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溅射功率对直流磁控溅射法沉积TGZO薄膜性能的影响
被引量:
3
1
作者
史晓菲
郭美霞
+1 位作者
刘汉法
王新峰
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期972-976,共5页
利用直流磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上制备出了高质量的钛镓共掺杂氧化锌(TGZO)透明导电薄膜。研究了溅射功率对TGZO薄膜结构、形貌和光电性能的影响。研究结果表明:溅射功率对TGZO薄膜的结构和电阻率有重要影响。X射线衍射分析表明,...
利用直流磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上制备出了高质量的钛镓共掺杂氧化锌(TGZO)透明导电薄膜。研究了溅射功率对TGZO薄膜结构、形貌和光电性能的影响。研究结果表明:溅射功率对TGZO薄膜的结构和电阻率有重要影响。X射线衍射分析表明,TGZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。在溅射功率为120W时,实验获得的TGZO薄膜的方块电阻为2.71Ω/□,此时电阻率具有最小值2.18×10-4Ω·cm。实验制备的TGZO薄膜在可见光区范围内平均透过率达到了90%以上。
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关键词
tgzo薄膜
透明导电
薄膜
溅射功率
磁控溅射
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职称材料
薄膜厚度对TGZO透明导电薄膜光电性能的影响
被引量:
6
2
作者
刘汉法
张化福
王振环
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第2期183-186,共4页
利用直流磁控溅射法,在室温水冷玻璃衬底上成功制备出了可见光透过率高、电阻率低的钛镓共掺杂氧化锌(TG-ZO)透明导电薄膜。X射线衍射和扫描电子显微镜研究结果表明,TGZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。研究了厚...
利用直流磁控溅射法,在室温水冷玻璃衬底上成功制备出了可见光透过率高、电阻率低的钛镓共掺杂氧化锌(TG-ZO)透明导电薄膜。X射线衍射和扫描电子显微镜研究结果表明,TGZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。研究了厚度对TGZO透明导电薄膜电学和光学性能的影响,结果表明厚度对薄膜的光电性能有重要影响。当薄膜厚度为628 nm时,薄膜具有最小电阻率2.01×10-4Ω.cm。所制备薄膜在波长为400~760 nm的可见光中平均透过率都超过了91%,TGZO薄膜可以用作薄膜太阳能电池和液晶显示器的透明电极。
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关键词
tgzo薄膜
透明导电
薄膜
磁控溅射
厚度
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职称材料
溅射压强对钛镓共掺杂氧化锌透明导电薄膜性能的影响
被引量:
3
3
作者
史晓菲
郭美霞
+1 位作者
刘汉法
高金霞
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第1期54-58,共5页
利用直流磁控溅射工艺在玻璃衬底上制备出了透过率高、电阻率较低的钛镓共掺杂氧化锌透明导电薄膜(TGZO)。研究了溅射压强对TGZO薄膜结构、形貌和光电性能的影响。研究结果表明,溅射压强对TGZO薄膜的结构和电阻率有重要影响。X射线衍射(...
利用直流磁控溅射工艺在玻璃衬底上制备出了透过率高、电阻率较低的钛镓共掺杂氧化锌透明导电薄膜(TGZO)。研究了溅射压强对TGZO薄膜结构、形貌和光电性能的影响。研究结果表明,溅射压强对TGZO薄膜的结构和电阻率有重要影响。X射线衍射(XRD)表明,TGZO薄膜为具有c轴择优取向的六角纤锌矿结构多晶薄膜。薄膜的电阻率具有随着溅射压强的增大先减小,后增大的规律,在溅射压强为11Pa时,实验获得的TGZO薄膜晶格畸变最小,电阻率具有最小值1.48×10-4Ω.cm,透过率具有最大值94.3%。实验制备的TGZO薄膜附着性能良好,在400~760nm波长范围内的平均透过率都高于90%。
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关键词
tgzo薄膜
透明导电
薄膜
溅射压强
磁控溅射
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职称材料
Ti含量对溶胶-凝胶法制备Ti、Ga共掺ZnO薄膜性能的影响
4
作者
王瑞
孙宜华
+3 位作者
黄龙
敖来远
方亮
骆秋子
《人工晶体学报》
EI
CAS
北大核心
2020年第10期1800-1806,1813,共8页
采用溶胶-凝胶旋涂法在玻璃衬底上沉积纳米结构Ti、Ga共掺ZnO薄膜(TGZO,Ga掺杂量为1.0%(原子分数,下同)),用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计(UV-Vis)、四探针测试仪、霍尔效应测试仪研究了Ti含量对TGZO薄膜的物相组...
采用溶胶-凝胶旋涂法在玻璃衬底上沉积纳米结构Ti、Ga共掺ZnO薄膜(TGZO,Ga掺杂量为1.0%(原子分数,下同)),用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计(UV-Vis)、四探针测试仪、霍尔效应测试仪研究了Ti含量对TGZO薄膜的物相组成、表面形貌、电学和光学性能的影响。结果表明:所有TGZO薄膜均表现出六方纤锌矿的多晶结构,并具有(002)择优取向生长,在380~780 nm波长范围内具有良好的透射率(>86%);随着Ti含量的增加,TGZO薄膜的晶粒尺寸和可见光平均透射率均先增加后减小,而光学带隙和电阻率先减小后增加;Ti掺杂量为1.0%时,具有最高的可见光透射率92.82%,最窄的光学带隙3.249 eV,以及最低电阻率2.544×10-3Ω·cm。
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关键词
tgzo薄膜
溶胶凝胶法
光电性能
c轴择优取向
高透过率
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职称材料
题名
溅射功率对直流磁控溅射法沉积TGZO薄膜性能的影响
被引量:
3
1
作者
史晓菲
郭美霞
刘汉法
王新峰
机构
山东理工大学理学院
出处
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期972-976,共5页
基金
山东省自然科学基金(No.ZR2009GL015)
文摘
利用直流磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上制备出了高质量的钛镓共掺杂氧化锌(TGZO)透明导电薄膜。研究了溅射功率对TGZO薄膜结构、形貌和光电性能的影响。研究结果表明:溅射功率对TGZO薄膜的结构和电阻率有重要影响。X射线衍射分析表明,TGZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。在溅射功率为120W时,实验获得的TGZO薄膜的方块电阻为2.71Ω/□,此时电阻率具有最小值2.18×10-4Ω·cm。实验制备的TGZO薄膜在可见光区范围内平均透过率达到了90%以上。
关键词
tgzo薄膜
透明导电
薄膜
溅射功率
磁控溅射
Keywords
Ti-Ga co-doped zinc oxide films
transparent conducting films
sputtering power
magnetron sputtering
分类号
TN304 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
薄膜厚度对TGZO透明导电薄膜光电性能的影响
被引量:
6
2
作者
刘汉法
张化福
王振环
机构
山东理工大学理学院
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第2期183-186,共4页
基金
山东省自然科学基金(No.ZR2009GL015)
文摘
利用直流磁控溅射法,在室温水冷玻璃衬底上成功制备出了可见光透过率高、电阻率低的钛镓共掺杂氧化锌(TG-ZO)透明导电薄膜。X射线衍射和扫描电子显微镜研究结果表明,TGZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。研究了厚度对TGZO透明导电薄膜电学和光学性能的影响,结果表明厚度对薄膜的光电性能有重要影响。当薄膜厚度为628 nm时,薄膜具有最小电阻率2.01×10-4Ω.cm。所制备薄膜在波长为400~760 nm的可见光中平均透过率都超过了91%,TGZO薄膜可以用作薄膜太阳能电池和液晶显示器的透明电极。
关键词
tgzo薄膜
透明导电
薄膜
磁控溅射
厚度
Keywords
Ti-Ga Co-doped zinc oxide films
Transparent conducting films
Magnetron sputtering
Thickness
分类号
TN304.2 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
溅射压强对钛镓共掺杂氧化锌透明导电薄膜性能的影响
被引量:
3
3
作者
史晓菲
郭美霞
刘汉法
高金霞
机构
山东理工大学理学院
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第1期54-58,共5页
基金
山东省自然科学基金(No.ZR2009GL015)
文摘
利用直流磁控溅射工艺在玻璃衬底上制备出了透过率高、电阻率较低的钛镓共掺杂氧化锌透明导电薄膜(TGZO)。研究了溅射压强对TGZO薄膜结构、形貌和光电性能的影响。研究结果表明,溅射压强对TGZO薄膜的结构和电阻率有重要影响。X射线衍射(XRD)表明,TGZO薄膜为具有c轴择优取向的六角纤锌矿结构多晶薄膜。薄膜的电阻率具有随着溅射压强的增大先减小,后增大的规律,在溅射压强为11Pa时,实验获得的TGZO薄膜晶格畸变最小,电阻率具有最小值1.48×10-4Ω.cm,透过率具有最大值94.3%。实验制备的TGZO薄膜附着性能良好,在400~760nm波长范围内的平均透过率都高于90%。
关键词
tgzo薄膜
透明导电
薄膜
溅射压强
磁控溅射
Keywords
Ti
Ga co-doped zinc oxide films
transparent conducting films
sputtering pressure
magnetron sputtering
分类号
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
Ti含量对溶胶-凝胶法制备Ti、Ga共掺ZnO薄膜性能的影响
4
作者
王瑞
孙宜华
黄龙
敖来远
方亮
骆秋子
机构
三峡大学材料与化工学院
出处
《人工晶体学报》
EI
CAS
北大核心
2020年第10期1800-1806,1813,共8页
基金
国家自然科学基金(61604087)
中国教育部(111项目D20015)。
文摘
采用溶胶-凝胶旋涂法在玻璃衬底上沉积纳米结构Ti、Ga共掺ZnO薄膜(TGZO,Ga掺杂量为1.0%(原子分数,下同)),用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、分光光度计(UV-Vis)、四探针测试仪、霍尔效应测试仪研究了Ti含量对TGZO薄膜的物相组成、表面形貌、电学和光学性能的影响。结果表明:所有TGZO薄膜均表现出六方纤锌矿的多晶结构,并具有(002)择优取向生长,在380~780 nm波长范围内具有良好的透射率(>86%);随着Ti含量的增加,TGZO薄膜的晶粒尺寸和可见光平均透射率均先增加后减小,而光学带隙和电阻率先减小后增加;Ti掺杂量为1.0%时,具有最高的可见光透射率92.82%,最窄的光学带隙3.249 eV,以及最低电阻率2.544×10-3Ω·cm。
关键词
tgzo薄膜
溶胶凝胶法
光电性能
c轴择优取向
高透过率
Keywords
tgzo
thin film
sol-gel method
photoelectric property
c-axis preferred orientation
high transmittance
分类号
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
溅射功率对直流磁控溅射法沉积TGZO薄膜性能的影响
史晓菲
郭美霞
刘汉法
王新峰
《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
3
下载PDF
职称材料
2
薄膜厚度对TGZO透明导电薄膜光电性能的影响
刘汉法
张化福
王振环
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
6
下载PDF
职称材料
3
溅射压强对钛镓共掺杂氧化锌透明导电薄膜性能的影响
史晓菲
郭美霞
刘汉法
高金霞
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2011
3
下载PDF
职称材料
4
Ti含量对溶胶-凝胶法制备Ti、Ga共掺ZnO薄膜性能的影响
王瑞
孙宜华
黄龙
敖来远
方亮
骆秋子
《人工晶体学报》
EI
CAS
北大核心
2020
0
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职称材料
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