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A Study of the Structural, Optical and Electrical Properties of SnS Thin Films Modified by Plasma 被引量:3
1
作者 Aar6n Gomez Horacio Martinez +3 位作者 Manuela Calixto-Rodriguez David Avellaneda Pedro Guillermo Reyes Osvaldo Flores 《材料科学与工程(中英文B版)》 2013年第6期352-358,共7页
关键词 sns薄膜 晶体结构 等离子体改性 电学性能 光学 扫描电子显微镜 等离子体处理 沉积技术
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Effect of Annealing Temperatures on the Structural and Electrical Properties of Laser Induced Plasma for TiO2x-1Bix Thin Films
2
作者 Sabah N. Mazhir Ghuson H. Mohamed +1 位作者 Kadhim A. Aadem Maysoon D. Radhi 《Journal of Physical Science and Application》 2016年第1期36-43,共8页
In this study, Bismuth doped Titanium dioxide thin films were deposited on glass substrates by a pulse laser deposition using laser. The effect of annealing temperature on the structural and electrical properties was ... In this study, Bismuth doped Titanium dioxide thin films were deposited on glass substrates by a pulse laser deposition using laser. The effect of annealing temperature on the structural and electrical properties was investigated. X-ray diffraction pattern for pure and doped titanium dioxide films with different doping different ratio with Bi show that these films have amorphous structure oanvert to polycrystalline structure with annealing and doping and have a good identically with standard peaks for Anatase and Rutile phases. The orientation was at specific direction for Rutile. The crystalline of films increases by the increase of doping ratio. The crystalline increased with annealing temperature. Annealed films at different annealing temperatures have been studied. The results show that these films have two activation energies and by increasing the doping ratio, the activation energies and the conductivity increase. Both the annealing and composition effects on Hall constant, density of electron carders and Hall mobility are studied. Hall Effect measurements show that all films have n- type charge conductivity and the concentration increases while the mobility decreases with doping and annealing. 展开更多
关键词 Electrical properties structural properties TiO2 thin films pulse laser deposition technique.
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Structural and optical studies on PVA capped SnS films grown by chemical bath deposition for solar cell application
3
作者 P Mallika Bramaramba Devi G.Phaneendra Reddy K.T.Ramakrishna Reddy 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2019年第5期17-26,共10页
Tin monosulphide(SnS) thin films capped by PVA have been successfully deposited on glass substrates for cost effective photovoltaic device applications by a simple and low-cost wet chemical process, chemical bath depo... Tin monosulphide(SnS) thin films capped by PVA have been successfully deposited on glass substrates for cost effective photovoltaic device applications by a simple and low-cost wet chemical process, chemical bath deposition(CBD) at different bath temperatures varying in the range, 50–80 °C. X–ray diffraction analysis showed that the deposited films were polycrystalline in nature, showing orthorhombic structure with an intense peak corresponding to(040) plane of SnS. These observations were further confirmed by Raman analysis. FTIR spectra showed the absorption bands which corresponds to PVA in addition to SnS.The scanning electron microscopy and atomic force microscopy studies revealed that the deposited SnS films were uniform and nanostructured with an average particle size of 4.9 to 7.6 nm. The optical investigations showed that the layers were highly absorbing with the optical absorption coefficient ~10~5 cm^(-1). A decrease in optical band gap from 1.92 to 1.55 eV with an increase of bath temperature was observed. The observed band gap values were higher than the bulk value of 1.3 eV, which might be due to quantum confinement effect. The optical band gap values were also used to calculate particle size and the results are discussed. 展开更多
关键词 chemical BATH deposition polyvinyl ALCOHOL capping agent sns thin filmS STRUCTURAL properties optical properties
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阴极恒电位法电沉积SnS薄膜的性能研究 被引量:5
4
作者 程树英 陈岩清 +2 位作者 钟南保 黄赐昌 陈国南 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期695-699,共5页
在溶液的pH=2.7,离子浓度比[Sn2+]/[S2O32-]=1/5的条件下,通过调节沉积电位在-0.60~1.10V(vsSCE),在ITO导电玻璃基片上电沉积SnS膜层。实验表明:沉积电位在-0.72^-0.75V(vs SCE)范围内时,制备出的SnS薄膜的Sn和S的化学配比非常接近1∶1... 在溶液的pH=2.7,离子浓度比[Sn2+]/[S2O32-]=1/5的条件下,通过调节沉积电位在-0.60~1.10V(vsSCE),在ITO导电玻璃基片上电沉积SnS膜层。实验表明:沉积电位在-0.72^-0.75V(vs SCE)范围内时,制备出的SnS薄膜的Sn和S的化学配比非常接近1∶1的理想值。用X射线衍射分析其物相结构,结果表明它是具有正交结构的SnS多晶薄膜。用扫描电镜观察该薄膜的表面形貌,发现该薄膜颗粒较细,均匀性较好。通过测量薄膜样品的透射光谱和反射光谱,计算得到其直接禁带宽度Eg=1.31eV,与SnS体材的带隙(1.3eV)非常接近。该薄膜的导电类型为p型,电阻率的数量级为10-3Ω.cm。 展开更多
关键词 恒电位电沉积 sns薄膜 沉积电位 光电性能
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快速退火对PLD法制备SnS薄膜结构和光学性质的影响 被引量:4
5
作者 刘磊 马明杰 +3 位作者 刘丹丹 郭慧尔 史成武 梁齐 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第7期811-820,共10页
利用脉冲激光沉积(PLD)法在玻璃基片上室温生长SnS薄膜,并在Ar气保护下分别在200,300,400,500,600℃对薄膜进行快速退火处理。利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱仪(Raman)、原子力显微镜(AFM)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)、紫外-可见-近... 利用脉冲激光沉积(PLD)法在玻璃基片上室温生长SnS薄膜,并在Ar气保护下分别在200,300,400,500,600℃对薄膜进行快速退火处理。利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱仪(Raman)、原子力显微镜(AFM)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)、紫外-可见-近红外分光光度计(UV-Vis-NIR)、Keithley4200-SCS半导体参数分析仪研究了快速退火温度对SnS薄膜的晶体结构、表面形貌以及有关光学性质和电学性能的影响。所制备的SnS薄膜样品沿(111)晶面择优取向生长,退火温度为400℃时的薄膜结晶质量最好。薄膜均具有SnS特征拉曼峰。随着退火温度的升高,薄膜厚度逐渐减小,而平均颗粒尺寸逐渐增大。不同退火温度下的SnS薄膜在可见光范围内的吸收系数均为105cm-1量级,400℃时退火薄膜的直接带隙为1.92eV。随着退火温度从300℃升高到500℃,电阻率由1.85×104Ω·cm下降到14.97Ω·cm。 展开更多
关键词 sns薄膜 脉冲激光沉积 快速退火 光学性质
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脉冲激光沉积结合快速退火制备SnS薄膜及其表征 被引量:3
6
作者 马明杰 刘磊 +4 位作者 李学留 陈士荣 郭慧尔 余亮 梁齐 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第1期72-79,共8页
利用脉冲激光沉积法在玻璃衬底上生长、并经Ar保护下快速退火制备SnS薄膜。利用X射线衍射、拉曼光谱、X射线能量色散谱、原子力显微镜、紫外-可见-近红外分光光度计等表征手段,对不同条件(脉冲激光能量:90和140 rnJ;退火温度:100~400℃... 利用脉冲激光沉积法在玻璃衬底上生长、并经Ar保护下快速退火制备SnS薄膜。利用X射线衍射、拉曼光谱、X射线能量色散谱、原子力显微镜、紫外-可见-近红外分光光度计等表征手段,对不同条件(脉冲激光能量:90和140 rnJ;退火温度:100~400℃)下制备SnS薄膜的晶体结构、化学组分、表面形貌、光学特性等进行表征分析。结果表明:脉冲激光能量为140mJ、退火温度为300℃时所制备的SnS薄膜结晶质量良好、择优取向生长良好、成分接近理想配比(Sn:S=1:1.03)、光吸收系数为10~5 cm^(-1)量级。 展开更多
关键词 sns薄膜 脉冲激光沉积 快速退火 光学特性
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光电薄膜SnS的制备及其性能 被引量:2
7
作者 程树英 黄赐昌 +1 位作者 陈岩清 陈国南 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第6期1173-1177,共5页
在溶液的pH=2.7,离子浓度比Sn2+/S2O2-3=1/5和电流密度J=3.0mA/cm2的条件下,用阴极恒电流沉积法在ITO导电玻璃基片上制备出了Sn0.995S1.005膜层,并用扫描电镜观察了该薄膜的表面形貌,发现其颗粒较均匀,粒径大小在200~800nm之间.用X射... 在溶液的pH=2.7,离子浓度比Sn2+/S2O2-3=1/5和电流密度J=3.0mA/cm2的条件下,用阴极恒电流沉积法在ITO导电玻璃基片上制备出了Sn0.995S1.005膜层,并用扫描电镜观察了该薄膜的表面形貌,发现其颗粒较均匀,粒径大小在200~800nm之间.用X射线衍射分析了其物相结构,表明它是具有正交结构的SnS多晶薄膜.通过测量薄膜样品的透射光谱和反射光谱,计算得到其直接禁带宽度Eg=1.23eV.用四探针法测得其导电类型为p型,电阻率为7.5Ω·cm. 展开更多
关键词 电沉积 sns薄膜 光电性能
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SnS薄膜的制备技术及其性能的研究进展
8
作者 黄赐昌 程树英 +1 位作者 钟南保 陈岩清 《江西科学》 2005年第4期496-498,共3页
SnS是一种IV-VI族半导体材料,非常适合于作为太阳能电池的吸收层材料。目前已经研究开发了许多制备SnS薄膜的技术,并对其性能进行了研究,详细阐述了SnS薄膜的制备技术及其性能的研究进展。
关键词 sns薄膜 制备方法 性能
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沉积时间对Sn-Mg共掺ZnO薄膜光电性能的影响 被引量:3
9
作者 王玉新 崔潇文 +4 位作者 臧谷丹 赵帅 李真 王磊 丛彩馨 《光电子.激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第2期123-128,共6页
采用超声喷雾热解法在石英玻璃衬底上,在衬底温度为440℃,喷嘴到衬底距离为4 cm,掺杂原子(Zn∶Mg∶Sn)比例为97.6∶2∶0.4,载气流量为0.8 L/min的固定条件下,制备了不同薄膜沉积时间(5 min、7 min、9 min、11 min)的Sn-Mg共掺的ZnO薄膜... 采用超声喷雾热解法在石英玻璃衬底上,在衬底温度为440℃,喷嘴到衬底距离为4 cm,掺杂原子(Zn∶Mg∶Sn)比例为97.6∶2∶0.4,载气流量为0.8 L/min的固定条件下,制备了不同薄膜沉积时间(5 min、7 min、9 min、11 min)的Sn-Mg共掺的ZnO薄膜。并用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、光致发光谱(PL)、紫外可见分光光度计(UV-VIS)、薄膜测厚仪(SCG-10)和伏安特性曲线(I-V)对薄膜的结构、表面形貌、发光性能、透过率、膜厚和电学性能进行了一系列表征。当沉积时间为7 min时,XRD表明,薄膜的(101)峰强度最大,择优取向明显。SEM图显示薄膜表面致密光滑,颗粒均匀,尺寸最大且形貌最佳。PL谱在372 nm处的发射峰强度最大,峰形最尖锐,所有薄膜的透过率在可见光区域都超过了80%,表现出了很好的光透过性能。从薄膜的I-V特性曲线可计算出此时的电阻最小,导电性能最佳。 展开更多
关键词 超声喷雾热解法 Sn-Mg共掺 ZNO薄膜 沉积时间 光电特性
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退火温度对铝掺杂氧化锌薄膜晶体质量及光电性能的影响 被引量:10
10
作者 郭德双 陈子男 +6 位作者 王登魁 唐吉龙 方铉 房丹 林逢源 王新伟 魏志鹏 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第4期124-128,共5页
研究了退火温度对原子层沉积(ALD)生长的铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜光电性能的影响,结果发现:AZO薄膜在600℃退火后,X射线衍射峰的半峰全宽从未退火时的0.609°减小到0.454°,晶体质量得到提升;600℃退火后,薄膜的表面粗糙度从未退... 研究了退火温度对原子层沉积(ALD)生长的铝掺杂氧化锌(AZO)薄膜光电性能的影响,结果发现:AZO薄膜在600℃退火后,X射线衍射峰的半峰全宽从未退火时的0.609°减小到0.454°,晶体质量得到提升;600℃退火后,薄膜的表面粗糙度从未退火时的0.841 nm降低至0.738 nm;400℃退火后,薄膜的载流子浓度和迁移率均达到最大值,分别为1.9×10^(19) cm^(-3)和4.2 cm^2·V^(-1)·s^(-1),之后随着退火温度进一步升高,载流子浓度和迁移率降低;退火温度由300℃升高到600℃过程中薄膜的吸收边先蓝移后红移。 展开更多
关键词 材料 光学性能 电学性能 铝掺杂氧化锌薄膜 退火 原子层沉积技术
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高分子辅助沉积法(PAD)制备LaBaCo_2O_(5+δ)薄膜的研究 被引量:1
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作者 洪敦华 高敏 +2 位作者 潘泰松 张胤 林媛 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2014年第12期29-32,共4页
用高分子辅助沉积法在Si(001)基底上以SiO2为缓冲层成功地制备出LaBaCo2O5+δ(LBCO)薄膜。X射线衍射谱证明了LBCO/Si(001)薄膜是(111)择优取向的单相赝立方结构。从LBCO薄膜样品的SEM照片可以看出,LBCO薄膜的晶粒大小并不均匀... 用高分子辅助沉积法在Si(001)基底上以SiO2为缓冲层成功地制备出LaBaCo2O5+δ(LBCO)薄膜。X射线衍射谱证明了LBCO/Si(001)薄膜是(111)择优取向的单相赝立方结构。从LBCO薄膜样品的SEM照片可以看出,LBCO薄膜的晶粒大小并不均匀,其大的晶粒尺寸为1-2μm,小的晶粒尺寸为0.1-0.2μm;同时,可以明显观察到一些小的空隙,这些空隙有利于氧气的吸附及扩散。在LBCO薄膜的电阻(R)-温度(t)曲线测试中,电阻随温度的升高先急剧下降后缓慢下降,表明LBCO薄膜具有典型的半导体材料性质。LBCO薄膜在纯氧和空气中电阻的最低值分别为36Ω和382Ω,前者为后者的1/10,说明LBCO薄膜对氧气具有敏感性。 展开更多
关键词 钙钛矿 薄膜 高分子辅助沉积法 X射线衍射 表面形貌 电输运性质
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LaBaCo_2O_(5+δ)薄膜的电输运及氧敏性质研究
12
作者 洪敦华 高敏 +2 位作者 黄振龙 张胤 林媛 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2014年第12期33-36,共4页
采用高分子辅助沉积法制备了Si基La BaCo2O5+δ(LBCO)薄膜,主要研究了Si基LBCO薄膜的电输运性质及氧敏性质。通过对LBCO薄膜的电输运性质研究,发现LaBaCo2O5+δ薄膜的激活能Ea为0.32 e V,远小于同类体材料PrBaCo2O5+δ激活能(Ea=0.67 e ... 采用高分子辅助沉积法制备了Si基La BaCo2O5+δ(LBCO)薄膜,主要研究了Si基LBCO薄膜的电输运性质及氧敏性质。通过对LBCO薄膜的电输运性质研究,发现LaBaCo2O5+δ薄膜的激活能Ea为0.32 e V,远小于同类体材料PrBaCo2O5+δ激活能(Ea=0.67 e V),说明将材料薄膜化以后,有利于降低材料的激活能;此外,LBCO薄膜阻-温曲线满足小极化子热激化跳跃理论,证明该材料的导电机制是小极化子电子电导。氧敏性质研究发现,在较低的温度356℃下,当测试气体从氢气切换到氧气时,薄膜电阻从3×105Ω迅速下降到4.5×102Ω(ΔR≈3.0×105Ω),响应时间为4.2 s,说明在较低温度下,LBCO薄膜对氧气具有较高的敏感度。同时,发现LBCO薄膜材料导电能力并不与氧气的浓度成正比。 展开更多
关键词 薄膜 高分子辅助沉积法 LBCO 小极化子 电输运性质 氧敏性质
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室温脉冲激光沉积法合成Bi_(3.95)Er_(0.05)Ti_3O_(12)薄膜及其介电性能研究 被引量:6
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作者 梁立容 魏爱香 莫忠 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第9期212-216,共5页
采用脉冲激光沉积法,室温条件下在透明导电玻璃衬底上制备了Bi_(3.95)Er_(0.05)Ti_3O_(12)(BErT)薄膜。研究结果表明,低沉积氧气压下制备的BErT薄膜表面致密,平整无裂缝,且呈非晶结构;当沉积氧气压为3Pa时,BErT薄膜厚度约为180nm,表现... 采用脉冲激光沉积法,室温条件下在透明导电玻璃衬底上制备了Bi_(3.95)Er_(0.05)Ti_3O_(12)(BErT)薄膜。研究结果表明,低沉积氧气压下制备的BErT薄膜表面致密,平整无裂缝,且呈非晶结构;当沉积氧气压为3Pa时,BErT薄膜厚度约为180nm,表现出优秀的介电性能,即当测试频率为1kHz时,室温介电常数为52,介电损耗为0.025。同时,BErT薄膜的介电性能随频率、电压和温度的变化比较稳定,在可见光区间具有较高的透过率。 展开更多
关键词 激光技术 薄膜 脉冲激光沉积 室温 介电性能
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