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SmO_x/Rh(100)模型表面的制备与性质 被引量:1
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作者 马运生 朱俊发 +4 位作者 庄叔贤 姜志全 周维平 翟润生 包信和 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期415-417,共3页
应用Auger电子能谱(AES),X射线光电子能谱(XPS)和程序升温热脱附谱(TDS)研究了SmOx/Rh(100)模型表面的制备及CO在该表面的吸附.Sm和氧的强亲合作用引起了Sm在表面的强烈偏析.氧化表面的高温热处理,导致 SmOx在 Rh(100)表面的... 应用Auger电子能谱(AES),X射线光电子能谱(XPS)和程序升温热脱附谱(TDS)研究了SmOx/Rh(100)模型表面的制备及CO在该表面的吸附.Sm和氧的强亲合作用引起了Sm在表面的强烈偏析.氧化表面的高温热处理,导致 SmOx在 Rh(100)表面的进一步聚集.与 120K吸附在清洁 Rh(100)表面的CO的热脱附谱相比较,吸附在 SmOx/Rh(100)表面的 CO的热脱附谱中在 176,331和 600 K出现了新的脱附峰.其中位于 176 K的脱附峰可归属于吸附在 SmOx岛上的 CO的脱附,而位于 331,600 K的脱附峰的出现与表面Sm原子的氧化程度有关,可分别归属为吸附在富氧和贫氧SmOx岛周边界面Rh原子上的CO的脱附. 展开更多
关键词 smox/Rh(100)模型表面 制备 Rh(100)表面 smox CO吸附 AES LEED XPS TDS 催化剂 吸附态 吸附键能
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Preparation and properties of the SmO_x/Rh(100) model surface
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作者 MA Yunsheng ZHU Junfa +4 位作者 ZHUANG Shuxian JIANG Zhiquan ZHOU Weiping ZHAI Runsheng BAO Xinhe 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 2002年第14期1184-1186,共3页
The preparation of SmOx/Rh(100) and CO adsorption on this model surface have been investigated with Auger electron spectroscopy (AES), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and temperature programmed desorption spect... The preparation of SmOx/Rh(100) and CO adsorption on this model surface have been investigated with Auger electron spectroscopy (AES), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) and temperature programmed desorption spectroscopy (TDS). The oxygen adsorption on the SmRh alloy surface leads to the aggregation of Sm on the surface. The thermal treatment of this oxidized surface induces the further agglomeration of SmOx on the Rh(100) surface. Compared with CO TDS on the clean Rh(100) surface, three additional CO desorption peaks can be observed at 176,331 and 600 K on the SmOx/Rh(100) surface. The CO desorption peak at 176 K may originate from CO adsorbed on SmOx islands, while the appearance of the CO adsorption peaks at 331 and 600 K, depending on the oxidation state of Sm, is attributed to CO species located at the interface of SmOx/Rh(100). 展开更多
关键词 Rh(100) SURFACE smox film CO adsorption AES TDS XPS.
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