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微米、亚微米及深亚微米CMOS工艺技术研究
被引量:
1
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作者
何玉表
张文肃
《微处理机》
1997年第1期1-7,共7页
对微米、亚微米及深亚微米CMOS工艺技术,包括原始硅材料、设计规则、典型器件结构、典型工艺流程和关键工艺技术等,作出全面地概括地分析与研究。
关键词
亚微米
深亚微米
微米
cmos
集成电路
下载PDF
职称材料
题名
微米、亚微米及深亚微米CMOS工艺技术研究
被引量:
1
1
作者
何玉表
张文肃
机构
电子工业部东北微电子研究所
出处
《微处理机》
1997年第1期1-7,共7页
文摘
对微米、亚微米及深亚微米CMOS工艺技术,包括原始硅材料、设计规则、典型器件结构、典型工艺流程和关键工艺技术等,作出全面地概括地分析与研究。
关键词
亚微米
深亚微米
微米
cmos
集成电路
Keywords
submicron deep-submicron cmos process flow design rule
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
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1
微米、亚微米及深亚微米CMOS工艺技术研究
何玉表
张文肃
《微处理机》
1997
1
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