCo_(7-x)(Cr_3C_2)_x alloys
5
作者 李丽娅 易健宏 +2 位作者 李爱坤 彭元东 夏庆林 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2012年第5期1118-1122,共5页
The effects of the Cr3C2 content and wheel speed on the amorphization behavior of the melt-spun SmCo7-x(Cr3C2)x (x=0.10-0.25) alloys were studied systematically by X-ray diffraction analysis (XRD), differential ... The effects of the Cr3C2 content and wheel speed on the amorphization behavior of the melt-spun SmCo7-x(Cr3C2)x (x=0.10-0.25) alloys were studied systematically by X-ray diffraction analysis (XRD), differential scanning calorimetry (DSC) and magnetic measurements. The ribbon melt-spun at lower wheel speed (20 m/s) has composite structure composed of mostly SmCo7 and a small amount of Sm2Co17R. The grain size of SmCo7 phase decreases with the increase of Cr3C2 content. With the increase of wheel speed, the XRD peaks become lower and accompanied with a broad increase in backgrounds, indicating a considerable decrease in the grain size of the SmCo7 phase. When the wheel speed increases to 40 m/s, SmCo7-x(Cr3C2)x alloys can be obtained in the amorphous state for 0.15≤x≤0.25 with intrinsic coercive Hci of 0.004-0.007 T. The DSC analysis reveals that SmCo7 phase firstly precipitates from the amorphous matrix at 650 °C, followed by the crystallization of Sm2Co17 phase at 770 °C. 展开更多
关键词 smco7-type permanent magnets cr3C2 melt spinning amorphization hysteresis loops
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SmCo(Al,Si)/Cr薄膜磁性能的温度稳定性 被引量:1
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作者 蔡长波 王翔 +3 位作者 廖红伟 王浩敏 李震 林更琪 《信息记录材料》 2001年第2期17-19,共3页
用磁控溅射方法结合高温退火的方法在玻璃基片上制备了一种高矫顽力 SmCo(Al,Si)/Cr结构的磁性薄膜,其矫顽力达到 385.48 kA/m(4844 Oe)。研究其在 15℃到 350℃的范围内的磁性能与温度的关系。发现矫顽力随温度单调减小,而剩磁随温... 用磁控溅射方法结合高温退火的方法在玻璃基片上制备了一种高矫顽力 SmCo(Al,Si)/Cr结构的磁性薄膜,其矫顽力达到 385.48 kA/m(4844 Oe)。研究其在 15℃到 350℃的范围内的磁性能与温度的关系。发现矫顽力随温度单调减小,而剩磁随温度的增加开始是减少的,在 90℃左右达到极小值。然后随温度的增加,在 190℃附近达到极大值。随后温度继续增加,剩磁逐渐减小。 展开更多
关键词 矫顽力 磁控溅射 温度稳定性 磁性薄膜 smco(AI Si)/cr薄膜
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高矫顽力SmCo(Al,Si)/Cr薄膜的研究 被引量:3
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作者 王翔 李佐宜 +4 位作者 林更琪 蔡长波 胡雪涛 李震 LI Zhen 《磁性材料及器件》 CAS CSCD 2001年第2期5-8,共4页
通过对磁控溅射条件的优化 ,制备出了较理想的 Sm Co(Al,Si) /Cr硬盘磁记录介质。退火处理后又得到较好的硬磁薄膜。结果指出 ,在 Sm含量 (摩尔分数 )为 31 .6% ,Cr缓冲层为 66nm,Sm(Co,Al,Si) 5磁性层为 30 nm的条件下 ,制得的 Sm(Co,A... 通过对磁控溅射条件的优化 ,制备出了较理想的 Sm Co(Al,Si) /Cr硬盘磁记录介质。退火处理后又得到较好的硬磁薄膜。结果指出 ,在 Sm含量 (摩尔分数 )为 31 .6% ,Cr缓冲层为 66nm,Sm(Co,Al,Si) 5磁性层为 30 nm的条件下 ,制得的 Sm(Co,Al,Si) 5/Cr薄膜的矫顽力 Hc 为 1 87.8k A/m,剩磁比 S =Mr/Ms≈ 0 .94。在 50 0℃退火 2 5min后 ,矫顽力 Hc 达到1 0 4 2 .5k A/m,剩磁比 S≈ 0 .92。 展开更多
关键词 矫顽力 smco(Al Si)/cr薄膜 磁性能 磁控溅射
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Synthesis of TiO_2 mesocrystal film with enhanced photocatalytic activity 被引量:3
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作者 凌丽丽 刘龙飞 +2 位作者 冯亚伟 朱建 卞振锋 《Chinese Journal of Catalysis》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2018年第4期639-645,共7页
TiO2 mesocrystals can considerably enhance charge separation owing to their oriented superstructures,with fewer internal defects and porous properties providing more active sites.In this work,we prepared TiO2 mesocrys... TiO2 mesocrystals can considerably enhance charge separation owing to their oriented superstructures,with fewer internal defects and porous properties providing more active sites.In this work,we prepared TiO2 mesocrystal films by a direct annealing method.The morphology and crystal phase of the film were controlled by adjusting the ratio of NH4F and the calcination temperature.Moreover,we found that Au nanoparticles loaded on a TiO2 mesocrystal film enabled highly efficient visible light photocatalytic properties.The photocatalytic activities were studied by hydrogen generation and photoreduction of Cr(VI).This work represents a considerable advance in the development and application of the TiO2 mesocrystals. 展开更多
关键词 TiO2 mesocrystals film PHOTOCATALYSIS Hydrogen generation cr(VI)reduction
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Ni-Cr薄膜换能组件静电响应特性与发火概率预测研究
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作者 章云 李博 +3 位作者 解瑞珍 付禹龙 任小明 姚洪志 《火工品》 CAS CSCD 北大核心 2024年第5期59-65,共7页
针对电火工品在静电放电影响下可能发生误发火的问题,以Ni-Cr薄膜换能组件为研究对象,提出了一种分析其在人体静电放电下的响应特性,并预测发火概率的方法。首先,介绍了Ni-Cr薄膜换能组件系统架构,并建立了电火工品静电放电等效电路模型... 针对电火工品在静电放电影响下可能发生误发火的问题,以Ni-Cr薄膜换能组件为研究对象,提出了一种分析其在人体静电放电下的响应特性,并预测发火概率的方法。首先,介绍了Ni-Cr薄膜换能组件系统架构,并建立了电火工品静电放电等效电路模型;其次,研究了Ni-Cr薄膜换能组件静电放电响应特性,分析了换能组件尺寸和放电电压对薄膜桥区温度的影响规律;最后,构建了Ni-Cr薄膜换能组件在统计特征下的输入条件,确定了换能组件失效判据,进而结合发火感度试验与数理统计方法,实现了在静电放电条件下电火工品发火概率的预测。研究结果表明:预测发火概率与试验值误差不超过5%,验证了本文方法的有效性。 展开更多
关键词 电火工品 Ni-cr薄膜 静电放电 失效判据 发火概率
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(SmCo_7)_(100-x)(Cr_3C_2)_x(x=0~7)熔淬薄带的结构与磁性能 被引量:1
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作者 张广腾 易健宏 李丽娅 《磁性材料及器件》 CSCD 北大核心 2010年第1期15-19,共5页
采用熔淬法制备(SmCo7)100-x(Cr3C2)x(x=0~7)合金薄带。研究了Cr3C2添加量对合金相结构、微观组织和磁性能的影响。结果表明,淬速为20m/s时,(SmCo7)100-x(Cr3C2)x熔淬带的矫顽力随Cr3C2含量的增加而增大;剩磁先随x的增大而增高,在x=2... 采用熔淬法制备(SmCo7)100-x(Cr3C2)x(x=0~7)合金薄带。研究了Cr3C2添加量对合金相结构、微观组织和磁性能的影响。结果表明,淬速为20m/s时,(SmCo7)100-x(Cr3C2)x熔淬带的矫顽力随Cr3C2含量的增加而增大;剩磁先随x的增大而增高,在x=2时达最大值,然后随x的进一步增大而急剧降低。当熔淬速为20m/s时,(SmCo7)100-x(Cr3C2)x形成了1:7主相结构,同时还有少量的2:17H相和2:17R相。随Cr3C2含量的增加,2:17H相逐渐转变为2:17R相和2:7相。在高Cr3C2含量的合金中出现了含有Cr、Co、C的非磁性晶间相,该相通过抑制主相晶粒的长大及对畴壁的钉扎来提高材料的矫顽力。(SmCo7)93(Cr3C2)7合金在淬速40m/s时形成了非晶结构。该非晶合金在650℃保温6min后获得了远高于相同成分淬态合金的磁性能,Hci=635.4kA/m,Br=0.58T。 展开更多
关键词 smco7 熔淬 碳化铬(cr3C2) 微结构 磁性能
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SmCo/Cr磁性薄膜的工艺与性能 被引量:2
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作者 Hu Yongshi Wang Xiang +5 位作者 Li Zuoyi Lin Gengqi 胡用时 王翔 李佐宜 林更琪 《信息记录材料》 2001年第2期11-13,共3页
通过对磁控溅射条件的优化,制备出了较理想的SmCo(Al,Si)/Cr硬盘磁记录介 质。退火处理后又得到较好的硬磁薄膜。结果表明,Sm含量在31.6% atm,Cr缓冲层为66 nm, Sm(CoAlSi)5磁性层为30 nm等条件下,制得的Sm(CoAlSi)5/Cr薄膜的矫顽... 通过对磁控溅射条件的优化,制备出了较理想的SmCo(Al,Si)/Cr硬盘磁记录介 质。退火处理后又得到较好的硬磁薄膜。结果表明,Sm含量在31.6% atm,Cr缓冲层为66 nm, Sm(CoAlSi)5磁性层为30 nm等条件下,制得的Sm(CoAlSi)5/Cr薄膜的矫顽力(Hc)为187.8 kA/ m(2.36 kOe),矩形比( S=Mr/Ms)≈0.94;在500℃保温25 min退火后,矫顽力(Hc)达1042.5 kA/m(13.1 kOe),矩形比(S)≈O.92。 展开更多
关键词 矫顽力 smco(AI Si)/cr薄膜 磁性能 磁控溅射 磁性薄膜 磁记录介质 工艺 性能
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5Cr油套管钢在含Cl^(-)的CO_(2)环境中的腐蚀特性研究
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作者 赵国仙 刘冉冉 +6 位作者 李琼玮 杨立华 孙雨来 丁浪勇 王映超 张思琦 宋洋 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第6期55-66,共12页
目的掌握油气井生产中CO_(2)腐蚀对油套管的影响规律,研究兼顾耐蚀性和经济性的5Cr油套管材料在含Cl^(-)的CO_(2)环境中不同时间下的腐蚀演变规律。方法采用XRD、XPS、SEM和EDS等技术分析5Cr油套管钢在不同时间下腐蚀产物膜的演变情况,... 目的掌握油气井生产中CO_(2)腐蚀对油套管的影响规律,研究兼顾耐蚀性和经济性的5Cr油套管材料在含Cl^(-)的CO_(2)环境中不同时间下的腐蚀演变规律。方法采用XRD、XPS、SEM和EDS等技术分析5Cr油套管钢在不同时间下腐蚀产物膜的演变情况,利用丝束电极(WBE)和阻抗测试(EIS)技术对其腐蚀电化学行为进行研究。结果5Cr油套管钢腐蚀后期的平均腐蚀速率约为初期的1/2,在腐蚀14 d后,腐蚀产物膜中的Cr富集大于30%,Cr、Fe质量比达到较高水平,约为基体的15倍。随着腐蚀的进行,电荷传递电阻和产物膜覆盖引起的电阻增大,电化学反应阻力增大。在腐蚀前期具有局部不均匀性,随着腐蚀的进行,电极腐蚀电位有负移现象,最终分布区间为−0.59~−0.61 V,电极表面阳极电流区域大幅减少。结论在腐蚀时间延长的条件下,5Cr油套管钢腐蚀产物膜的致密性增加,电荷传递电阻呈变大趋势。在产物膜下的5Cr油套管钢区域,电流发生由阴极向阳极极性转变的现象,产物膜存在的孔隙使5Cr油套管钢基体金属被腐蚀,从而导致阳极电流的出现。表面局部腐蚀电位阳极区的形成和扩展使其有产生点蚀的倾向,但腐蚀产物逐渐沉积在点蚀坑内壁,形成了Cr富集的保护性表面层,原发生点蚀区域由原阳极活性点位转变为阴极区,对其发展起到了抑制作用。 展开更多
关键词 5cr油套管钢 CO_(2)腐蚀 腐蚀产物膜 cr元素富集 电化学阻抗谱 丝束电极
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调制周期对磁控溅射Cr/类石墨碳多层膜腐蚀-磨损性能的影响
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作者 李迎春 杨更生 +2 位作者 杨明宣 邱明 范恒华 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第21期212-218,共7页
海洋环境用关键运动部件在使用时承受腐蚀与磨损的交互作用,在其表面涂覆耐腐蚀-磨损防护涂层是提高其服役寿命的有效手段之一。本工作采用直流磁控溅射沉积技术在15-5PH不锈钢试样上制备调制周期为940 nm、375 nm和234 nm的Cr/GLC多层... 海洋环境用关键运动部件在使用时承受腐蚀与磨损的交互作用,在其表面涂覆耐腐蚀-磨损防护涂层是提高其服役寿命的有效手段之一。本工作采用直流磁控溅射沉积技术在15-5PH不锈钢试样上制备调制周期为940 nm、375 nm和234 nm的Cr/GLC多层膜(分别标记为S1、S2和S3),并通过微观形貌分析、电化学试验、腐蚀-磨损试验分析了调制周期对Cr/GLC多层膜的结构、电化学性能及耐腐蚀-磨损性能的影响。研究结果表明:随着调制周期的缩短,薄膜柱状生长趋势逐渐减弱,膜层更加致密,同时sp^(2)键相对含量逐渐增大,石墨化程度加剧,力学性能更优。在人工海水介质中,随着调制周期的缩短,薄膜层间界面增多,抑制了裂纹的扩展和腐蚀通道的形成,阻碍了腐蚀介质的渗透,多层膜S3的耐腐蚀性能最优。在腐蚀-磨损过程中,由于载荷和腐蚀介质的共同作用,具有致密结构、适宜调制周期的S2薄膜的磨损率仅为2.50×10^(-16)m^(3)/(N·m),表现出最优的耐腐蚀-磨损性能。因此,设计合适的调制周期是提高Cr/GLC多层膜耐腐蚀-磨损性能的关键。 展开更多
关键词 磁控溅射 cr/类石墨碳(GLC)多层膜 调制周期 腐蚀-磨损
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Cu和Cr缓冲层对SmCo_5薄膜微观结构和磁性能的影响
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作者 张敬凌 葛妮娜 +4 位作者 王振 谭士杰 王玉波 邱林俊 徐景 《磁性材料及器件》 CAS 2016年第5期23-27,44,共6页
利用新型AE(Advanced Energy)脉冲电源采取共溅射的方式在Si片上制备不同结构的Cr/SmCo_5/Cr和Cu/SmCo_5/Cr薄膜,并分别研究Cu和Cr缓冲层对SmCo_5薄膜磁性能和微观结构的影响。以Cu作为缓冲层时,在优于2×10―5Pa的真空环境下通过... 利用新型AE(Advanced Energy)脉冲电源采取共溅射的方式在Si片上制备不同结构的Cr/SmCo_5/Cr和Cu/SmCo_5/Cr薄膜,并分别研究Cu和Cr缓冲层对SmCo_5薄膜磁性能和微观结构的影响。以Cu作为缓冲层时,在优于2×10―5Pa的真空环境下通过对样品在650℃退火60min,可以获得较良好的硬磁性能,垂直膜面的矫顽力可以达到1308Oe。以Cr作为缓冲层时,在低于2×10^(-5)Pa的真空环境中,且在650℃退火60min便制备出样品。随后分别改变Cr缓冲层的厚度和SmCo_5的厚度并观察其对Cr/SmCo_5/Cr的磁性能的影响。 展开更多
关键词 cr(Cu)/smco5/cr薄膜 缓冲层 结构 磁性能
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添加Cr3C2对SmCo7合金的组织结构及磁性能的影响
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作者 张广腾 易健宏 李丽娅 《粉末冶金材料科学与工程》 EI 2009年第2期123-126,共4页
采用熔体快淬法制备(SmCo7)100-x(Cr3C2)x(x为摩尔分数,%。x=0~7)合金薄带。通过X射线衍射(XRD)、热磁分析(TMA)、振动样品磁强计(VSM)、扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)研究Cr3C2添加量x对合金相结构、微观组织和磁性能的影响。结果表明... 采用熔体快淬法制备(SmCo7)100-x(Cr3C2)x(x为摩尔分数,%。x=0~7)合金薄带。通过X射线衍射(XRD)、热磁分析(TMA)、振动样品磁强计(VSM)、扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)研究Cr3C2添加量x对合金相结构、微观组织和磁性能的影响。结果表明,当Cr3C2含量x由0增加到7时,(SmCo7)100-x(Cr3C2)x的矫顽力由33.2 kA/m显著增加到595.7 kA/m,同时主相的晶粒尺寸显著降低,合金形成了1:7 H的主相结构。第二相的结构随Cr3C2含量增加而变化,由2:17 H相逐渐转变为2:17 R相和2:7相。在高Cr3C2含量的合金(x=7)中析出了含有Cr、Co、C的晶间非磁性相,该相通过抑制主相晶粒尺寸的长大及对畴壁的钉轧来提高合金的矫顽力。 展开更多
关键词 快淬 smco7 碳化铬(cr3C2) 微结构 磁性能
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Properties of oxide films grown on 25Cr20Ni alloy in air-H_2O and H_2-H_2O atmospheres 被引量:3
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作者 Wang Shenxiang Cui Lishan +3 位作者 Wang Guoqing Zheng Yanjun Wang Hongxia Jia Jingsheng 《Petroleum Science》 SCIE CAS CSCD 2014年第1期147-154,共8页
The oxidation kinetics,surface morphology and phase structure of oxide films grown on 25Cr20Ni alloy in air-H2O and H2-H2O atmospheres at 900 ℃ for 20 h were investigated.The anti-coking performance and resistance to... The oxidation kinetics,surface morphology and phase structure of oxide films grown on 25Cr20Ni alloy in air-H2O and H2-H2O atmospheres at 900 ℃ for 20 h were investigated.The anti-coking performance and resistance to carburization of the two oxide films were compared using 25Cr20Ni alloy tubes with an inner diameter of 10 mm and a length of 850 mm in a bench scale naphtha steam pyrolysis unit.The oxidation kinetics followed a parabolic law in an air-H2O atmosphere and a logarithm law in a H2-H2O atmosphere in the steady-state stage.The oxide film grown in the air-H2O atmosphere had cracks where the elements Fe and Ni were enriched and the un-cracked area was covered with octahedral-shaped MnCr2O4 spinels and Cr1.3Fe0.7O3 oxide clusters,while the oxide film grown in the H2-H2O atmosphere was intact and completely covered with dense standing blade MnCr2O4 spinels.In the pyrolysis tests,the anti-coking performance and resistance to carburization of the oxide film grown in the H2-H2O atmosphere were far better than that in the air-H2O atmosphere.The mass of coke formed in the oxide film grown in the H2-H2O atmosphere was less than 10% of that in the air-H2O atmosphere.The Cr1.3Fe0.7O3 oxide clusters converted into Cr23C6 carbides and the cracks were filled with carbon in the oxide film grown in the air-H2O atmosphere after repeated coking and decoking tests,while the dense standing blade MnCr2O4 spinels remained unchanged in the oxide film grown in the H2-H2O atmosphere.The ethylene,propylene and butadiene yields in the pyrolysis tests were almost the same for the two oxide films. 展开更多
关键词 25cr20Ni alloy air-H2O H2-H2O oxide film ANTI-COKING resistance to carburization
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Fe:SmCo(Cr)薄膜的结构、磁性能与磁光克尔效应
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作者 汪文文 方庆清 +1 位作者 王丹丹 杨景景 《磁性材料及器件》 CAS 2015年第6期16-20,28,共6页
利用脉冲激光沉积工艺,分别在单晶Si(100)衬底和玻璃(Si O2)衬底上制备Fe:Sm Co/Cu(Cr)薄膜,研究了Fe掺杂对Sm Co薄膜结构、磁性能与磁光效应的影响。实验发现,衬底对Fe掺杂Sm Co薄膜性能有很大影响,Si衬底薄膜的矫顽力和饱和磁化强度... 利用脉冲激光沉积工艺,分别在单晶Si(100)衬底和玻璃(Si O2)衬底上制备Fe:Sm Co/Cu(Cr)薄膜,研究了Fe掺杂对Sm Co薄膜结构、磁性能与磁光效应的影响。实验发现,衬底对Fe掺杂Sm Co薄膜性能有很大影响,Si衬底薄膜的矫顽力和饱和磁化强度均优于玻璃衬底样品;同时退火温度也会影响Fe掺杂Sm Co薄膜形貌及磁性能,高温退火后,Sm Co衍射峰得到了增强,尤其是Sm Co5的(001)、(002)和(003)衍射峰最为明显,这是由于高温退火后Cu(111)衍射峰增强的缘故。同时发现,退火后的Si O2衬底与Si衬底样品的磁性和磁光效应均得到增强,但Si O2衬底的矫顽力Hc变化更明显,这是因为较高的表面应力会导致样品的矫顽力增强。因此可以通过调节Fe含量来控制样品的磁光性能,这就为优化Sm Co薄膜作为磁光存储介质的性能指出了一个研究方向。 展开更多
关键词 smco薄膜 FE掺杂 结构 磁性能 磁光效应
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Oxidation Resistance of Fe-13Cr Alloy with Micro-Laminated (ZrO_2-Y_2O_3)/(Al_2O_3-Y_2O_3) Films 被引量:1
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作者 姚明明 何业东 +1 位作者 王德仁 高唯 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 2005年第5期559-563,共5页
The micro-laminated (ZrO2-Y2O3)/(Al2O3-Y2O3) composite films were prepared on the surface of Fe-13Cr alloy by an electrochemical process and a sintering process alternately. High-resolution field emission scanning... The micro-laminated (ZrO2-Y2O3)/(Al2O3-Y2O3) composite films were prepared on the surface of Fe-13Cr alloy by an electrochemical process and a sintering process alternately. High-resolution field emission scanning electron microscopy (FE-SEM) was used to characterize the laminated films, indicating that the micro-laminated (ZrO2-Y2O3)] (Al2O3-Y2O3) films have nano-structures. SEM, EDS and mass gain measurement were adopted to study the oxidation resistance of films on Fe-13Cr alloy. It is proved that such micro-laminated films are more effective than ZrO2-Y2O3 or Al2O3-Y2O3 films to resist the oxidation of the alloy, and the oxidation resistance is increased with increasing layers in micro-laminated films. These beneficial effects can be contributed to the mechanism, by which such micro-laminated (ZrOE- YEO3)/(Al2O3-Y2O3) composite film combines all the beneficial effects and overcomes all the disadvantages of both ZrOE- Y2O3 film and Al2O3-Y2O3 film during oxidation of alloy. 展开更多
关键词 micro-laminated film electrochemical deposition oxidation Fe- 13cr alloy rare earths
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Facile Synthesis of Nanocrystalline Cr_2O_3 Thin Film 被引量:1
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作者 杨明 《Journal of Wuhan University of Technology(Materials Science)》 SCIE EI CAS 2011年第6期1032-1035,共4页
A novel and facile synthesis route for the manufacture of transparent and uniform self-assembled nanocrystalline Cr2O3 (nc-Cr2O3) thin films with different morphology was reported, utilizing chromium nitrate as the ... A novel and facile synthesis route for the manufacture of transparent and uniform self-assembled nanocrystalline Cr2O3 (nc-Cr2O3) thin films with different morphology was reported, utilizing chromium nitrate as the inorganic source and triblock copolymer F127 as the morphology-directing agent by the evaporation-induced assembly (EIA) method. X-ray powder diffraction (XRD), thermogravimetry-differential scanning calorimetry (TG-DSC), N2-sorption, scanning electron microscopy (SEM) and transmission electron microscopy (TEM) were used to characterize the as-prepared nc-Cr2O3 thin films. The Cr2O3 thin film with different morphology was obtained by changing the relative humidity. The possible formation mechanism of the nc-Cr2O3 thin films with different morphologies was discussed. 展开更多
关键词 microstrucmre cr2O3 thin film
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SmCo(Al,Si)/Cr硬磁薄膜的结构与性能
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作者 王翔 李佐宜 +1 位作者 林更琪 蔡长波 《华中理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第2期22-24,共3页
在优化后的磁控溅射和退火条件下 ,制备SmCo(Al,Si) /Cr硬盘磁记录介质及硬磁薄膜 .实验结果表明 ,Sm摩尔分数为 31.6 % ,Cr缓冲层为 6 6nm ,Sm(Co ,Al,Si) 5磁性层为 30nm时 ,制得的Sm(Co ,Al,Si) 5/Cr薄膜的矫顽力Hc 为 187.8kA/m ,... 在优化后的磁控溅射和退火条件下 ,制备SmCo(Al,Si) /Cr硬盘磁记录介质及硬磁薄膜 .实验结果表明 ,Sm摩尔分数为 31.6 % ,Cr缓冲层为 6 6nm ,Sm(Co ,Al,Si) 5磁性层为 30nm时 ,制得的Sm(Co ,Al,Si) 5/Cr薄膜的矫顽力Hc 为 187.8kA/m ,剩磁比S =Mr/Ms≈ 0 .94;在 5 0 0℃保温 2 5min退火后 ,矫顽力Hc 达10 42 .5kA/m ,剩磁比S≈ 0 .92 。 展开更多
关键词 硬磁薄膜 矫顽力 磁控溅射 smco(AL SI)/cr 结构 缓冲层 磁记录畴体积 磁性层 剩磁比
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