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室温电化学法制备白钨矿SrWO_4晶态膜的生长特性研究(英文)
被引量:
1
1
作者
安红娜
杨祖念
+5 位作者
肖定全
余萍
刘志强
陈连平
黄昕
王辉
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第5期1056-1061,共6页
采用恒电流电化学技术直接在金属钨片上制备了具有白钨矿结构的钨酸锶(SrWO4)晶态薄膜,通过SEM和EDX测试分析方法,研究了薄膜在不同的生长阶段(包括薄膜从最初成核并开始生长,到薄膜布满整个基片,即薄膜生长结束)的生长特性。研究结果表...
采用恒电流电化学技术直接在金属钨片上制备了具有白钨矿结构的钨酸锶(SrWO4)晶态薄膜,通过SEM和EDX测试分析方法,研究了薄膜在不同的生长阶段(包括薄膜从最初成核并开始生长,到薄膜布满整个基片,即薄膜生长结束)的生长特性。研究结果表明,SrWO4晶核和晶粒优先选择在基片的缺陷处堆砌生长,在薄膜生长的初期,一定数量的WO4负离子配位多面体沉积在基片上并形成具有白钨矿结构的骨架,继而Sr2 +对该骨架进行填充,由此形成晶核和晶粒;随着沉积时间的延长,晶粒密度不断增大,晶核和晶粒也不断长大,并沿着c轴生长的方向开始分叉,晶粒越大分叉越多;最终,当SrWO4薄膜生长过程结束时,团簇生长的花菜状晶粒布满整个基片,形成致密的薄膜。该研究结果对晶态薄膜电化学制备生长机制的认识、以及采用电化学方法制备晶态薄膜的工艺调控都具有重要意义。
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关键词
电化学技术
srwo4
薄膜
负离子配位多面体
晶态薄膜生长过程
下载PDF
职称材料
题名
室温电化学法制备白钨矿SrWO_4晶态膜的生长特性研究(英文)
被引量:
1
1
作者
安红娜
杨祖念
肖定全
余萍
刘志强
陈连平
黄昕
王辉
机构
四川大学材料科学与工程学院材料科学系
四川大学分析测试中心
出处
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007年第5期1056-1061,共6页
基金
This work supported by National Natural Science Foundation of China (No. 50410179)
文摘
采用恒电流电化学技术直接在金属钨片上制备了具有白钨矿结构的钨酸锶(SrWO4)晶态薄膜,通过SEM和EDX测试分析方法,研究了薄膜在不同的生长阶段(包括薄膜从最初成核并开始生长,到薄膜布满整个基片,即薄膜生长结束)的生长特性。研究结果表明,SrWO4晶核和晶粒优先选择在基片的缺陷处堆砌生长,在薄膜生长的初期,一定数量的WO4负离子配位多面体沉积在基片上并形成具有白钨矿结构的骨架,继而Sr2 +对该骨架进行填充,由此形成晶核和晶粒;随着沉积时间的延长,晶粒密度不断增大,晶核和晶粒也不断长大,并沿着c轴生长的方向开始分叉,晶粒越大分叉越多;最终,当SrWO4薄膜生长过程结束时,团簇生长的花菜状晶粒布满整个基片,形成致密的薄膜。该研究结果对晶态薄膜电化学制备生长机制的认识、以及采用电化学方法制备晶态薄膜的工艺调控都具有重要意义。
关键词
电化学技术
srwo4
薄膜
负离子配位多面体
晶态薄膜生长过程
Keywords
electrochemical technique
srwo4 film
anion coordination polyhedrons
crystalline
film
s growth process
分类号
O484 [理学—固体物理]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
室温电化学法制备白钨矿SrWO_4晶态膜的生长特性研究(英文)
安红娜
杨祖念
肖定全
余萍
刘志强
陈连平
黄昕
王辉
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2007
1
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