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一种中性条件下脱除THP保护基的简易方法 被引量：1
1
作者 李朝军 李纪生 陈德恒 《化学通报》 CAS CSCD 北大核心 1989年第5期39-40,共2页
四氢吡喃醚(THP)是一种常用的保护基,在有机合成中被广泛地用于羟基的保护。它的脱除通常采用强酸(如三氟乙酸等)条件下进行。近来,曾报道了一些在弱酸性条件下脱除THP保护基的方法。我们利用Me_3SiCl/NaI在中性条件下有效地脱除了THP... 四氢吡喃醚(THP)是一种常用的保护基,在有机合成中被广泛地用于羟基的保护。它的脱除通常采用强酸(如三氟乙酸等)条件下进行。近来,曾报道了一些在弱酸性条件下脱除THP保护基的方法。我们利用Me_3SiCl/NaI在中性条件下有效地脱除了THP保护基,见式1。 展开更多
关键词 thp保护基 脱除法 有机合成
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