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SiC功率器件制造中的湿法工艺设备研究
1
作者
宋文超
贾祥晨
+2 位作者
李家明
王洪建
刘广杰
《电子工业专用设备》
2022年第4期48-52,共5页
简述了SiC功率器件制造工艺流程,对常用的抛光片清洗、RCA清洗、SPM湿法去胶、有机去胶、SiO2腐蚀、金属腐蚀和金属剥离等湿法设备进行了应用研究,对于提升SiC功率器件成品率起着重要的作用。
关键词
SiC功率器件
抛光片清洗
有机去胶
金属湿法腐蚀
金属剥离
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职称材料
题名
SiC功率器件制造中的湿法工艺设备研究
1
作者
宋文超
贾祥晨
李家明
王洪建
刘广杰
机构
中国电子科技集团公司第四十五研究所
出处
《电子工业专用设备》
2022年第4期48-52,共5页
文摘
简述了SiC功率器件制造工艺流程,对常用的抛光片清洗、RCA清洗、SPM湿法去胶、有机去胶、SiO2腐蚀、金属腐蚀和金属剥离等湿法设备进行了应用研究,对于提升SiC功率器件成品率起着重要的作用。
关键词
SiC功率器件
抛光片清洗
有机去胶
金属湿法腐蚀
金属剥离
Keywords
SiC power devices
Lapped wafer cleaning
solvent pr strip
Metal etch,Metal lift off
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
发文年
被引量
操作
1
SiC功率器件制造中的湿法工艺设备研究
宋文超
贾祥晨
李家明
王洪建
刘广杰
《电子工业专用设备》
2022
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